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日本松下技术研究所用准分子激光CVD工艺技术实现软X射线聚光用高反射率多层膜反射镜,这种反射镜是在硅基板上由钨(W)和硅(Si)交互沉积的多层膜(W/Si)构成椭圆柱面反射镜(尺寸:55×55mm~2,短半径60mm),(图1).多层膜的各层,在基板纵剖面内的膜厚是不同的.该椭圆形反射镜能把点光源发出的软X射线聚成光束.所发出的两条光线能聚焦成一点. 相似文献
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“长波长软X射线多层膜的设计与制备”这篇论文介绍了用离子束溅射法制备长波长软X射线多层膜的研究工作,并报道了一种新的材料组合C/Si用于28.4nm(43. 65eV)和30.4nm(40.78 eV)波段的多层膜反射镜,并且用离子束溅射装置制备了正入 射条件下的C/Si多层膜反射镜.同时,用软X射线反射计测量了样品的反射率,从实验结果看出,制备的多层膜样品在28.4nm和30.4nm波段附近的实测正入射反射率分别达到11.4%和14.3%,实验指标达到了国内领先水平,并接近了国际水平. 相似文献
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基于模拟退火的软X射线多层膜反射镜设计 总被引:1,自引:1,他引:0
基于模拟退火(SA)算法,对软x射线短波段中的几个波长的多层膜反射镜进行了优化设计,获得了它们的光学参数,包括多层膜反射镜的最佳周期厚度、最佳厚度比和峰值反射率,进而制作多层膜反射镜并在北京同步辐射装置上进行了反射率的实际测量。测量结果表明,该反射镜具有实用的反射率。这表明,SA方法适用于软x射线短波段多层膜反射镜的优化设计。 相似文献
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介绍了D.G.Sterns的散射方法,用它来描述单个非理想粗糙界面的散射,它适用于软X射线短波段区域.将这种方法应用到多层膜结构,并采用D.G.Sterns方法的数学模型来描述软X射线短波段区域(1~10 nm)多层膜界面粗糙度.在这个理论的框架下,对我们所研制的波长为4.77 nm的Co/C多层膜反射镜界面粗糙度进行分析,估算出该多层镜界面间均方根粗糙度为0.7 nm.粗糙度估算结果与小角X射线衍射的测定结果相一致.(PE13) 相似文献
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软X射线波段的光学薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
由于正入射X光光学发展的迫切需要及超精细拋光与超薄多层膜制备技术的成就,适用于软X射线波段的光学薄膜已获得飞速发展并趋于成熟、走向市场。这一波段的光学薄膜具有十分重要面广阔的应用前景,它已成为整个光学薄膜领域中一个令人瞩目的新分支。本文介绍了这些光学薄膜的成膜与监控工艺及对其特性的测试技术,并对我国在这方面的工作进展作一个概要的回顾与展望。 相似文献
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YANG Cheng-tao 《中国电子科技》2005,3(1)
Based on the design theory of soft X-ray optical multilayer thin films and magneto-optic multilayer thin films, the metal multilayer thin films for the reflection of soft X-ray and ultraviolet ray, as well as the magneto-optic multilayer thin films for the magneto-optical memories were constructed. The metal multilayer thin films and the magneto-optic multilayer thin films were deposited with magnetron sputtering. The detail of optical reflection characteristics, layered-structure, and surface and interface characteristics were studied. At the same time,the static magneto-optical characteristics and dynamic magneto-optical characteristics of the magneto-optical disk were investigated. 相似文献
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多层陶瓷电容器的发展及其动向 总被引:5,自引:0,他引:5
小型、低压、大容量化,片式高压系列化和低成本化是当前多层陶瓷电容器的主要技术发展趋势;移动通信设备和开关电源等产品是其应用的热门。瓷膜材料的面世,符合多层陶瓷电容器的低成本、小型和大容量化的发展潮流,将会取得推广与应用。 相似文献