TND—1特种耐磨软氮化工艺

ＴＮＤ－１（无污染低温盐浴钒氮硫共渗）新工艺能使钒原子在ＡＣ１温度以下渗入钢铁表面。用此工艺处理的４５钢和Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ的表层硬度分别可达ＨＶ０．０５１０００和ＨＶ０．０５１５００，并具有优良的综合耐磨性能的应用前景。     

低真空脉冲软氮化工艺EI

一、试验条件及方法 试验在我所研制的RZJ—9—9P型普及型真空炉中进行。该炉是外热式电炉,工作炉罐尺寸为Φ220×600mm,真空度可达1帕。 试验采用真空脉冲式工艺,工艺过程为装炉后抽真空加热,到温保持一段时间后,滴入渗剂至工作炉压,如此在一定的脉冲间隔内,在一定的脉冲压力范围内循环,直到工艺结束,过程见图1。渗剂采用甲酰胺,处理温度定在570℃,在选取合理的工作炉压后,通过对试样渗层的检验,研究了不同的脉冲压力、脉冲间隔、处理时间等对渗层的影响,并进行了盲孔试样的真空软氮化试验。     

双辉C、N、Ti渗入顺序对渗层组织及性能的影响

本文利用双辉技术在20钢表面设计了六种不同顺序C、N、Ti三元共渗的工艺方案,以研究合金元素渗入顺序对渗层的影响.用金相显微镜、EDS、XRD、划痕仪、磨损仪分别对渗层的微观组织、成分、物相、结合力、耐磨性进行了表征.结果表明:不同的合金元素渗入顺序会对渗层的形成、组织、结构及性能产生很大的影响;采用方案1～3未能在基体表面形成渗层;采用方案4得到约7μm厚渗层,渗层内含有固溶相Ti2C0.06和Ti2N,渗层的表面硬度和耐磨损性能分别较基体提高了3倍和1倍多;采用方案5、6均能获得渗层厚度为40μm、含硬质相TiC、TiN的渗层,渗层与基体结合良好,其表面硬度超过2100HV,表面耐磨损性能较基体提高了8倍以上.     

铸锡青铜表面软氮化前后/40CrNiMo的摩擦磨损性能研究

气体软氮化工艺是20世纪70年代在液体软氮化的基础上发展起来的一种新工艺。能充分发挥金属材料潜力,保证和提高产品质量,对于铸锡青铜表面软氮化后摩擦磨损作用机理的研究目前还没有。本文在ZCuSn10Pb1基体表面进行软氮化处理,与40CrNiMo组成滑动摩擦副,在M-2000型磨损试验机上进行了干摩擦工况下的滑动摩擦磨损试验研究,并根据试验数据和现象对ZCuSn10Pb1涂层的摩擦磨损性能和滑动摩擦磨损机理进行了研究。以便为各个领域应用ZCuSn10Pb1涂层提供理论依据。     

用CVI工艺制备碳纤维增强C－SiC梯度热结构材料

用化学气相渗（ＣＶＩ）工艺，分别用分段沉积和共沉积方法制取了Ｃ／Ｃ－ＳｉＣ梯度热结构材料，并比较了二者的成分梯度、性能与组织结构特征。     

渗氮与Ni－Cu－P刷镀复合处理表面的摩擦学性能

利用球－盘摩擦磨损试验机研究了边界润滑条件下４５＃钢渗氮表面刷镀Ｎｉ－Ｃｕ－Ｐ镀层的摩擦学性能．结果表明,在硬度较高且具热硬性的渗氮层上刷镀较软的Ｎｉ－Ｃｕ－Ｐ镀层,可较４５＃钢直接刷镀Ｎｉ－Ｃｕ－Ｐ镀层及未刷镀的渗氮层,摩擦学性能全面显著提高．还利用扫描电子显微镜和铁谱仪对磨损表面的成分、形貌和磨屑形态进行了分析．     

低温气体多元共渗工艺抗杂散电流腐蚀的研究

对低温气体多元共渗技术在预防杂散电流腐蚀方面的应用做了较为系统的研究。通过模拟杂散电流腐蚀试验，分析了经多元共渗后的工件在杂散电流腐蚀时的抗蚀性，并马它与原材料、镀锌试样相比较，得出低温气体多元共渗工艺可以有效地抗杂散电流腐蚀。对低温气体多元共渗后的微观组织进行了分析研究，探讨了渗层的组织成分对抗蚀性能的影响。     

低真空脉冲离子氮化工艺试验

本文就低真空脉冲离子氮化这种新设备、新技术进行了工艺试验。应用金相检验、扫描电子显微镜分析、X射线能谱分析等进行了检测分析。确定了低真空脉冲离子氮化的最佳工艺参数,制定出脉冲离子氮化的热处理工艺方案。     

40Cr钢等离子软氮化的后氧化处理研究

为了进一步提高等离子软氮化后40Cr钢的耐蚀性能,对等离子软氮化的试样进行了后氧化处理.氧化处理是在保温式等离子热处理炉内不同比例的H2和O2气氛中进行,通过X射线衍射仪和恒电位仪对复合渗层的组织结构及其耐蚀性能进行了分析比较.结果表明,在H2:O2=1:1的混合气体中进行氧化处理的试样可以获得单一相的Fe3O4氧化膜,试样的耐蚀性能最好.     

液体渗氮工艺对CrNiMo钢渗层厚度和硬度的影响

为了探讨无毒液体渗氮工艺对CrNiMo钢渗层的效果,采用正交试验方法研究了氮化温度、氮化时间和尿素添加量对CrNiMo钢液体渗氮层的脆性、渗层厚度和硬度的影响.结果表明,尿素添加量是影响渗层脆性和硬度的主要因素,氮化时间是影响渗层厚度的主要因素,氮化温度对渗层厚度和硬度的影响较小.最优渗氮工艺为570℃,氮化时间5 h,尿素添加量为50 g/h,此时渗层厚度为0.235mm,最高硬度为920HV,脆性级别为1级.     

