首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
为了改善大功率垂直腔面发射激光器(VCSEL)的模式特性,在GaAs衬底上采用限制扩散湿法刻蚀技术制作出了不同曲率半径的微透镜,与P型和N型分布式布拉格反射镜(DBR)构成复合腔结构,可以对腔内模式进行选择.有源区采用新型的发射波长为980 nm的InGaAs/GaAs应变量子阱,包括9对In0.2Ga0.8As(6 nm)/Ga0.18As.82P(8 nm)量子阱,有源区直径100μm,微透镜直径300 μm,曲率半径959.81μm,表面粗糙度13 nm.室温下,器件连续输出功率大于180 mW,阈值电流200 mA,远场发散角半角宽度分别为7.8°和8.4°,并且与没有微透镜的垂直腔而发射激光器输出特性进行了比较.  相似文献   

2.
设计并研制了一种将p-n结和有源层分开的高功率AlGaAs/GaAs单量子阱远异质结(SQW-RJH)激光器,其发射波长为808 nm,腔长为900 μm,条宽为100μm.其外延结构与通常的808 nm AlGaAs/GaAs单量子阱半导体激光器的结构不同,在p-n结和有源区间多了一层0.3μm厚的p型Al0.3Ga0.7As下波导层.对研制的器件进行了电导数测试,结果显示,与常规AlGaAs/GaAs大功率半导体激光器相比,远结半导体激光器具有阚值电流偏大、导通电压偏高的直流特性.经4 200h的恒流电老化结果表明,器件在老化初期表现出阈值电流随老化时间缓慢下降,输出功率随老化时间缓慢上升的远结特性.  相似文献   

3.
用 CCl4 作为掺杂剂 ,进行了掺碳 Al Ga As层的 LP-MOCVD生长 ,并对其掺杂特性进行了研究 ,分析了各生长参数对掺杂的影响 ;研制了碳掺杂 Al Ga As限制层 80 8nm大功率半导体激光器 ;激光器单面连续波输出功率大于 1 W,功率效率为 0 .7W/ A。  相似文献   

4.
0319657大功率 InGaAsP/InGaP/GaAs 激光器特性研究[刊]/李忠辉//固体电子学研究与进展.—2003,23(1).—11~13(D)介绍了无铝激光器的优点;利用 LP-MOVPE 生长了 InGaAsP/InGaP/GaAs 分别限制异质结构单量子阱(SCH—SQW)结构,讨论了激光器的腔长对特征温  相似文献   

5.
我们通过测量各个激射纵模的光谱线宽,研究了各种增益导引和折射率导引的(GaAl) As双异质结激光器的相干特性与辐射光功率的关系。此外,近场和远场图样随输出光功率而变化,因此要同时监视驱动电流。已经报道了数据的器件有:增益导引的V形槽激光器(AEG-Telefun Ken)、窄氧化条形激光器(siemens)以及折射率导引的可见光和红外CSP激光器(Hitachi)及BH激光器(Hitachi)。采用平面和球面的法布里—珀罗标准具,分别获得了增益导引激光器和折射率导引激光器的光谱线宽。  相似文献   

6.
利用分子束外延技术和 S- K生长模式 ,系统研究了 In As/Ga As材料体系应变自组装量子点的形成和演化 .研制出激射波长λ≈ 960 nm,条宽 1 0 0μm,腔长 80 0μm的 In( Ga) As/Ga As量子点激光器 :室温连续输出功率大于 3.5W,室温阈值电流密度 2 1 8A/cm2 ,0 .61 W室温连续工作寿命超过 3760小时  相似文献   

