添加微量元素的Fe膜的磁特性

<正> 一、前言Fe 系膜用作高密度磁记录磁头材料,它能满足对高饱和磁化、高导磁率的要求,因而受到人们的重视。我们在开发 Fe 系膜磁头材料时,通过可以严密控制成膜条件的双离子束溅射法(DIBS),制备了纯铁膜,并就其结晶性和磁特性之间的基本关系进行了探讨。为了把 Fe 系膜实用于磁头材料,如图1     

高矫顽力铁氧体膜的制作及其在硬盘介质上的应用

采用溅射法制作高密度硬盘所必须的钡铁氧体膜及其磁特性的改进。垂直磁记录介质用的钡铁氧体溅射膜采用Xe（氙）溅射法来制作，可以将矫顽力控制在160kA／m（2kOe）左右，并改善了饱和磁化值。另外，在Co系铁氧体膜中，通过Co离子与Zn的置换，可将其作为记录介质显得过高的矫顽力239～320kA／m（3～4kOe）控制在80～320kA／m（1～4kOe）之间。实际上，对Co－Zn铁氧体股制作的硬盘进行记录和重放的实检表明膜的结晶性及矫顽力的大小对记录特性有很大的影响     

MIG组合式磁头的特性和应用

<正> 前言在磁记录领域中,随着存储量的增加,人们围绕如何提高记录密度,进行了种种研究。为了提高记录密度,要从缩小磁道宽度和提高线记录密度这两方面努力。若要提高线记录密度,就需要提高磁记录介质的矫顽力。与此相应,磁头也就必须在高矫顽力的磁记录介质上产生尽可能充分的记录磁场。原来的铁氧磁头饱和磁化强度小,产生的磁场太弱,不能满足在750～800 Oe 的高矫顽力介质上进行高密度记     

高矫顽力铁氧体膜的制作及其在硬盘介质上的应用

采用溅射法制作高密度硬盘所必须的钡铁氧体膜及其磁特性的改进。垂直磁记录介质用的钡铁氧体溅射膜采用Ｘｅ（氙）溅射法来制作，可以将矫顽力控制在１６０ｋＡ／ｍ（２ｋＯｅ）左右，并改善了饱和磁化。另外，在Ｃｏ系铁氧体膜中，通过Ｃｏ离子与Ｚｎ的置换，可将其作为记录介质显得过高的矫顽力２３９￣３２０ｋＡ／ｍ（３￣４ｋＯｅ）控制在８０￣３２０ｋＡ／ｍ（１￣４ｋＯｅ）之间。实际上，对Ｃｏ－Ｚｎ铁氧体膜制作的硬盘进     

R-DAT磁场复制用Ba铁氧体磁带

<正> 1.前言作为下一代磁带录音机,人们寄希望于旋转磁头型数字录音机.(R-DAT),并已开发出适用于 R-DAT 格式的磁场复制用 Ba 铁氧体磁带。R-DAT 格式系统的体积,相当于小型盒式录音机的一半,其音质胜过 CD 唱片,连续记录时间最长可达2小时,它采用螺旋扫描、方位角记录方式,使用 MP 金属磁带和 MIG 磁头,从而实现了高记录密度,即线密度为61 kBPI(=76 kFRPI),面密度为114 MB/I~2。     

高饱和磁感值非晶态磁头合金的研究

<正> 一、序言近年来,磁记录技术的特点是记录密度高、动态范围宽、结构微型化。许多高质量的录象机、录音机座和微型录音机等越来越多地采用新型高矫顽力金属磁带,因此,要求匹配金属磁带的磁头前隙泄出的磁通密度应足够大,而前隙泄出磁     

射频溅射CoCr双层膜及软磁盘的研究

本研究利用射频溅射法制备了垂直磁记录用正CoCr单层膜及NiFe/CoCr双层膜。研究了溅射压力Prf、基板温度Tsb对CoCr合金层(002)面△θ50角,矫顽力Hc⊥、Hc∥有效各向异性场HK*及正方比S⊥、S∥的影响。可以控制溅射条件使单层CoCr膜(002)面△θ50在5°以内,双层膜CoCr层△θ50在10°以内,而在较宽的范围内调整Hc⊥、Hc∥值。选择一定溅射条件制备了NiFe/CoCr双层膜软盘,并利用市售普通纵向记录的51/4英寸软盘机驱动装置及其环形磁头对该盘进行了读写实验,表明可以实现垂直方式的写入和读出。     

膜厚对GdTbFeCo非晶薄膜磁光性能的影响

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了GdTbFeCo非晶薄膜,通过调节溅射时间制备出了不同厚度的薄膜,并研究了膜厚对薄膜磁光性能的影响。磁光特性测试仪的测试结果表明:溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,可以使GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力和克尔角达到较大值,分别高达4575.476Oe和0.393o。能满足磁光记录材料矫顽力大,磁光克尔角大的要求。     

双离子束溅射氮化铁薄膜的构造和磁特性

<正> 一、前言铁,其资源丰富,原材料通用性强,所以它广泛用于各个领域。特别是高纯度的铁,作为磁性材料,它具有高饱和磁化强度(4πMs-21.5kG)和低矫顽力等优越的软磁特性。随着高矫顽力的 CoCr 和 Ba 铁氧体等高密度垂直磁记录介质的开发,铁作为这些膜的底层或记录、再生磁头的材料,在磁记录领域也引起了人们的重视。众所周知,通过添加第2种元素,铁的磁特性会从软磁到硬磁发生很大的变化。例如钴     

