负性自增感光敏聚酰亚胺的改性研究

提出了一种在主链中引入硅氧烷结构的方法来改善自增感光敏聚酰亚胺的某些物性。在其合成过程中,采用二本甲酮四羧酸二酐,带侧烷基的芳香族二胺以及含硅氧烷结构的芳香族二胺进行三元规则缩聚,最后合成出预想结构的光敏聚酰亚胺。通过ＩＲ,ＤＳＣ,ＵＶ,介电分析方法对ＰＳＰＩ的结构,感光性能,热性能,粘附性,吸湿性能等进行了表征,对结构与性能之间的关系进行了初步探讨。     

不饱和聚酯-环氧树脂嵌段共缩聚型光敏预聚物的合成与应用

提出了一种由不饱和聚醋和环氧树脂嵌段共缩聚，合成一类新型光敏预聚物的方法．该光敏预聚物采用两步法合成．第一步先合成具有一定分子量和端羧基的不饱和聚酯，第二步使该不饱和聚酯与环氧树脂反应，生成嵌段共缩聚物．该光敏预聚物的分子量通过调节不饱和聚酯的分子量控制．不同分子量的光敏预聚物呈现出不同的光敏性和力学性能．     

Salen金属配合物水解动力学拆分环氧氯丙烷研究进展

环氧氯丙烷通过水解动力学拆分可得到手性环氧氯丙烷。手性环氧氯丙烷是具有很高价值的中间体，被广泛应用于医药、材料等领域。Salen是指两个相同的醛分子和一个二胺分子缩合生成的碱，其与金属化合形成的配合物被称为Salen金属配合物，常用于手性环氧氯丙烷的合成。综述了近年来Salen金属配合物催化剂的发展历程及其用于手性环氧氯丙烷合成的研究进展，探究了水解动力学拆分过程中催化剂的失活机理，对以Salen金属配合物为催化剂合成的手性环氧氯丙烷的应用进行了展望。     

水性环氧型光敏树脂的合成及在纸张中的应用

以环氧树脂、丙烯酸、马来酸酐为原料合成水性光敏树脂。讨论了催化剂用量、反应温度、反应时间等因素对合成水性光敏树脂性能的影响。并初步研究了其在纸张湿部添加中的应用工艺，对其影响因素进行了讨论。结果显示：经过水性光敏树脂涂布后，纸张的物理性能得到了明显的改善。     

新型Gemini表面活性剂的合成

以三氯氧磷与环氧氯丙烷为原料合成了1种新型中间体,再通过季铵化反应合成了系列新型季铵盐Gemini表面活性剂.通过正交实验确定了合成中间体的最佳反应条件为:三氯氧磷:环氧氯丙烷(摩尔比)=1:5,反应温度控制在110～120℃,反应时间为5 h.所得中间体及3个最终产物经提纯后通过FIR、13C-NMR进行了结构验证.     

2,5-二乙氧甲基-1,4-苯醌的合成

以对苯二酚为起始原料,通过4步反应、2条中间体合成路线,合成了2,5-二乙氧甲基-1,4-苯醌.在反应过程中,优化了中间体氯甲基化反应工艺,通过比较中间体合成工艺,得出了选择乙氧基中间体合成路线为优化合成工艺的结论.     

3-羟基苯乙酮的化学分析法

分别采用溴量法、肟化法和重量法对药物合成中间体3-HPE的含量进行测定,并对三种方法进行了比较.结果表明,溴量法操作简便,重现性好,干扰较少,准确度较高,适于工厂车间中间体快速分析使用.     

中间体结构对丙酸聚醚性能的影响

采用先合成中间体，再合成目标产品低沸点酸起始剂聚醚的合成工艺，合成了中间体结构不同，主体结构相同的丙酸系列酯醚，并通过测试它们的物理化学性能，总结了中间体结构对性能的影响规律。     

3—羟基苯乙酮的化学分析法

分别采用溴量法、肟化法和重量法对药物合成中间体３－ＨＰＥ的含量进行测定,并对三咎方法进行了比较,结果表明,溴量法操作简便、重现性好,干扰较少,准确度较高,适于工厂车间中间体快速分析使用。     

水基型特种光敏树脂的合成与交联特性

以甲苯为溶剂、二甲苯胺为催化剂试验了水基型光敏甲基丙烯酸改性F44树脂合成的可能性,实验发现,该反应体系中反应的总转化率明显低于二氧六环作溶剂、溴化季胺盐作催化剂时的实验结果;探讨了水基型光敏甲基丙烯酸改性F44树脂的基团含量与树脂水溶性的半定量关系以及活性稀释剂、热交联剂的用量与漆膜性能的关系.实验表明,当活性稀释剂TMPTA用量(双键数):改性胶用量(双键数)=1:1.11、水基型光敏树脂∶马来酸酐=6.25:1(w:w)时,漆膜热固化后力学性能相对较好,硬度可达6H,耐酸性、耐溶剂性较好,但耐碱性差,耐热性达210 ℃.     

含肉桂基的光敏聚酰亚胺的研究光敏树脂的合成

本文论述了一种含肉桂基的负性光敏聚酰亚胺预聚体的合成与分析.研究确定了均苯四酸二酐与肉桂醇开环反应的适宜介质、反应温度与时间.对于二元酰氯与二元胺在 N—甲基吡咯烷酮(NMP)溶剂中进行低温缩聚合成光敏树脂的过程进行了研究.此外,用红外、紫外、凝胶渗透色谱、元素分析等手段对光敏树脂的组成与某些结构性能进行了表征.根据元素分析的结果用微机程序进行了酯化值的测算,在此基础上,推定了光敏树脂的结构.     

