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为战场救护用的便携式呼吸机开发了一种量程为2kPa的小型微压传感器.为减小尺寸及冲击振动的影响,采用了微机械加工的方形平膜结构和梁膜复合结构。两种设计均能满足使用的要求. 相似文献
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针对航空领域微小压力测量需求,介绍了一种沟槽梁膜复合结构压力芯片的设计和制备方法。设计的压力芯片解决了传统硅压阻压力传感器灵敏度与线性度的固有矛盾,通过有限元分析可动膜片应力应变输出,并结合曲线拟合分析,提出了一种优化芯片可动膜片结构尺寸的设计方法。利用MEMS加工工艺,实现了沟槽梁膜双重应力集中结构压力芯片的制备。在量程0~1 psi范围内,传感器灵敏度30.9 mV/V/psi,非线性误差0.25%FS,综合精度0.34%FS,实现了灵敏度和线性度的同步提高,满足了飞行器高度、风洞测试等领域的微压测试需求。 相似文献
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高gn值加速度传感器在侵彻武器等领域受到广泛应用,对量程、灵敏度、固有频率等指标也提出了更高的要求。设计了一种MEMS高gn值加速度传感器,在传统梁—岛结构加速度传感器的基础上进行了改进,采用主微梁互补结构在提高固有频率、量程的同时,提高了灵敏度。在梁的末端提出了新式的延伸梁结构设计,大大减小了集中应力的现象,提高了结构的抗过载能力。利用ANSYS有限元分析软件,对该加速度传感器进行了静态、模态和瞬态分析。经仿真验证,该MEMS高gn值加速度传感器的各项指标均满足要求,具有明显的优越性。 相似文献
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金属半导体异质混合结构是一种特殊的压阻结构,其具有高于传统MEMS压阻式压力传感器的压阻性能.鉴于此,设计和研究了一种由掺杂单晶硅和金属铝混合形成的MEMS异质结构压力传感器.首先结合理论模型和ANSYS有限元模拟仿真分析了硅铝异质结构传感器的灵敏度特性,然后通过MEMS工艺制作了硅铝异质结构压力传感器芯片,并对其进行了封装与测试.实验结果表明,硅铝异质结构压力传感器的灵敏度可达到0.1168 mV/(V·kPa),而利用参考结构能够明显减小环境温度对其性能的影响.在此基础之上,本文采用基于遗传算法改进的小波神经网络对传感器的温度漂移和非线性误差进行了补偿,补偿后硅铝异质结构压力传感器的测量误差小于±1.5%FS. 相似文献
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提出了一种基于TiN双谐振梁结构的MEMS谐振式压力传感器,利用TiN谐振梁的谐振频率与被测压力的关系进行压力测量。针对传感器的敏感结构建立了数学模型,通过理论分析和ANSYS有限元软件的模拟,得出了谐振梁长度的变化范围和谐振梁的结构参数,并确定了TiN谐振梁在矩形压力膜上方的最佳位置。这对传感器的结构设计具有重要的指导意义。 相似文献
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对一种以方形硅膜片作为一次敏感元件;硅梁作为二次敏感元件的硅谐振式压力微传感器进行了研究:建立了微传感器敏感结构的数学模型;敏感结构参数:方形膜边长4 mm,膜厚0.1 mm,梁谐振子长1.3 mm,宽0.08 mm,厚0.007 mm;对原理实验样件采用电热激励、压阻拾振方式作了开环测试,讨论了传感器的闭环系统. 相似文献
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针对磁弹效应索力传感器工程应用安装与维护技术难题,提出了一种旁路结构的磁弹性索力传感器。应用磁路定律和等效磁路法,对套筒式结构传感器进行磁路系统分析;基于等效磁路原理,设计旁路式结构索力传感器,给出器件结构参数尺寸;搭建相应的传感器试验检测系统,在WDW-300拉伸试验机上对两种传感器进行磁电复合材料诱导电压与拉力比较试验。对旁路结构索力传感器进行抗温性试验研究。结果表明,旁路结构索力传感器检测精度高,重复误差0.02%~0.5%,传感器性能稳定性和温度适应性好,适合于大跨度桥梁结构健康检测的工程应用。 相似文献
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为分析上、下游干扰体对超高层结构风载荷的影响,以452 m超高层塔楼为例,将风载荷作为控制载荷分别建立单塔以及有相邻315 m超高层干扰体的数值风洞模型;分析单塔以及干扰体分别在塔楼风向上游和下游3种计算工况,得出各自的风场流线图和塔楼风载荷体型因数.结果表明,干扰体对塔楼风载荷的干扰效应不仅在315 m高度范围内存在,在此高度之上也有比较明显的干扰效应;干扰体对塔楼主要立面的风载荷的影响有较强的规律性. 相似文献
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给出一种用于义齿压力测量的微型电容式传感器的研制工艺和封装测试。文中根据电容式压力传感器的原理,采用MEMS工艺,研制出微型传感器。在与义齿基托相同材料的作底基的树脂上挖一个边长为2mm平整的方形小坑,将传感器分布式埋植入底基,并用自制的施加压力的装置对传感器进行测试,从而检测出压力对口腔下方组织的作用力。测量结果表明,该传感器能够准备地测量出当牙齿咬合时,义齿基托所承受的力和力的分布。该传感器性能良好,具有比较稳定的输入与输出关系,适用于口腔恶劣环境下测量义齿对口腔下方组织作用力。 相似文献
