建筑铝型材化学抛光新工艺的开发和生产实践

对传统的“三酸”化学抛光工艺存在的问题进行了详细分析。在此基础上，通过试验研究开发出了建筑铝型材无烟化学抛光新工艺。采用这一新工艺后，工作环境基本无酸雾，槽液分析简便，易于观察和监控槽中反应，抛光质量稳定，磷酸消耗量显著下降，取得了较好的经济效益和社会效益。     

铝型材三酸化学抛光技术研究

阐述了磷酸—硫酸—硝酸法化学抛光的机理，通过实验确定了槽液中各成分的最佳含量，论述了它们在抛光过程中的主要作用，对抛光时间、抛光温度等工艺条件及阳极氧化工艺参数对抛光质量的影响进行了实验和论证，并在此基础上确定了最佳的生产工艺。     

样品表面化学抛光处理法应用于薄板钢中氧的分析

研究了不同的样品表面处理方法对测定薄板钢样中氧的影响。经试验,确认采用由磷酸、醋酸和硝酸组成的化学抛光液可将薄板表面的涂层和氧化层处理干净。运用正交试验法对化学抛光处理薄板的温度、时间和试样重量3个因素进行了优化,并对影响分析结果准确度的因素进行了探讨,最终确定了因素的最佳水平,即浸泡时间:2min,温度:70℃,样重:0.4～0.5g。实验证明,化学抛光比机械抛光简单易行,经化学抛光液处理的试样对氮的测定结果无影响,可进行氧氮联测,测定薄板中氧和氮的结果相对标准偏差小于4.4%,能满足实际生产中的检测要求。     

真空电子用纯铜制品表面处理工艺研究

1 引言 真空电子用纯铜制品需要具有精蜜的尺寸和十分清洁的表面,这就对机加工后的表面处理工艺提出了很高的要求。传统的工艺多采用铬酸—硫酸型与硝酸—硫酸—盐酸型化学抛光及铬酐溶液钝化法处理铜制品,这     

纯镍金相腐蚀中化学抛光方法的研究

对纯镍化学抛光方法中抛光剂的组成、抛光温度和抛光时间进行了研究.结果表明:用正交试验方法确定金属的抛光配方可行,此方法可以用于其他金属或合金;纯镍抛光的较佳腐蚀液配方的体积分数为正磷酸4.8%、硫酸66.7%和盐酸28.5%,腐蚀时间为15 min;该方法可以一次进行多组试样的化学抛光.     

铝型材氧化着色生产工艺参数的监测记录

铝型材氧化着色生产过程中,氧化电流和槽液温度是影响铝型材表面质量的重要工艺参数。本文介绍使用新型的温度仪表和记录仪表连续监测和自动记录氧化电流和槽液温度的方法。     

拜耳法赤泥沉降工序工艺指标对生产的影响

对影响赤泥沉降工序的混合效率、沉降槽底流固含、洗水量、滤饼含水率、赤泥压滤液及细种子苛化液加入点等工艺指标分别进行计算，分析识别影响沉降工序处理能力因素。研究发现，分离及洗涤沉降槽底液液固比降低、混合效率提高、滤饼含水率降低、洗水量增加，都能够使赤泥的碱附损量降低。因此，可通过改进沉降槽、静态混合器、压滤机等来进一步优化生产指标；同时，赤泥压滤液及细种子苛化液的最佳加入点应为矿浆碱浓度高于且最接近洗水浓度的那一级沉降槽。     

氧化铝生产液固分离泥层界面检测技术创新

本文针对拜耳-烧结混凝土生产氧化铝过程中，溶出浆液分离，洗涤系统现状进行了透彻地分析，找出了制约液固分离设备沉降槽产量，质量进一步提高的瓶颈因素。通过对沉降槽沉降机理深入研究，对比分析国内外液固分离泥层界面检测技术优缺点，提出根据吹气法，采用在线密度仪动态测试沉降槽清液密度，底流密度及泥浆界面高度的一种连续性泥层界面检测新技术。实践证明，该技术克服了料浆高温，高碱和易结垢等因素影响，是氧化铝生产液固分离泥层界面检测技术的创新。     

AAR M-101F级货车车轴坯用钢的生产试制

介绍了货车车轴坯AARM-101F级钢的试制工艺。通过控制化学成分，钢液精炼过程工艺，制定合理的钢锭加热工艺参数和钢坯的冷却工艺参数，最终生产出合格的货车车轴坯。     

