一种新型微小等离子体发生器

提出了一种基于并行探针技术的扫描等离子体加工新方法,即通过在并行探针针尖上集成微小等离子体发生器,从而实现无掩膜的扫描加工。采用二维流体模型对其中的微小等离子体发生器进行了数值仿真研究。该微小等离子体发生器为微空心阴极放电器件,当工作气体为SF6,工作气压在5 kPa~9 kPa时,空心阴极内的F原子浓度在3×1011cm-3~1.7×1012cm-3之间变化,基本满足硅材料扫描刻蚀加工的需求。     

微小等离子体发生器刻蚀机理的研究

采用二维流体模型对扫描刻蚀加工中的微小等离子体发生器的刻蚀机理进行了数值仿真研究.该微小等离子体发生器为微空心阴极放电器件,当工作气体为SF6,工作气压在5 kPa～9 kPa时,空心阴极处微孔半径为0.25 tzm时,空心阴极外部区域的F原子的有效弥散长度在0.5 μm～1.8μm之间变化,且浓度在3×lO11 cm-3～1.7×1012cm-3之间,基本满足扫描刻蚀加工的需求.     

激光等离子体诱导蚀除眼内病体组织的机理分析

本文分析了激光等离子体诱导蚀除眼内病体组织的物理机理 ,并从理论上解释了等离子体诱导蚀除手术对周围组织副作用极小的关键原因是激光等离子体所具有的屏蔽机制 ,最后提出了更有效蚀除即把副作用降低到最低限度的解决办法。     

微波共振探针在测量等离子体密度中的应用

本文介绍了一种可以测量局部等离子体电子密度的微波共振探针法，并给出了它的测量原理、设计方法和实验结果。实验结果表明：由于微波共振探针不受鞘层的影响，因此它比通常的朗谬静电探针对等离子体密度的测量要精确得多。微波共振探针的空间分辨率与它的几何尺寸有关。     

SJ/T 11339-2006《数字电视等离子体显示器通用规范》编制说明

介绍了SJ／T11339-2006《数字电视等离子体显示器通用规范》的编制情况，并对有关主要技术参数要求和相应的测量方法进行了解释说明，供有关人员在实施和贯彻标准中参考。     

等离子体化学是当代最活跃对人类未来具有重要影响的高科技领域之一

一、概述第二届中日等离子体化学会议与第三届日本等离子体化学会议,第二届日韩(南朝鲜)等离子体化学会议于1990年7月23日至25日在日本东京私学会馆联合举行.除中、日韩的代表100余人外还有二名美国代表和一名苏联代表参加,会议共发表论文74篇,其中大会邀请报告12篇(中、日、韩各四篇),除会议交流外,会外还进行了广泛深入的交流,此外还以一天时间参观了日本科学城筑波(日本硅谷)的无机材料研究所、国立化学研究所,会后顺访了名古屋大学的气体电子学实验室、等离子体研究所,大阪大学的激光研究所和气体电子学实验室.     

等离子体天线的基本特性仿真

等离子体天线具有隐身、动态重构等不同于金属天线的独特的物理性质,在卫星遥感、通信、导航领域具有潜在的应用前景。为了研究等离子体频率对天线特性的影响,采用三维电磁仿真软件建立了柱形等离子体天线模型,在此基础上,针对等离子体频率对等离子体天线的S11曲线、方向图、增益等性能的影响进行了仿真分析,并给出了相关结论。     

等离子体天线技术原理分析

介绍了2类常见的等离子体天线——等离子体介质天线和等离子体反射面天线,然后分别分析了其基本工作原理,并与金属天线对比,指出了等离子体天线在雷达隐身、可重构、低互耦性方面的独特优势,最后提出了一种新型的等离子体智能天线,为等离子体天线技术的研究提供了一种新方向。     

高亮度高清晰度表面放电AC—PDP的研究

我们正在开发对角线大于４０ｉｎ的交流等离子体显示屏（ＡＣ－ＰＤＰ）的有关技术。通常，当ＰＤＰ的分辨率增加时，由于维持电级宽度变窄而使亮度减小，为了增加亮度而采用宽的维持电极时，就会出现向邻线的维持电极放电，从而使维持电压容限陡然减小，我们发现，这一现象与维持电压脉冲波形条件紧密相关，通过控制维持电压脉冲波形的条件，抑制了向邻线的维持电极放电。     

一种用于脉冲等离子体电子密度测量的高灵敏度干涉仪

由于等离子体密度梯度和机械振动的存在,对于密度在1013~1016cm-3范围的等离子体,通常需要采用外差式干涉仪进行小相位检测。包括Z箍缩、等离子体枪等在内的脉冲等离子体持续时间通常在数十纳秒到1 ms,而机械振动等因素引起的相位移动的周期大于1 ms,根据这种现象,采取40 mW的He-Ne激光器,迈克尔逊式光路,外差式记录系统和相位跟踪的方法,建立了一种高灵敏度干涉仪。干涉仪的最高灵敏度约为0.5°,空间分辨和时间分辨分别为1.4 mm和250 ns,成功测量的最低等离子体密度为1014cm-2。该干涉仪结构简单而且可以获得连续的时间分辨,能较广泛地用于持续时间较短的等离子体密度测量。     

