反切刀片复合平面一次磨削法

四川读者刘进同志来信说，要求介绍有关反切刀片复合平面一次磨削方法。在刀具加工中常遇到由两种角度组成的复合平面。对这类平面的加工，我厂采用了一种新的加工方法，即复合平面的一次磨削法。观介绍如下。一、反切刀片的磨削部图1所示，反切刀片的A平面和B平面为复合干面，均由ic30’和2”两种角度组成。在加工这种复合平面时，将刀片直接吸在平面磨床（M7130）工作磁台上（见图2），刀片与磁台边缘、线的夹角为PI（36o61’54”），磁台与水平方向的夹角为P。。（2”29’57”），经磨削加工即可磨出刀片A平面（复合平面）。加工B平…     

中压VRM的拓扑结构及平面集成磁件的研究

本文针对中压VRM的两种高效的拓扑结构,结合交错并联技术,同步整流技术进行了分析,比较了各自的优缺点,对两种高效的拓扑结构的磁件进行了平面磁集成的研究,并用Saber软件和有限元Ansoft软件进行了仿真分析。     

一种简单的大口径全息平面干涉仪

一、引言全息平面(或球面)干涉仪采用了全息干涉的一次曝光法或二次曝光法,相对于传统的平面(或球面)干涉仪,除少用光学元件外,更主要的是由于全息图具有位相误差补偿作用,大大降低了对仪器中主要光学元件的质量要求,从而使得研制大口径的平面(或球面)干涉仪成为现实。在国内也已有多人报道了这方面的研究成果。本文提出了一种结构十分简单的大口径平面干涉仪,除了激光光源部分外,仅用了一个用于大光束扩束的倒置望远系统和一个作为平面标准的平面反射镜。由于结构简单,所以调整方便,在一般的实验室或光学车间均能实现。     

新型磁台

经过多年摸索和不断改进,我厂制成了平面磨削和高速铣削用的一套新型磁台,共七种类型。下面简单地介绍一下I型磁台的结构、原理、元件、附件及其优越性。结构 I型新型磁台由磁源和面板两大部分组成。 1、磁源部分磁源必须满足两个要求:一是能产生很强的磁通;二是要使N,S极处磁场强度相等。磁源的结构见图1。铜支承板的作用是增加磁源中部的刚性。     

新型磁台

经过多年摸索和不断改进,我厂制成了平面磨削和高速铣削用的一套新型磁台,共七种类型。下面简单地介绍一下Ⅰ型磁台的结构、原理、元件、附件及其优越性。结构Ⅰ型新型磁台由磁源和面板两大部分组成。1.磁源部分磁源必须满足两个要求:一是能产生很强的磁通;二是要使 N,S 极处磁场强度相等。磁源的结构见图1。铜支承板的作用是增加磁源中部的刚性。     

平面磁研磨使用铁粉混合磨料的研究

使用铁粉混合磨料对硬质材料的平面磁研磨方法，可大幅度提高研磨效率，降低磨料成本，并能得到表面粗糙度Ｒｍａｘ＝０．０５μｍ的超精密研磨的效果。     

平面光学元件的全固着磨料高效加工

详细叙述了平面光学元件的全国着磨料高效加工的工艺过程和如何确定工艺技术参数。     

大口径平面光学元件的磁流变加工

为了实现大口径平面光学元件的高精度加工,开展了磁流变加工技术的研究。介绍了磁流变加工原理及去除函数的数学模型。根据磁流变加工的特点,建立了元件整体加工的工艺流程,给出了元件加工的工艺要素。然后,开发了抛光斑的提取软件,并基于轨迹段划分的速度模式开发了工艺软件,分析了工艺软件的各项功能模块。最后,基于元件加工的工艺流程,对一件800mm×400mm的元件进行了加工实验。利用检测设备测得了元件的低、中、高频的加工指标,其低频反射波前PV值为34nm,中频波前功率谱密度(PSD1)值为1.7nm,高频粗糙度Rq值为0.27nm。实验显示了较好的实验结果,验证了利用磁流变加工技术实现了大口径光学元件的高精度加工的可行性。本文还阐述了磁流变加工技术在高功率激光元件中应用的优点。     

皮尔磁PSS4000：简单即美好

过去几年里，皮尔磁凭借其在安全技术领域的大量创新而引人注目。尽管这些技术中有许多是起源于传统自动化环境和标准的控制技术。皮尔磁全新的自动化系统PSS4000的首批元件，可作为对未来解决方案的一个预不。     

浅析闭环霍尔电流传感器关键器件选型

霍尔电流传感器是磁与电相结合的产物,从其关键器件霍尔元件和聚磁元件磁芯入手,涉及磁芯材料、气隙开口、霍尔元件选型等方面介绍了闭环霍尔电流传感器设计的关键步骤,将其应用于实际产品开发中,为从事该类传感器的设计人员提供技术参考。     

电磁MEMS磁珠操控微线圈三维磁场数值计算与模拟

磁珠具有偶联容量高、比表面积大、易于操控等特点,基于磁珠技术的电磁MEMS可实现磁珠液滴非接触式操控,其微线圈三维磁场分析是磁珠操控优化设计的基础.对静态液体磁珠操控进行了理论分析,确定了影响磁珠操控的主要因素,并应用毕奥-萨伐尔定律和积分方程法,对关键部件微线圈的三维微磁场分布特性进行了分析.运用成熟的商业有限元分析工具Ansys建模分析微线圈三维静态磁场,所得结果与数值计算方法进行了比较,表明所用方法对于磁珠微系统三维恒定磁场的分析是可行的.     