80kA小型预焙槽早期破损原因初探

针对80kA小型预焙槽早期破损多、槽寿命短的问题，采用干刨试验槽的方法，通过对破损槽的槽壳、槽内衬侧部碳块、伸腿、底部碳块、耐火层等部位消耗破损状况的分析，认为造成电解槽早期破损的主要原因是摇篮架抗剪切强度差、铝液焙烧工艺存在缺陷以及电解行程的波动。采取增加补强筋板加强摇篮架抗剪切强度，采用焦粒焙烧启动工艺，优化平稳生产行程等措施，解决了电解槽早期破损问题，延长了电解槽寿命。     

制样方法对IF钢纳米压入测试结果的影响

 对3种不同方法制备的IF钢试样进行了纳米压入表征,分析了制样方法对IF钢中铁素体纳米压入测试结果的影响。结果表明,制样方法对铁素体杨氏模量平均值影响不大,但对硬度平均值影响显著,机械抛光和机械抛光+化学侵蚀状态铁素体的硬度均高于机械抛光+电解抛光状态的铁素体。这主要是因为机械抛光对试样表面造成了明显的加工硬化层,而化学侵蚀处理不能完全去除硬化层,只有电解抛光才能起到有效消除硬化层的作用。机械抛光+电解抛光处理更有利于IF钢的纳米压入表征。     

铈基抛光粉抛光工艺的多响应稳健优化设计

以铈基抛光粉的化学机械抛光工艺过程为研究对象设计正交试验,选取抛光时间、抛光盘转速、抛光浆固含量、抛光浆pH值作为可控因子,分析其对铈基抛光粉的切削率及划痕度这2个重要技术参数的影响.在试验结果的基础上考虑各响应的主客观权重,结合信噪比与满意度函数构建多响应稳健优化设计模型,获得确保抛光过程稳健性的较优工艺参数组合,从...     

精矿稀土抛光粉制备工艺研究

采用稀土精矿为原料，研究了制备稀土抛光粉工艺过程，通过ＤＴＡ、ＴＧ、ＸＲＤ、ＳＥＭ、物化分析等检测手段，对试制样品的结构、形貌、物化性能等进行了分析。试制的精矿稀土抛光粉抛光效果优良，制备工艺简短，成本低廉     

高档镜面抛光铝型材生产工艺研究

研究了高档镜面抛光铝型材生产过程的主要控制要素,确定了铸碇、挤压、机械抛光、化学抛光和氧化封孔生产工艺及挤压模具设计制造技术要求,获得了表面质量高的高档镜面抛光铝型材。     

Nanoparticles as friction modifiers during mechanical treatment

The application prospective of diamond nanoparticles as additives into cooling liquids in case of abrasive finishing is considered. When polishing, the addition of a diamond-containing charge into polishing compositions improves the parameters of chemical–mechanical polishing.     

Recovery of cerium from glass polishing slurry

Cerium was extracted from rare earth slurry waste used for polishing a glass substrate.Initially,glass frit and flocculant were removed by froth flotation and dissolution.The recovered rare earth slurry exhibited almost the same particle size distribution as original slurry,which could be reused as slurry for glass polishing.From the rare earth slurry,the cerium solution was obtained by an oxidative thermal treatment and subsequent chemical leaching.The cerium solution was further purified up to 94% by selective precipitation of rare earth species.     

稀土抛光粉研磨试验研究

根据抛光粉抛光机理，以H—500型稀土抛光粉对玻璃进行研磨，研究了影响抛光粉抛光效果的主要因素确定了使用研磨机进行研磨检测的分析方法，同时也为指导稀土抛光粉产品的生产提供了理论依据。     

双面抛光工艺中压力对300 mm硅片表面形貌的影响

利用非接触式光学轮廓仪研究了双面抛光过程中不同压力下300mm硅片表面形貌的变化，并通过Stribeck曲线进行了探讨。结果表明。双面抛光过程中机械作用的强度随着压力的变化而不同，从而影响抛光后的硅片表面形貌。当硅片表面与抛光垫之间的接触处于固，液混合接触区时，协调机械去除作用与化学腐蚀作用之间的关系，使之达到平衡，可以显著地降低硅片表面的微粗糙度和峰谷值。     

ULSI 制备中氧化硅介质化学机械抛光的研究

对超大规模集成电路制备中二氧化硅介质的抛光机理、工艺条件的选择进行了大量理论和实验研究，着重研究了使用化学方法提高抛光速率、改善表面状况以及如何解决抛光浆料的沉积等问题，并实现了技术突破。