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In this paper, we proposed a flexible process for size-free MEMS and IC integration with high efficiency for MEMS ubiquitous applications in wireless sensor network. In this approach, MEMS and IC can be fabricated individually by different wafers. MEMS and IC known-good-dies (KGD) are temporarily bonded onto carrier wafer with rapid and high-accurate self-alignment by using fine pattern of hydrophobic surface assembled monolayer and capillary force of H2O; and then KGD are de-bonded from carrier wafer and transferred to target wafer by wafer level permanent bonding with plasma surface activation to reduce bonding temperature and load force. By applying above 2-step process, size of both wafer and chip could be flexible selected. Besides, CMOS processed wafer or silicon interposer can be used as the target wafer. This approach offers us excellent process flexibilities for low-cost production of wireless sensor nodes. 相似文献
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利用位移电流效应设计的非接触式接近传感器结构简单,单探测电极,不受静态环境影响,价格便宜.该传感器探头面积大小,延展距离,形状可根据需要任意设计,且传感器对厚度敏感并可透过物体进行探测.该传感器可用于微机电测量系统(MEMS),安保和材料内部缺陷的无损检测等应用领域. 相似文献
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This paper characterizes a piezoresistive sensor under variations of both size and orientation with respect to the silicon
crystal lattice for its application to MEMS pressure sensing. The sensor to be studied is a four-terminal piezoresistive sensor
commonly referred to as a van der Pauw (VDP) structure. It is observed that the sensitivity of the VDP sensor is over three
times higher than the conventional filament type Wheatstone bridge resistor. With MEMS devices being used in applications
which continually necessitate smaller size, characterizing the effect of size and orientation of a VDP structure on the performance
of a MEMS pressure sensor is important. In this paper, the effect of relative size and misalignment of the VDP sensor on the
sensitivity is investigated using a coupled piezoresistive/stress finite element model. The mode is developed to simulate
the full field stress over the deformed diaphragm in which the VDP is diffused. The change in resistivity of the VDP is then
analyzed to predict the sensitivity of the VDP structure. Sensor size, position relative to the diaphragm, and angular misalignment
of the VDP were varied to determine a theoretical result for the dependence of VDP output on those parameters. It is determined
that the performance of the sensor is strongly dependent only on the longitudinal position of the sensor on the diaphragm,
and is relatively tolerant of other errors in the manufacturing process such as transverse position, sensor depth, and orientation
angle. 相似文献