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通过对用于DC/DC转换器的N型和P型VDMOS器件在^60Coy射线下的辐照实验,研究了不同封装VDMOS器件在不同偏置条件下辐照前后的电参数和低频噪声变化。实验表明:辐照前后该类器件的低频噪声主要表现为1/f噪声,随着辐照剂量的增加,其幅值明显增加,阈值电压发生负向漂移,但前者的变化比后者大1~2个数量级。基于上述实验结果,进一步的理论分析认为:P型VDMOS器件比N型VDMOS器件更适合空间应用。 相似文献
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噪声是DC/DC变换器重要的性能指标,它限制了其在高精密电子系统中的应用。DC/DC变换器的噪声分为高频噪声和低频噪声。高频噪声包括电流纹波与热噪声。低频噪声主要成分有1/f噪声和散粒噪声。高频噪声直接影响产品性能,低频噪声除了与产品性能有关之外,还与产品质量和可靠性密切相关。本文在详细研究DC/DC变换器低频噪声测量技术的基础上,完成了对国产军用DC/DC变换器低频噪声的测量。实验结果表明,1/f噪声和散粒噪声是DC/DC变换器低频噪声的主要成分。基于此实验结果,本文对DC/DC变换器低频噪声的产生机理进行了分析,并进一步讨论了低频噪声作为DC/DC变换器质量与可靠性诊断工具可行性。 相似文献
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用于空间系统的电子元器件和电路性能受辐照累积剂量的严重影响。本文针对一种Buck型小功率DC/DC模块电源进行了电离辐照实验,研究结果表明:随着辐照剂量的增加,该类器件输出电压增大,输入电流增大和整体转换效率降低,且加偏辐照DC/DC模块电源更早出现上述参数退化,其低频噪声参量呈现出与电参数相似但幅度更大的退化趋势。进一步的研究结果表明,其内部的功率MOSFET辐照引起的阈值电压漂移是导致该类电源辐照后输出电压增加的主要原因。本文研究结果可为该类器件的抗辐照性能加固提供实验基础。 相似文献
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研究了注F加固PMOSFET的总剂量辐照响应特性和辐照后由氧化物电荷、界面态变化引起的阈电压漂移与时间、温度、偏置等退火条件的关系,发现一定退火条件下注F加固PMOSFET由于界面态密度、特别是氧化物电荷密度继续增加,使得电路在电高辐照后继续损伤,探讨了加速MOS器件电离辐照感生界面态生长的方法。 相似文献
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本文研究了n沟SOS晶体管中γ射线辐照损伤无偏置退火的温度关系。研究发现,当辐照产生的氧化层俘获电荷多于界面态电荷时,等温退火会导致界面态电荷增加。界面态电荷是氧化层俘获电荷转变成界面态电荷造成的。阈值电压退火的速率限制阶段便是这一转变阶段。在辐照明显引起界面态电荷时,辐照引起的界面态电荷在高温下退火会立即消除,但也发现了氧化层俘获电荷向界面态电荷转变这一现象。因此,高温下界面态退火的特性就变得复杂起来。辐照之后阈值电压的不稳定性归固于界面态的增减。 相似文献
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研究了γ辐照感生Si/SiO2慢界面态的特性及其对高频C-V测试的影响。结果表明,辐照产生的慢界面态为界面态的0.3-0.8,分布在Si禁带中央以上的能级或呈现受主型。分析认为慢界面态对应的微观缺陷很可能是Si-O断键或弱键。慢界面态的产生还引起C-V曲线同测试速率、方向和扫描前保持时间有关。文中提出了如何通过高频C-V测量比较准确地计算辐照感生氧化物正电荷、界面态和慢界面态密度的方法。 相似文献
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研究了测试频率为0.3~1.5MHz时GaN基肖特基器件的电容特性.实验发现,在Au/i-GaN肖特基器件的电容-电压(C-V)特性曲线中,出现了峰和负值电容,而Au/i-Al0.45Ga0.55N肖特基器件的C-V特性曲线中则既没有峰也没有负值电容的出现.对肖特基器件的电流-电压(I-V)特性和C-V特性进行参数提取和分析后认为,负值电容和峰的出现源于界面态的俘获和损耗,但较大的串联电阻将减弱界面态的作用. 相似文献
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本文研究了NMOS晶体管低能X射线辐照后氧化物陷阱电荷的产生、界面态的性质及空穴陷阱的退火特性等问题。实验结果表明,电离辐照产生的界面态具有施主性和受主性,而氧化物陷阱电荷引起的电压变化在退火过程中,随外加偏置电场极性的不同,表现出可逆性,它对晶体管阈值电压的变化起着决定性的作用。 相似文献
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