亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统及输出光强的机辅 …

介绍亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统的成像机理和工作过程。该系统在掩模和硅片上均刻有对准光栅标记，经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由 电路实施解调，提供了一种保护高信噪比，交换弱信号探测不对准方案；并通过计算机辅助分析的手段，讨论了ＳＡＶＡＲＴ的剪切量、工件台运动速度等对系统输出信号的影响。     

分步重复投影光刻机同轴对准数据处理

介绍了０．８～１．０μｍ分步重复投影光刻机双光路光栅衍射同轴对准系统的构成及原理，详细讨论了对准数据的软件处理和计算方法，并给出实际测试结果。     

Nikon光刻机对准系统概述及模型分析

对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机（Stepper）的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式：LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。     

图像处理在高精度对准系统中的应用

阐述高分辨力光刻机的图像对准系统的原理及实现过程。着重介绍图像处理技术在高精度对准系统中的应用。并讨论系统应用中的图像处理算法。     

用于光刻装置的多光栅标记对准系统

提出了一种用于光刻装置的Si片-工件台对准系统。该对准系统采用多光栅对准标记,标记的每个方向有序排列着四个子光栅。对准时,单波长对准光束照射在标记上,各级衍射光以不同的衍射角反射出。通过空间滤波器,零级和高级衍射光被滤除,而±1级衍射光被保留并相干涉成像在参考光栅的表面。两个较大周期子光栅的对准信号用于对准标记的捕获和粗对准,两个较小周期子光栅的对准信号用于获得粗对准基础上的精确对准。由于该对准系统无须采用楔板组,与ATHENA对准技术相比,降低了制造成本,提高了工程的可实现性。     

光栅衍射式同轴对准系统中影响对准精度的因素分析

对掩模，硅片同轴对准系统中影响对准精度的诸因素进行了理论分析，阐述了误差形成机理及相应的对策，以理论分析指导精度实验取得了±0．06μm(3σ)对准精度。     

电视机电源电路的机辅分析

一、前言在大规模电子电路(主要是LSI)的分析设计中,普遍采用CAD。而这方面最具有代表性的分析程序是SPICE和ASTAP。ASTAP是IBM公司的专利,用户只能租用而无法得到源程序。SPICE程序是美国加州大学     

BG—703型双面曝光机对准系统及误差分析

本文介绍了ＢＧ—７０３型双面曝光机的对准系统，并对该系统的误差及其产生因素进行理论分析，提出了减小误差的措施。     

基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术

提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息,根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深。与传统的FEM焦深测试技术相比,该技术具有测量精度高、速度快、成本低、操作简单等优点,在光刻工艺参数优化及光刻设备性能评价等方面有很好的应用前景。     

分步重复自动对准光刻工艺技术研究

介绍了投影光刻机的分步重复自动对准光刻系统,分析了其工作原理;从对准标记的设计、工艺与对准的关系两方面进行了论述,阐述了采用这类自动对准系统的光刻机可能遇到的工艺问题,并提出了相应的解决措施.     

光刻机光强影响因素分析

曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向。     

X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究

作为微细加工技术之一的高分辨率光刻技术--同步辐射X射线光刻(XRL)可应用于100nm及100nm节点以下分辨率光刻,高精度对准技术对XRL至关重要,直接影响到后续器件的生产质量。目前国内的XRL对准系统主要采用CCD相机和显微物镜采集图像,经过计算机图像处理程序进行自动对准;图像边缘分辨是图像处理部分的关键,直接决定了对准精度。针对3种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的研究,并且初步设计了几种对准标记。     

基板二次预对准定心定向数学模型的研究

高精度的预对准分系统是设计现代光刻机需要解决的核心问题之一。在光刻机上载基板的工作过程中,需要进行多次基板对准,主要有:基板预对准、基板二次预对准、基板对准。为了建立基板二次预对准定心定向数学模型,基于基板二次预对准的工作原理,提出了计算定心定向的算法,对该算法进行了仿真分析,并根据输入输出建立了定心定向数学模型。该数学模型的建立,为提高二次预对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。     

DSW投影物镜的温控系统

ＤＳＷ投影物镜的温控系统王继红（中国科学院光电技术研究所四川双流６１０２０９）１引言分步投影光刻机是集成电路专用设备中的关键设备。随着光刻精度的提高，光刻机对环境的要求也越来越高，如对环境温度、压力、振动、洁净度等。虽然光刻机工作在超净恒温的环境下，...     

晶片传输系统中切边探测和预对准技术

介绍投影光刻机设备的晶片传输系统中切边探测和晶片预对准技术。     

基于USB2.0与CPLD的光刻机底面对准系统设计

介绍了光刻机底面对准系统的基本原理,并分析了传统底面对准系统存在的缺点,给出了基于USB2.0与CPLD的光刻机底面对准新系统的设计方案。论述了系统硬件和软件的实现,并对其中的关键模块进行了深入分析。与传统底面对准系统相比,该对准系统成本降低约70%,同时,系统的可靠性大幅提高。实验表明,该系统的底面对准精度达到0.25μm,满足系统设计要求。     

双面对准曝光中关键技术研究

对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究 ,并通过多年工作实践经验 ,对对准工作台的精度分析作了论述。     

0.6NA、364nm波长激光束直接描画机的对准性能

本文提出了一台高分辩率激光扫描光刻系统的对准性能数据。该系统采用了通过成像物镜进行对准的同轴对准原理(TTL),其具有多束光路、亮场和暗场照明及高低倍放大光学系统的特点。整机的总套刻精度优于0.1μm。