等离子体显示开启显示世界之梦

阐述彩色PDP发展的历史，PDP发展引发的新显示市场以及等离子体显示技术的前景。     

CO2激光诱导空气等离子体放电通道特性研究

为了研究高能脉冲CO₂激光诱导空气等离子体放电通道的特性,建立了高压电容充放电实验平台,激光束经离轴抛物聚焦镜汇聚,引发间距可调的盘状电极和针状电极之间的等离子体放电通道。利用电气参量测量、发射光谱测量等手段,分析了等离子体放电通道的启动特性、阻抗特性和等离子体密度。结果表明,激光束与放电方向同轴的结构以及较大的脉冲能量,使得激光诱导等离子体放电通道的启动时间大幅缩短,50mm间距的等离子体通道,启动时间约为2μs;激光诱导等离子体放电通道的阻抗很小,约1Ω~2Ω,并且阻抗值随放电电压的增加有减小的趋势,而与等离子体通道长度的关系不明显;由谱线的Stark展宽计算获得的空气击穿之后、放电启动之前的等离子体电子密度约为1019cm-3,尽管放电启动时等离子体辐射显著增强,但等离子体密度近乎单调下降。这些结果将有利于高能脉冲CO₂激光诱导空气等离子体放电通道的应用研究。     

激光烧蚀平面碳靶的等离子体形态演化

激光等离子体推进是未来航空航天领域极具应用前景的前沿技术之一,而激光等离子体的形态演化成为激光等离子体冲击波推进的必要条件。本文基于激光等离子体形成的基本理论,模拟了激光碳等离子体的形态参数。之后利用波长为1.064μm、脉宽约10 ns的Nd∶YAG激光器等设备研究了不同激光功率密度下碳等离子体的形态参数,测量数据证实了理论结果。此外,由彩色数字摄像机拍摄的图像表明,当激光器的工作电压从700 V上升到1100 V时,观察到激光碳等离子体从发育不全到充分发育,再到发育过度的演化过程。因此,激光碳等离子体充分发育的条件是：激光器的工作电压调节到850 V,平均输出能量达157.1mJ,功率密度为4.45×10⁹ W/cm²。因等离子体的发育程度关系到激光等离子体冲击波的传播及作用,其研究成为激光等离子体冲击波推进的重要环节。     

均匀非磁化等离子体与雷达波的相互作用

采用平板几何金属衬底模型对雷达波在均匀等离子体中传播所发生的吸收、反射和衰减进行了数值分析研究,结果表明:等离子体对电磁波的吸收衰减取决于等离子体密度和碰撞频率的共同作用;通过适当选择等离子体密度和等离子体碰撞频率,可以使均匀等离子体对某一雷达波段的吸收达到90%以上,隐身效果显著。     

一种基于矩形波导缝隙天线的微波低压等离子体装置

低压等离子体以其放电面积大、均匀性较好、适用于大规模工业应用等优势备受关注。相比于低频等离子体,微波激发的等离子体在电子密度、电离度、活性和装置能量利用率方面性能更优越,应用场景更广阔。本文基于矩形波导缝隙天线及谐振腔结构,设计了一种工作于2.45 GHz的微波低压大面积均匀等离子体装置,为增加等离子体的激发面积且使其更均匀,在馈波波导与反应腔体间设置了多个漏波缝隙,并优化了缝隙的位置和大小,使得腔体内部电场更加均匀。仿真结果显示,优化后反应腔体内部电场分布均匀性良好。实验测试结果表明,反应腔体内部不同位置的等离子体电子密度和等离子体电子温度均呈现均匀状态,证明了该装置激发产生了均匀等离子体。     

等离子清洗洗技术(一)

文章对等离子清洗技术做了全面介绍,不仅介绍了有关等离子的基本概念、低温等离子体制备技术及其相关装置,而且着重介绍了它在精密清洗中的应用及其注意事项,指出等离子清洗技术在淘汰ODS清洗剂过程中能够发挥重要作用     

走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术

介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术,使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源（ＧＩＳ）。ＧＩＳ可以产生大面积的均匀等离子体。直径大于１０００ｍｍ。等离子体离子流强度高达０．５ｍＡ／ｃｍ＾２,离子流能量２０－２００ｅＶ,并能激活反应气体Ｏ２及蒸发原子,用ＧＩＳ进行的等离子体离子辅助镀膜这一技术,现正用于生产高质量的光学薄膜。     

彩色PDP发光效率的计算

提高发光效率是目前彩色PDP发展所面临的亟待解决的重要课题之一。为了正确计算该参数，本文经过适当简化，证明了计算彩色PDP发光效率的数学表达式。     

快速产生的时变等离子体对目标隐身的研究

分析了时变非磁化等离子体的隐身作用。研究了时变等离子体对入射电磁波的频率上移，这将使雷达回波的频率偏离开敌方接受回波的频谱范围，使目标的RCS减小，同时，给出了时变等离子体对入射电磁波的碰撞衰减并计算了时变等离子体对电磁波的反射系数。