Preparation of A Novel Hybrid Type Photosensitive Resin for Stereolithography in 3D Printing and Testing on the Accuracy of the Fabricated Parts

A novel hybrid type photosensitive resin for stereolithography in 3D printing was prepared with bisphenol A type epoxy diacrylate (EA-612), tripropylene glycol diacrylate (TPGDA),ethoxylated trimethyolpropane triacrylate(EO_3TMPTA), cycloaliphatic diepoxide(ERL-4221),polycaprolactonepolyol(Polyol-0301),1-hydroxy-cyclohphenyl ketone(Irgacure184), and a mixture of triarylsulfonium hexafluoroantimonate salts (Ar_3SS_bF_6). The novel hybrid type photosensitive resin was the photosensitive resin of an epoxy-acrylate hybrid system, which proceeded free radical polymerization and cationic polymerization in ultraviolet (UV) laser. Cuboid parts and double-cantilever parts were fabricated by using a stereolithography apparatus with the novel hybrid type photosensitive resin as the processing material,and the dimension shrinkage factor and the curl factor were tested. The shrinkage factor was less than 2.00%,and the curl factor was less than 8.00%, which showed that the accuracy of the fabricated parts was high with the photosensitive resin for stereolithography in 3D printing.     

Development of a Hybrid Photopolymer for Stereolithography

1 IntroductionRapid Prototyping (RP) was developed as a newmanufacture technique and considered a significant break-through in the field of manufacturing in the past 20years[1-4].The principle of RPis based on layer additivefabrication. Firstly, a three-dimensional object modelfromcomputer-aided design (CAD) is divided into manythinlayers by delaminatingsoftware .Thetwo-dimensionaldata of eachthinlayer control alaser beam,whichirradi-ates many materials like resin point-by-point ,and solid…     

半酯法合成环氧丙烯酸酯型光敏涂料

开发了一种用半酯法合成环氧丙烯酸酯型光敏涂料的方法。法首先使顺丁烯二酸酐与丙烯酸羟乙酯进行开环反应制和半酯化合物，然后使之和环氧树脂或环氧大豆油反应，制和光敏预聚物，以这些光敏预聚为基，在光敏引发剂和各种活性稀释剂的存在下，制得了代号为EP和SOYA的两种光敏涂料，并对其光固化膜的物性进行了表征。     

Preparation of a Novel Cationic Photosensitive Resin(3D-SLR01) for Stereolithography 3D Printing and Determination of Its Some Properties

A novel cationic photosensitive resin(3 DSLR-01) for stereolithography 3 D printing was prepared with 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexane carboxylate(2021 P),1,4-cyclohexanedimethanol glycidyl ether(JX-026), diglycidyl 4,5-epoxycyclohexane-1,2-dicarboxylate(S-186), polycaprolactone polyol(Polyol-0305), novolac epoxy resin(F-51), bis(3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether(S-221) and a mixture of triarylsulfonium hexafluoroantimonate salts solution(UVI-6976). The properties of the photosensitive resin and its UV-cured films were investigated by some instruments and equipment.The experimental results show that the critical exposure(Ec) of the photosensitive resin is 16.3 mJ/cm~2, the penetration depth(D_p) is 0.14 mm, and the optical property of the photosensitive resin is excellent. Rectangle plates were printed by using a stereolithography apparatus(HRPL-150 A) with the photosensitive resin as the manufacturing material, and the shrinkage rates of the plates were less than 0.60%, which showed that the accuracy of the manufactured plates was very high.     

酞菁铜薄膜光电晶体管的制备与特性

无机光敏器件难于做成大面积光电传感器,且其生产成本高、工艺复杂,而有机光敏器件多采用二极管或平面场效应三极管结构,导致光电流增益小或驱动电压较大.针对这些问题,提出一种新的器件结构.采用真空蒸镀和溅射的方法,制备了结构为氧化铟锡(ITO)/酞菁铜(Cu Pc)/铝(Al)/酞菁铜(Cu Pc)/铜(Cu)的有机光电晶体管.对器件的光电特性进行了测试分析,结果显示晶体管的I-V特性表现出显著的不饱和特性和光敏特性.当发射极集电极偏压为3 V时,器件无光照时电流放大系数为16.5,当625 nm光照射时的电流放大系数为266.2.     

合成光敏聚酰亚胺的一种改进方法

均苯四酸二酐和二氨基二苯醚经溶液缩聚得到的聚酰胺酸与异酰亚胺化试剂ＤＣＣ反应制得聚异酰亚胺，进而与光敏剂丙烯酸羟乙酯经开环反应合成了光敏聚酰亚胺树脂。     

可溶性还原染料染色锦纶的防光脆化研究

本文在可溶性还原染料对锦纶的染色工艺试验的基础上,着重对防光脆化问题进行了研讨。试验表明:印地素金黄IRK和妃红IR是促使锦纶纤维光化降解的光敏染料。光氧化作用是纤维光脆化和染料光褪色的主要原因。对苯二酚后处理,能有效地防止纤维光脆化和染科光褪色。