光存储技术与光盘刻录

世界光存储技术的迅猛发展使得光盘刻录技术成为影视技术中的一个崭新领域，本文对目前在市场占主导的CD－R／RW刻录技术的操作过程进行了详细介绍，并对DVD光盘存储技术必将取代CD-R存储的发展趋势进行了论证和展望。     

光存储技术与光盘刻录

世界光存储技术的迅猛发展使得光盘刻录技术成为影视技术中的一个崭新领域,本文对目前在市场占主导的CD-R/RW刻录技术的操作过程进行了详细介绍, 并对DVD光盘存储技术必将取代CD-R存储的发展趋势进行了论证和展望.     

影响光存储介质信息存储质量的因素暨提高光存储介质信息存储质量的方法

本文从盘片质量、刻录设备、使用和保管方法等几个方面对影响常用光存储介质（CD、DVD）信息存储质量的因素进行阐述;通过针对性研究、实验,初步形成提高光存储介质信息存储质量的有效方法和光存储介质的保管方法。     

磁光盘记录介质的发展前景

近年来 ,磁性记录介质在高密度、高性能、大容量、小型化和数字化方面不断取得重大发展。计算机数据记录市场的磁性记录介质迅速由磁带和软磁盘向磁光盘转变。据日本记录介质工业协会(ＪＲＭＩＡ)对信息记录介质的生产和市场调查 ,软磁盘的世界市场需求量从 1 995年的顶峰迅速下滑 ,Ｚｉｐ盘 ,ＭＯ磁光盘和一次性刻录ＣＤ光盘等一系列存储介质的市场需求量不断上升。在各种计算机使用的可擦写记录介质中 ,3 5英寸磁光盘 (ＭＯ)和驱动器使用极为普遍。目前 ,日本是 3 5英寸磁光盘 (ＭＯ)和驱动器的主要市场 ,约占全世界销售量的 80 % ,其它…     

磁场调制直接重写磁光存储介质的记录特性研究

用直流共溅射方法制备了富稀土－过渡族金属非晶态合金薄膜，用数值计算的方法计算了激光照射下多层膜结构盘片的温度场分布，分析了盘片材料成分和结构对热磁记录的影响，对盘片结构进行了优化设计并选定了合适的磁光层和电介质层厚度。实验盘片可在低偏场和低激光功率下记录，盘片的读写性能基本符合２．５英雨可擦重写磁光盘（ＭｉｎｉＤｉｓｋ）的使用要求。     

可擦重写光盘记录介质材料及其特性

可擦重写光盘因其能对已写入文件进行改写,因此比只读光盘、一次写入光盘具有更大的灵活性,从而具有很好的应用前景。论述了两种可擦重写光盘记录介质即磁光盘记录介质与相变光盘记录介质的记录机理,并详细阐述了两种记录介质的性能要求。     

频域光存储和全息术

本文通过分析光谱烧孔的全息探测法,提出了全息频域光存储系统,并分析了系统的特性指标。计算机模拟分析结果表明,全息频域光存储技术是一种大容量并行光存储新技术。     

光存储材料及其存储机理

对卤化银胶片、全息材料、光谱烧孔材料、电子俘获材料等及其光存储机理进行了综述,介绍了清华大学光盘国家工程研究中心在基于卤化银胶片的多波长光存储等方面所做的一些工作.     

石榴石型磁光存储材料

稀土铁石榴石薄膜被认为是最具应用的前景的下一代磁光记录材料。稀土铁石榴石薄膜具有高的矫顽力，良好的热，化学稳定性及强的磁光效应等特点；特别是当Ｂ＾３＋和Ｃｅ＾３＋离子部分取代石榴石结构中的稀土离子后，可以极大地增强其磁光效应。     

相变光盘记录介质Sb-Se系和Ge-Sb-Te系合金组织及结构

按照配方熔炼制成Sb-Se系和Ge-Sb-Te系合金,对其组织结构进行了观察测试,研究结果表明,制备的合金组织比较均匀,X射线衍射结果表明,Sb-Se系合金1＃样品有Sb析出,2＃样品有Se析出,符合化学计量比的3＃样品全部形成Sb2Se3共晶体。Ge-Sb-Te系合金5＃样品有Sb析出,而符合化学计量比的4＃样品形成GeSb2Te4共晶体。     

石榴石型磁光存储材料

稀土铁石榴石薄膜被认为是最具应用前景的下一代磁光记录材料。稀土铁石榴石薄膜具有高的矫顽力、良好的热、化学稳定性及强的磁光效应等特点；特别是当Ｂｉ３＋和Ｃｅ３＋离子部分取代石榴石结构中的稀土离子后，可以极大地增强其磁光效应。本文就磁光记录的原理、磁光存储材料、稀土铁石榴石磁光薄膜的制备及其如何降低石榴石薄膜中的晶界噪声等问题作了一些探讨。     

有机光存储材料及其进展

本文介绍了光盘写入及读出过程的基本原理，并就有机光存储材料性能，作用以及当前的发展趋势进行了讨论。     

新的可擦除光存储材料

埃因霍温菲利普实验室探索到了一组既可用于模拟记录又可用于数字记录的可擦除光存储材料。这组新颖材料实际上是添加了少量掺杂的半导体——锑化镓(GaSb)和锑化铟(InSb)。它们被淀积在薄结晶层盘面上。这类新颖化合物具有利用激光能反复记录和擦除信息的特性。