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VishayIntertechnology推出采用热增强型2mmX2mmPowerPAKSC.70封装的单路12V器件SiA447DJ,以及采用3mmX1.8mmPowerPAKChipFET封装、高度0.8mm的单片30V器件-Si5429DU,扩充其TrenchFETGenIII系列P沟道功率MOSFET。两款MOSFET具有小占位的特点,在4.5V下具有相应外形尺寸产品中较低的导通电阻。 相似文献
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SiC floating junction Schottky barrier diodes were simulated with software MEDICI 4.0 and their device structures were optimized based on forward and reverse electrical characteristics. Compared with the conventional power Schottky barrier diode, the device structure is featured by a highly doped drift region and embedded floating junction region, which can ensure high breakdown voltage while keeping lower specific on-state resistance, solved the contradiction between forward voltage drop and breakdown voltage. The simulation results show that with opti- mized structure parameter, the breakdown voltage can reach 4 kV and the specific on-resistance is 8.3 mΩ·cm2. 相似文献
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FDZ3N513ZT结合了一个30V集成式N沟道MOSFET和一个肖特基二极管,具有极低的输入电容(典型值45pF)和总体栅极电荷(1nC),占位面积仅为1mm×1mm。FDZ3N513ZT是升压转换器中的主要元件,用以驱动串联白光LED,为智能电话的显示屏(以及按键,如果有键盘)提供照明。该解决方案对各种动态特性做出仔细精确的优化,实现很低的开关损耗,从而使手机应用拥有相当高的转换效率和更长的电池寿命。 相似文献
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Stefan Steinhoff IXYS Berlin GmbH 《电力电子》2005,3(6):22-25
在200W连续导通模式功率因数校正(PFC)系统中,新一代600V砷化镓(GaAs)肖特基二极管与硅和碳化硅(SiC)二级管比较,砷化镓、碳化硅在PFC系统中的损耗减少高达25%。由于砷化镓有较低的结电容,砷化镓相对碳化硅高的通态损耗被较低的MOSFET损耗弥补了。和碳化硅技术相比,砷化镓有成本和可靠性优势。对于高频和高密度应用来说,新一代的砷化镓二级管是很有前景的。 相似文献