磁带的摩擦——有关理论及测定

<正> 随着磁记录系统向高密度、高分辨率和高速度的方向发展,为保证信息存储和输出的可靠性,要求磁头和磁带的接触愈来愈紧密,磁带的耐磨性和耐用性愈来愈高。同时,还要求磁头和磁带的接触张力及带速在运转过程中保持恒定。因此,如何减少磁带与磁头及驱动部     

铁微粒子包覆镍化合物对其形态和磁特性的影响

由于铁微粒子的矫顽力和饱和磁化强度都很高,故可以用作制造高密度磁记录介质的磁性材料。为了提高磁记录介质的电磁转换特性,磁性材料必须微粒子化。假若铁粉实现了微粒子化,则其矫顽力就会变得过高(超过必要值以上),从而难以进行磁头记录,电磁转换特性也会下降,所以有必要在不影响粒子尺寸的前提下对矫顽力加以控制。因此,研究了控制矫顽力的方法,也就是在铁微粒子表面形成由 Ni—Fe 合金内层和硅酸外层构成的双层覆膜,并通过调整 Ni—Fe 合金层的量来控制矫顽力。结果发现借助于这种双层覆膜的形成,可以控制覆膜对铁微晶生长的抑制作用,并能够在不改变铁微粒子的骨架粒子形状的前提下,控制其矫顽力。     

磁记录技术基础 第三章 重放过程

<正> 重放过程是记录过程的逆过程,即录有信号的磁带经过重放磁头时,磁带上的磁通穿过磁头线圈感生出重放电压的过程。我们可以简略地用如下方框图表示:     

上海科技信息

上海磁带厂研制开发与引进改造相结合试制成功的上海牌S-AD型高动态、高保真、立体声优质盒式录音磁带于今年六月通过鉴定。参加会议的代表一致认为该带性能超过了日本TDK-D型磁带,主要电声性能已达到TDKAD型水平。它是录制高动态、高保真、立体声音乐的优质磁带,具有最大输出电平(MOL),饱和输出电平(SOL)高,动态范围大,噪声低等特点,填补了空白。该产品采用了热固性粘     

磁记录技术基础 第四章 磁头

<正> 磁头分为记录磁头、重放磁头和消磁磁头。它们的作用是:记录磁头将电信号记录在磁介质上(磁带、磁盘等),重放磁头把记录在磁介质上的磁信号转换成电信号,而消磁磁头则是将记录在磁介质上     

磁带

<正> 1.磁带的构造根据在第四讲讲述的磁头,本讲座第二讲、第三讲所说明的磁记录,是指在磁带上的记录。本章先概述一下这种磁带的构造和成份,而后对直接承担磁记录的磁粉进行说明,接着介绍磁带制造工艺过程,并对磁带的诸因素与其特性的关系加以简单说明:最后,还要提及磁带使用操作时的注忌事项。     

含有石墨氟化物金属录像带的特性和耐久性

<正> 金属磁粉常用于高记录密度的优质音频盒式带。最近,在美国和日本出售的8 mm 录像机所使用的磁带就是金属粉磁带。录像机磁头要经受高速走带的摩擦,所以为了获得记录的可靠性和重放特性,对磁层与磁头间界面的摩擦阻力的要求是很严格的。磁带表面的机械磨损和某些缺     

磁记录用金属粉初探

一、金属磁粉的特点及其发展近年来,世界上磁粉及磁带工业的发展速度是惊人的,其中,金属磁粉的研制进展很快,在国外,有些方法已经工业化。主要是由于金属磁粉能够适应日益发展的高密度磁记录的要求。金属磁粉与氧化物磁粉相比具有矫顽力高、饱和磁通密度大等特点,有     

改善含钴Fe_3O_4磁特性的方法

含钴Fe_3O_4。磁特性的改善方法是将材料在饱和磁场下按规定方向进行磁化,当除去磁场时,材料将保留一定的磁化强度通常称之为剩余磁化强度,简称剩磁、随后将次材料加热进行退火处理,上述过程,有效地提高了材料的矫顽力,磁带迴线矩形比,以及加压减磁的阻抗。     

高密度硬磁盘用Ba铁氧体薄膜

本研究应用对向靶溅射装置（FTS）制备Ba铁氧体薄膜，并对该膜进行热处理，研究了成膜时的基板温度对热处理后的结晶构造及磁特性的影响。研究结果得知，通过热处理薄膜得以晶化，而且结晶构造是随成膜时的基板温度而变化的。在室温下制成的薄膜，其矫顽力大体与500℃下成膜的矫顽力相等，约为239kA／m（3kOe）。另外，基板温度300℃时制成的薄膜，其矫顽力在119kA／m（1．5kOe）以下。成膜时的基板温度影响热处理后的结晶构造及磁特性，室温下形成的薄膜可能具有作为高密度磁记录介质更为优异的磁特性     

盒式磁带:请你想到带盒

<正> 当业余爱好者们关心盒式磁带时,他们的主要注意力是放在带盒里的磁带上。然而,带盒在获取录音效果方面同样起着决定性作用。长期以来,BASF公司研究了盒式磁带带盒并送来了有关信息,我们摘录了它的要点。与人们经常想象的情况相反,盒体对盒式磁带的导带只起次要作用。盒体主要是使盒式磁带自身保持在一个恰当的位置,大量的工作是由靠近录音磁头或消音磁头的一个U形导带装置来完成的。磁带的准确导向必须以调整好磁头的高度