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提出了一种低氟溶液制备REBa2Cu3O7-x(REBCO)超导薄膜的方法。以醋酸盐为原料,二乙烯三胺、丙烯酸、三氟乙酸为反应物,甲醇为溶剂,制备了含有无氟RE盐(RE=Y、Yb、Nd),无氟Cu盐和含氟Ba盐的低氟REBCO前驱溶液。该溶液中氟含量只有传统的All-TFA溶液中氟含量的30%。利用该溶液制备REBCO薄膜,减少了热分解过程中HF气体的释放量,缩短了热分解周期。利用X射线小角掠射对薄膜热分解过程进行了分析,结果表明,低氟化学溶液法所得凝胶膜在热分解后,形成了RExBayFz化合物,避免了BaCO3相的形成,从而可获得高性能的REBCO薄膜。 相似文献
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离子束溅射制备CuInSe_2薄膜的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用离子束溅射沉积技术,设计三元复合靶,直接制备CuInSe_2(CIS)薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和分光光度计检测在不同衬底温度和退火温度条件下制备的CIS薄膜的微结构、表面形貌和光学性能.实验结果表明:使用离子束溅射沉积技术制备的CIS薄膜具有黄铜矿结构,在一定的条件下,适当温度的热处理可以制备结构紧密、颗粒均匀、致密性和结晶性良好的CIS薄膜,具有强烈的单一晶向生长现象. 相似文献
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在多功能离子束辅助沉积装置上采用交替溅射和冷却聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜。由XPS的结果可知,所得薄膜主要由CF2结构组成;FT-IR的结果表明,所得薄膜由C-F的最强吸收峰和聚四氟乙烯的特征吸收峰构成。所得薄膜的这些结构特征与聚四氟乙烯的结构是一致的。 相似文献
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采用离子束溅射沉积技术,对不同氮离子束能量情况下制备的氮化碳薄膜,进行了拉曼(Raman)和红外光谱(FT-IR)分析,并采用透射电子显微镜(TEM)分析其表面形貌,研究所制备薄膜的化学组成和键合结构。结果显示:随着氮离子束能量增大,氮碳薄膜的沉积速率减小,薄膜结构中sp2含量增大,薄膜有序度增加,另外薄膜结构的团簇尺寸大幅下降,团簇趋于均匀分布。 相似文献
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离子束溅射制备ZnO:Zn荧光薄膜 总被引:3,自引:0,他引:3
用离子束溅射法制备了用于场发射显示器(FED)的ZnO:Zn荧光薄膜,采极RBS、XRD、AFM、Hall和PL谱等手段表征了热处理前后的薄膜,RBS结果表明薄膜中存在一定数量的过量Zn,沉积态的薄膜中同时含有非晶相和晶相,其表面形貌表现多种结构。Hall检测发现,长高热处理温度能降低薄膜中的自由载流子浓度。说明过量Zn含量 的下降;当热处理温度超过400℃时,Hall迁移率迅速上升,表明薄膜结晶性能的改善,在ZnO:Zn薄膜的PL谱中检测到紫外/紫光、蓝/绿光两组荧光峰,一价氧空位(Vo)充当了蓝/绿光的发光中心,薄膜的光致发光强度受热处理温度的影响很大,可能的原因包括薄膜结构缺陷的修复,成分均匀化和过量Zn的蒸发,但这些效应在不同温度范围的作用程度各不相同。 相似文献
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离子束溅射制备CdS多晶薄膜及性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用离子束溅射的方法在玻璃衬底上制备CdS多晶薄膜,研究了沉积过程中基底温度(100~400℃)与薄膜厚度(35~200nm)对其微结构与光电性能的影响。结果表明,不同基底温度下制备的CdS薄膜均属于六方相多晶结构且具有(002)择优取向生长特征;随着基底温度的升高,(002)特征衍射峰强度增加,半高宽变小相应薄膜结晶度增大,有利于颗粒的生长;分析CdS薄膜的光谱图线可知,薄膜在可见光区平均透射率高于75%,光学带隙值随着基底温度升高而增大(2.33~2.42eV)且薄膜电阻高达109Ω;在基底温度为400℃条件下制备不同厚度的CdS薄膜,发现(50~100nm)较薄的CdS薄膜具有较为明显的六方相CdS多晶薄膜结构、较优光学性能和高电阻值,满足CIS基太阳电池中缓冲层材料的基本要求。 相似文献
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Since the discovery of high T_c super-conductor, much effort was made toits application. More and more evidencehas revealed that most promising fieldof high T_c superconductor first to havesuccess must be the microelectronics andcomputer. Superconductor films for mi-croelectronic application are preparedby PVD method, such as electron beamevaporation, pulsed laser evaporation andmagnetron sputtering. In this paper, thepreliminary results of ion beam sputteringdeposition of YBaCuO film are reported 相似文献
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应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术,先在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆(YSZ) 缓冲层薄膜,再在 YSZ/NiCr基底上在 750℃下制备具有平面织构和高临界电流密度的 YBa2Cu3O7-X(YBCO)薄膜、 YSZ和 YBCO薄膜都为 c-轴取向和平面织构的, YSZ(202)和 YBCO(103)的 X射线扫描衍射峰的全宽半峰值分别为 18'和 11'.YBCO薄膜的临界温度和临界电流密度分别为 90K(R=0)和 7.9x105A/cm2(77K,零磁场). 相似文献
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以 Y_2O_3-BaO-CuO 三元系制备的 YBa_2Cu_3O_(7-x)超导材料对水和水蒸汽很敏感。超导相 YBa_2Cu_3O_((?)-x)与水的作用随温度升高而迅速增强,通常的水解产物为 Ba(OH)_2、Y(OH)_3和 CuO。这种性质起因于晶体结构的不稳定性,因为在这类钙钛矿型的超点阵结构中存在很多氧空位。室温下,YBa_2Cu_3O_(7-x)相与水的作用较弱,而杂质相 Ba_4Y_2O_7和 BaCuO_7等可与水迅速产生反应并释放热量,从而导致 YBa_(?)Cu_3O_(7-x)脱氧、水解。 相似文献
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应用X-射线双晶衍射对磁控溅射法制备的YBa_2Cu_3O_(7-x)/SrTiO_3超导外延膜和衬底之间的位向关系以及晶体完整性的研究,表明衬底和外延在相应的衍射面之间存在与两者点阵常数差无关的位向差。这种位向差与测量方向(φ角)有关,在孪晶界方向出现极值。外延摇摆曲线的半峰宽值显示外延完整性较差,其值与测量方向有关,而不同方向上的点阵常数变化却不大。这可能分别与孪晶存在和孪晶有择优取向以及外延镶嵌块间夹角变化有关。 相似文献