7.
工作总结期页1 11只︺月任q山n甘丹J qJ J4佗O,土八乙nOJ任J毛一﹄八匕内七J‘止月.一11司.11上1 1..一1上,自甲了八Q甲‘﹄日八00口0自八舀月任dJS只曰口口1.GaAs一GaAIAs DH发光二极管的讨论2.GaAs一GaAIAs单异质结发光二极管3.GaAs红外发光二极管的退化规律和机理4.高效快速硅雪崩光电二极管石.硅PIN光电探测器6.In二Gal一二As气相外延的组份缓变控制7。硅PIN光电二极管零偏压下使用的性能测试8.光纤与DH LED PIN APD的藕合’19.谈谈510:的浮选10.汽相生长znse晶体的提拉效应11,原子吸收分光光度法测量GaAs中痕量 cu…  相似文献   

8.
分析了梯度折射率分别限制单量子阱 (GRIN-SCH-SQW)结构的特点以及对大功率半导体激光器特性的影响。利用分子束外延系统生长 Ga Al As/Ga As GRIN-SCH-SQW结构 ,经光荧光谱、X-射线双晶衍射、和载流子浓度测试 ,结果表明 ,该结构各参数均满足设计要求。应用此结构制成激光器阵列 ,室温准连续输出功率达5 8W(t=2 0 0 μs,f=5 0 Hz) ,峰值波长为 80 8nm。  相似文献   

9.
大功率 In Ga As P/ In Ga P/ Ga As激光器特性研究李忠辉 高 欣 李 梅 王 玲 张兴德  1  1……随机背景极化电荷对单电子电路影响的分析王 伟 张海黔 顾 宁  1  1 4…………………………TF SOIPMOSFET的导电机理及漏电流的二维解析模型张海鹏 魏同立 宋安飞  1  1 8…………一种新型的开关共点耦合神经 MOS晶体管曹亚明 汤玉生  1  2 3……………………………………薄膜 SOIMOS器件阈值电压的解析模型分析冯耀兰 杨国勇 张海鹏  1  2 7………………………Ga As HBT中 BC结耗尽区电子渡越时间的修…  相似文献   

10.
设计了一种带有Al0.22Ga0.78As/In0.15Ga0.85As/GaAs发射极空间层和GaAs/In0.15Ga0.85As/GaAs量子阱的共振隧穿二极管(RTD)材料结构,并且成功地制作了相应的RTD器件.在室温下,测试了RTD器件的直流特性,计算了RTD器件的峰谷电流比和可资电流密度.在分析器件特性的基础上,指出调整材料结构和优化工艺参数将进一步提高RTD器件的性能.  相似文献   

11.
利用分子束外延技术和S-K生长模式,系统研究了InAs/GaAs材料体系应变自组装量子点的形成和演化.研制出激射波长λ≈960nm,条宽100μm,腔长800μm的In(Ga)As/GaAs量子点激光器:室温连续输出功率大于3.5W,室温阈值电流密度218A/cm2,0.61W室温连续工作寿命超过3760小时.  相似文献   

12.
利用低压金属有机化合物汽相淀积方法,以液态CCl4为掺杂源生长了高质量的碳掺杂GaAs/AlGaAs外延材料,研究了CCl4流量、生长温度和V/Ⅲ比等因素对外延材料中的碳掺杂水平的影响。采用电化学CV方法、范德堡霍耳方法、低温光致发光谱和X射线双晶衍射回摆曲线测量等方法对碳掺杂外延材料的电学、光学特性进行了研究。实验制备了空穴浓度高达1.9×1020cm-3的碳掺杂GaAs外延材料和低温光致发光谱半宽小于5nm的高质量碳掺杂Al03Ga0.7As外延层。在材料研究的基础上,我们以碳为P型掺杂剂生长了GaAs/A1GaAs/InGaAs应变量子阱980nm大功率半导体激光器结构,并获得了室温连续工作1W以上的光功率输出。  相似文献   

13.
日本夏普公司已开发比以前大4~5倍大功率半导体激光器阵列,并确立实用化技术。所开发的激光器阵列采用和以前MOCVD不同的液相处延生长法,适合于批量生产。器件需要在GaAs衬底上淀积Al,Ga,As的六层薄膜,每层的厚度为0.05μm必须在稳定反应中进行晶体生长,以往用MOCVD法制造,很费时间。  相似文献   

