低辐射镀膜玻璃的研究进展

本文介绍了开发低辐射镀膜玻璃的意义及国内外的研究和应用状况,并比较了低辐射镀膜玻璃的制备方法,展望了其应用前景。     

建筑玻璃镀膜

美国专利５１１６９３提供了一种新型的、优良的具有多层膜的各种建筑玻璃镀膜。包括在氧化气氛中能同时溅射锡得到锌锡氧化物镀膜。锌锡氧化物镀膜和氮化铬的金属膜一起构成了具有较浓纯正颜色的各种多层镀膜产品。     

节能型镀膜玻璃概述

文章叙述了节能型镀膜玻璃的节能机理、功能、发展趋势。     

低辐射镀膜玻璃——节能型门窗玻璃材料

本文简要地阐述低辐射镀膜玻璃的性能和生产方法及低辐射镀膜玻璃的应用前景。     

新型防雾镀膜玻璃

介绍了汽车玻璃“防雾”特性的重要性。讨论了为此开发的新型镀膜，镀膜的结构、机械和光学性能以及由此项技术获得的效益。     

玻璃的在线镀膜

随着建筑业对玻璃品种和功能要求的不断提高,镀膜玻璃的应用范围将更加广泛,而成本低,收益高的在线镀膜玻璃前途更加广阔,本文着重对在线镀膜玻璃加以论述。     

光谱选择性吸收膜覆膜玻璃节能评价研究进展

光谱选择性吸收膜覆膜玻璃(以下简称“覆膜玻璃”)是光谱选择性膜覆膜玻璃中的一种.其膜层大量吸收太阳红外辐射的特性决定了其特殊的建筑节能性能.目前已经采用的覆膜玻璃节能评价方式包括光热性能参数评价、覆膜玻璃得热量数值计算评价、建筑能耗软件模拟评价、实验室装置试验评价以及实际工程测试评价等,这些方法基本能够揭示覆膜玻璃的节能机理和节能效果.同时,目前评价方法中的问题还需要进行深入研究,以为建立更有效的光谱选择性吸收膜节能评价方法提供参考.     

包覆型陶瓷粉体的研究进展

本文介绍了包覆型陶瓷粉体的制备工艺及其在多相陶瓷中的均匀混合作用.另外,还通过分析包覆型陶瓷粉体的胶体特性,讨论了颗粒表面改性对陶瓷粉体分散性的影响.     

钢化Low-E镀膜玻璃

根据Low-E镀膜玻璃的特点。全面分析钢化Low-E镀膜玻璃的难点和方法。     

磷酸盐激光玻璃研究进展

由于国内外大型激光贯性约束聚变装置的兴建和光通信的迅速发展,磷酸盐激光玻璃。尤其是激光钕玻璃得到了前所未有的发展。本文介绍了目前国内外磷酸盐激光玻璃,主要是掺钕、掺铒、掺镱磷酸盐激光玻璃的最新研究进展。     

缓释型磷酸盐玻璃的研究进展

磷酸盐玻璃的主要成分对环境和人体无害,其基本结构决定了它的化学性质不稳定,但其缓释性能在生物医学、抗菌和玻璃肥料等领域具有很大的应用前景。在系统地介绍磷酸盐玻璃的概况及其在缓释领域的主要应用的基础上,详细阐述了它的缓释机理,以及缓释型磷酸盐玻璃在生物医学、玻璃肥料和抗菌材料等不同领域的研究及应用进展,并对其发展前景和发展方向进行了展望。     

钢丝绳涂塑材料HDPE的研究进展

综述了高密度聚乙烯(HDPE)作为钢丝绳涂塑材料的优点及其改性情况。由于钢丝绳受力复杂、所处环境恶劣,破坏形式很多,主要有:环境应力开裂、应力疲劳、磨损疲劳、老化等。常见的做法是通过将HDPE与低密度聚乙烯(LDPE)共混来提高HDPE的使用性能。文章分析了LDPE、弹性体、硅烷偶联剂、抗老化剂等分别对共混体系的影响,并指出了HDPE/LDPE在加入上述改性剂后整体、系统的研究是今后的研究重点和方向。     

离线低辐射镀膜玻璃

对离线低辐射镀膜玻璃的发展进行了介绍,指出单银、双银和三银离线低辐射镀膜玻璃因为膜系结构的不同而在生产和运营成本上产生了很大差异,进一步分析了3种不同产品的性能及对建筑节能性的影响。     

高强度玻璃组分的研究进展

高强度玻璃是航空航天、信息电子和装备制造等领域重要的视窗材料。为保证玻璃能够在苛刻环境条件下正常使用,需要不断提高玻璃力学强度、硬度和抗冲击性能,因此高强度玻璃的研究备受关注。目前高强度玻璃的研究主要聚焦于:(1)探究不同体系高强度玻璃材料组分-结构-性能之间的关系,以及掺杂玻璃的性能变化情况;(2)开发高强度玻璃新型强化方法,研究适用于不同高强度玻璃体系的物理强化和化学强化工艺等。本文综述了氧化物对不同体系玻璃的网络结构和力学强度的影响,基于不同玻璃体系和化学组成,分析比较了掺杂玻璃力学性能的演变特点,总结了国内外高强度玻璃组分设计研究进展,为高强度玻璃材料的科学研究和发展提供参考。     

纳米粒子有机包覆研究进展

阐述了近年来国内外在纳米粒子表面有机包覆改性方面的研究进展,主要对氧化物纳米粒子、层状纳米粒子及金属纳米粒子等不同种类的纳米粒子的有机包覆改性方法进行了介绍及举例,并对未来的研究内容和方向做出了展望。     

氮化碳超硬防划伤镀膜玻璃的制备与研究

采用工业磁控溅射设备在玻璃基板上依次沉积Al_2O_3/SiO_2/CNx多层复合纳米薄膜,并研究测试了其透过率、耐划性及耐酸碱性。结果表明,通过引入线性阳极层离子源,控制并形成新的磁控溅射镀膜工艺,膜层莫氏硬度达到8级,具有优良的防刮效果;膜层存在△T0.6%的微弱增透效果;经过酸/碱处理,透过率衰减|ΔT|0.1%。