平面轮系机构运动分析的研究

平面轮系机的运动分析对进行轮系机构分析与设计具有重要的意义.平面轮系机构都是由两种轮系基本回路单元组成,根据平面轮系机构结构的组成特点,运用轮系机构各构件间相对运动关系,构建了轮系机构基本回路单元的运动分析方程,由轮系机构基本回路单元组信息构造出轮系机构运动分析数学模型,并给出了平面轮系机构运动分析自动化的流程图.通过实例计算检验,该数学模型所得的计算结果与所参考文献的计算结果一致,该模型易于模块化,计算机能自动生成.     

非接触电能传输关键技术研究

非接触电能传输采用电磁耦合感应的方式进行电能传输,具有无磨损、可靠性高、柔性好、安全性高及使用寿命长的特点。非接触电能传输系统研究的主要问题是提高传输效率和适用性。建立了基于互感参数的耦合模型,用反映阻抗分析了初次级电路的相互能量交换及相互影响。研究了功率补偿的方法和适用范围,对初次级绕组进行了详尽的补偿分析,设计了初次级绕组的补偿方案。对耦合环节进行了实验研究,利用平面变压器技术,将线圈整合在电路板上,在保证传输效能的基础上,有效减小了传输系统的体积。     

扩散硅力敏传感器平面工艺CAD——制作扩散电阻的工艺参数设计

扩散硅力敏传感器ＣＡＤ 的技术包括３ 大部分：传感器平面工艺ＣＡＤ;传感器芯片结构ＣＡＤ;传感器结构ＣＡＤ．平面工艺ＣＡＤ 是根据半导体技术的理论,将氧化、注入、退火、再扩、腐蚀、淀积等工艺的物理模型用数学语言建立起数学模型,再利用计算机进行数值计算,使传感器芯片平面工艺流程的实验过程移植到计算机上进行,通过对工艺参数仿真计算,实现了传感器平面工艺的ＣＡＤ技术。制作传感器扩散电阻需要多个平面工艺步骤,每个工艺步骤都需要确定几个工艺参数,而任意一个工艺参数的变化都将对器件的最终特性有影响。因此在设计传感器时,平面工艺的ＣＡＤ技术将起到重要作用。扩散硅力敏传感器平面工艺ＣＡＤ是基于ＩＣＥＣＲＥＭ 软件进行的。     

电磁型平面微电机及其制作工艺

为得到一种尺寸小、输出力矩大、转速高的直流可调速微电机,提出了一种利用微机械加工工艺制作微电机的方法。定子和转子都做成平面结构,定子线圈采用了平面型、无槽式集中绕组;线圈之间采用了三相星形连接方式,采用了微机械LIGA工艺和硅微机械加工工艺;转子采用钕铁硼永磁材料,进行轴向充磁,成辐射状间隔分布。装配时转子分布于定子两侧,不但减小了电机尺寸,还有利于定子的散热。把装配完毕的微电机接通三相半控控制电路对其转速和力矩进行了测试,测试结果表明,电机运转平稳,输出力矩大。     

二维工作台控制系统设计及精度分析

对二维工作台控制系统进行了研究,采用滚珠丝杆副和直线滚动导轨副的传动方式,选用直线光栅尺作为工作台的反馈元件,控制系统的核心为工控机和运动控制卡,利用固高GE400运动控制卡发出脉冲信号控制伺服驱动器对工作台机械部分进行实时的操控。在VC＋＋6.0设计环境下开发工作台的控制软件,实现了多轴控制。使用双频激光仪获得工作台的系统误差曲线,采取水平分割的方法对误差曲线进行分割,获得各区间的误差补偿数据,通过软件控制对工作台各行程区间进行误差补偿,通过理论计算和实验测得补偿后的数据对比,验证了该补偿方法的可靠性,对于提升二维工作台的精度具有积极的意义。     

微机电火工品薄膜结构换能元

为了满足MEMS火工品的小型化、集成化和低能发火等要求,本文基于MEMS技术,设计了一种平面"蛇"形结构的薄膜换能元,采用磁控溅射等MEMS薄膜制作技术,完成了不同薄膜桥区电阻和基底材料薄膜换能元样品的制备,采用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM),低电阻测试仪、红外热像仪等设备,完成了不同换能元样品结构(薄膜桥区线宽、长度及厚度等)及性能(电阻、电热响应等)参数的测试与表征。通过分析研究,获得了薄膜桥区电阻材料、基底材料、薄膜厚度以及桥区结构形状对换能元性能的影响规律,优选确定以金属Pt和7740玻璃作为换能元电阻及基底材料,发火性能达5V/33μF,满足MEMS火工品的低能化要求。     

一种新型平面零收缩LTCC基板制造技术

LTCC基板烧结过程中的烧结收缩率和收缩不均匀性极大地浪费了材料的使用空间,并影响到了电路图形的对位加工精度,限制了LTCC在高密度模块组件中的应用。文中介绍了目前零收缩LTCC基板制造技术的发展情况及其核心技术,并且自主开发了一种新型的平面零收缩LTCC基板制造技术,实现了0.5%±0.05%的基板平面烧结收缩率控制,并对关键因素进行了研究,最后通过实例展示了该技术的应用情况。     

核电产品奥氏体不锈钢材料磁导率控制工艺

核电产品中的奥氏体不锈钢材料对磁导率有严格要求(磁导率μ≤1.3),而按国标采购是因化学成份的差异会导致每批次材料磁导率不同,同时在产品生产、加工、转运、焊接过程中也会造成磁导率变化,满足不了产品使用要求.通过对核电产品常用奥氏体型不锈钢材料结构和组织分析,从微观原理、组织状态、化学成分对磁导率的影响等多方面进行分析,其中化学成分对磁导率的影响最大,因此通过化学成分的调节,使材料获得稳定奥氏体组织和采用稳定有效的工艺措施是保证产品磁导率合格的关键.