14.
利用分子束外延方法生长了激射波长约为9μm的GaAs/Al0.45Ga0.55As量子级联激光器.条宽35μm,腔长2mm的器件准连续激射温度最高达120K,81K下未经收集效率修正的峰值功率超过70mW.  相似文献   

15.
大功率半导体激光器光纤耦合模块的耦合光学系统   总被引:9,自引:0,他引:9  
陈少武  韩勤  胡传贤  金才政 《半导体学报》2001,22(12):1572-1576
针对 8 0 8nm大功率 Ga As/ Ga Al As半导体量子阱激光器的远场光场分布特点 ,提出了与多模光纤耦合时对耦合光学系统的特殊要求 ,并根据低成本、实用化的要求设计制作了专用的耦合光学系统 ,对耦合光学系统的实际性能进行了测试 ,给出了耦合效率统计分布图、耦合偏差曲线和高低温可靠性实验结果 .用设计制作出的实用化耦合光学系统完成了输出功率 15— 30 W,光纤束数值孔径为 0 .11— 0 .2 2的半导体激光光纤耦合模块 ,模块的使用结果表明耦合光学系统稳定、高效、实用  相似文献   

16.
本文比较全面地论述了内脏式6528埃He—Ne激光的偏振特性.文中首先介绍了各种同腔长He—Ne激光器输出光的偏振特性以及在均匀轴向磁场下的偏振特性.进一步从理论上证明了单模线偏振以及相邻纵模正交偏振的一般规律,定性解释了多纵模激光器中相邻纵模平行偏振的特性.对于在均匀轴向磁场下的偏振特性也作了理论分析.最后,还分析了内腔He—Ne激光器在横向磁场下激光的偏振特性.  相似文献   

17.
介绍了无铝激光器的优点 ;利用 LP-MOVPE生长了 In Ga As P/In Ga P/Ga As分别限制异质结构单量子阱 (SCH-SQW)结构 ,讨论了激光器的腔长对特征温度的影响。对于条宽 1 0 0 μm、腔长 1 mm腔面未镀膜的激光器 ,连续输出光功率为 1 .2 W,阈值电流密度为 41 0 A/cm2 ,外微分量子效率为 62 % ,并进行了可靠性实验。  相似文献   

18.
大功率808nm AlGaAs/GaAs宽波导量子阱激光二极管   总被引:1,自引:0,他引:1  
设计与制作了大功率808nm AlGaAs/GaAs宽波导激光二极管.器件的Al0.35Ga0.65As波导厚度提高到0.9μm,宽波导会引起高阶模的激射.为了抑制高阶模,Al0.55Ga0.45As限制层厚度降低到0.7μm,同时确保基横模的辐射损耗在0.2cm-1以下.采用MOCVD进行材料生长,得到了高性能的器件,100μm条形激光二极管的最大输出达10.2W.  相似文献   

19.
设计与制作了大功率808nm AlGaAs/GaAs宽波导激光二极管.器件的Al0.35Ga0.65As波导厚度提高到0.9μm,宽波导会引起高阶模的激射.为了抑制高阶模,Al0.55Ga0.45As限制层厚度降低到0.7μm,同时确保基横模的辐射损耗在0.2cm-1以下.采用MOCVD进行材料生长,得到了高性能的器件,100μm条形激光二极管的最大输出达10.2W.  相似文献   

20.
GaAs/AlGaAs量子级联激光器   总被引:3,自引:2,他引:1  
利用分子束外延方法生长了激射波长约为9μm的GaAs/Al0.45Ga0.55As量子级联激光器.条宽35μm,腔长2mm的器件准连续激射温度最高达120K,81K下未经收集效率修正的峰值功率超过70mW.  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号