水溶性胶态成型工艺制备氮化硅耐磨结构陶瓷

以氮化硅粉末为原料, 采用水溶性胶态成型工艺制备高耐磨氮化硅陶瓷. 采用正交设计的方法来优化制备高品质注浆料, 并研究了掺杂分散剂后Zeta电位的变化. 同时, 还对氮化硅陶瓷烧结体的显微结构、力学性能和耐磨性能进行了研究. 结果表明: 当氮化硅浆料中固相体积分数为45%时, 可制得体积密度较高的精细氮化硅陶瓷材料, 断裂韧性可达7.21MPa·m^1/2, 硬度为9.30GPa. 通过抗耐磨损实验研究表明: 干摩擦条件下, 氮化硅陶瓷发生了晶粒脆性断裂和脱落; 水润滑条件下, 摩擦表面产生了氢氧化硅 反应膜, 降低了磨损, 主要是化学腐蚀磨损.     

软顶软底开采工艺探讨

煤层顶底板岩性影响着煤炭的安全开采,软顶软底条件下开采,破碎顶板极易冒落,安全生产和煤质难以保证,通过工艺改进,解决了同类条件下煤层开采安全问题,创造了很好的经济效益。     

软顶软底开采工艺探讨

煤层顶底板岩性影响着煤炭的安全开采,软顶软底条件下开采,破碎顶板极易冒落,安全生产和煤质难以保证,通过工艺改进,解决了同类条件下煤层开采安全问题,创造了很好的经济效益。     

特种陶瓷烧结致密化工艺研究进展

特种陶瓷的性能主要取决于其烧结工艺。为获得均一致密的陶瓷结构而发展出各种各样的烧结工艺,每种工艺都有其特有的优势与不足。通过综述特种陶瓷烧结致密化工艺的研究现状,包括传统烧结方法的新工艺路线以及近年来发展的新型烧结方法及工艺,评价了这些工艺的特点、机理以及烧结致密化效果,为特种陶瓷制备工艺的选择提供参考。     

C/C-SiC复合材料熔融渗硅制备工艺

C/C-SiC复合材料具有许多优异的性能,如高比强度、高比模量、优良的高温性能、高热导率以及低热膨胀系数等.与其它制备工艺相比,采用熔融渗硅法制备C/C-SiC复合材料的工艺具有操作简单、周期短、成本低等优点.综述了目前熔融渗硅法制备C/C-SiC复合材料的研究状况.     

工艺参数对CrNx涂层性能的影响

采用直流磁控溅射技术制备了氮化铬(CrNx)涂层,研究了制备CrNx涂层的工艺参数对所制备的CrNx涂层的膜基结合力及力学性能的影响。研究结果表明:工艺参数对CrNx涂层性能的影响不成各向同性关系;在较低的N_2含量、较高的脉冲偏压、约100V的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的硬度较高,而在较低的N_2含量、恰当的脉冲偏压和占空比配对、较高的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的表面形貌较好。     

工艺参数对铁尾矿合成Si_3N_4粉的影响

以铁尾矿和碳黑为原料,采用碳热还原氮化法合成Si3N4粉.利用X射线衍射法测定产物相组成及相对含量,研究了合成温度和恒温时间对反应过程的影响.结果表明,合成温度对碳热氮化合成Si3N4粉的影响显著,随合成温度的升高,产物中Si3N4相含量增加,1450℃时Si3N4相含量最高,是最佳的合成温度.恒温时间对产物相组成的影响不大,但适当延长恒温时间可使还原氮化反应进行得更充分,恒温8h时产物中Si3N4含量最高,是较理想的恒温时间.合成过程中SiO的挥发导致试样较大的质量损失,且随恒温时间的延长而增大.     

浅析电线电缆用氯化聚乙烯护套的制造工艺

我国现代所生产的电线电缆、电焊机电缆以及阻燃电缆等,使用的橡胶护套通常都是氯丁橡胶。事实上我国生产氯丁橡胶的能力、数量等都非常有限,并且价格也非常昂贵,质量方面的稳定性是无法保证的。对比来讲,氯化聚乙烯的密度较小,并且储存热稳定的性能较好,良好的加工工艺和低廉的价格等都是其优势,使用氯化聚乙烯代替氯丁橡胶来作为电线电缆的护套是非常有必要的。     

H13钢气体氮化工艺参数的优化

运用正交试验法,研究H13钢气体渗氮工艺.以获得较高表面硬度和渗层厚度为依据,分析影响渗氮层结构和性能的主要工艺因素,确定出最佳工艺参数.采用光学显微镜及X射线衍射研究渗氮层的组织结构,采用显微硬度计测定化合物层的显微硬度.结果表明,影响渗氮层硬度和厚度的主要因素是渗氮温度和氛气分解率,最大渗层厚度为244.3μm,最...     

VARI用乙烯基树脂黏度特性及固化工艺研究

用乙烯基树脂体系对真空辅助成型工艺(VARI)进行了初步配方设计,研究了促进剂含量以及温度变化对树脂体系固化反应时间的影响,优选了树脂配方.采用旋转黏度计对树脂体系黏度-温度特性及黏度-时间特性进行了研究,结果表明:乙烯基树脂适用于VARI工艺.并结合差示扫描量热仪(DSC)测试结果,采用外推法,确定了三种树脂体系的固化工艺参数.