Cu基电沉积ZnO薄膜光催化降解甲基橙研究

以Zn(NO3)2水溶液为电解液,在Cu基体上电沉积ZnO薄膜,用X-射线衍射和扫描电子显微镜对其结构及形貌进行了表征。以甲基橙为目标有机污染物,研究了pH、SO42-和NO3-以及外加阳极偏压对ZnO薄膜光催化性能的影响。实验结果表明,在酸性条件下,可以获得更高的降解率;SO42-的存在明显地抑制了降解过程,而NO3-则有着很大的促进作用;外加阳极偏压在一定程度上改善了光催化降解效果。     

脉冲激光沉积ZnO薄膜的表面研究

脉冲激光沉积技术（PLD）目前已成为一种重要的制备氧化锌（ZnO）薄膜的技术,但是由于脉冲瞬间沉积时不能避免产生液滴及形成大小不一的颗粒,因此在制备高质量ZnO薄膜的表面均匀性方面还存在一定弊端。文章采用PLD（KrF准分子激光器：波长248 nm,频率5 Hz,脉冲宽度20 ns）方法在衬底温度450℃和氧气流量10 sccm下以高纯ZnO为靶材、在单晶硅衬底表面沉积120 min成功生长了ZnO薄膜。扫描电子图像（SEM）显示ZnO薄膜表面有明显凸起的颗粒,文章通过俄歇能谱仪对ZnO薄膜进行了研究,分析了ZnO薄膜的表面成分及凸起颗粒微观区域的成分。实验结果表明制备的ZnO薄膜表面明显突起的颗粒为ZnO颗粒,文章为PLD法制备ZnO薄膜易形成大小不一的颗粒提供了理论依据。     

贵金属Ag沉积ZnO薄膜的光催化性能研究

采用真空蒸发镀膜的方法在预先制备好的厚度为200nm的氧化锌薄膜表面沉积了贵金属Ag,并对其光吸收和光催化性能进行了研究。结果表明,沉积Ag厚度为5nm的薄膜比纯氧化锌薄膜的光催化效率提高了约20%,同时也比沉积Ag厚度为2nm的薄膜光催化效果好,且在太阳光照射下的光催化效率比在紫外光照射下高出9%。     

电沉积制备纳米迭层薄膜材料

1 前言 纳米迭层膜是指由许多层厚度均在纳米量级的单层膜组成的薄膜,通常具有周期性调制结构,在不足1μm厚的膜层中,往往包含几十至几百个双层膜(一个双层膜为一个人工调制周期)。当膜层的厚度减小到一定程度时,其微观结构不同于体材。比如在单晶基底上可以获得外延生长的晶体结构,称为超晶格。这类材料由于在结构上具有纳米尺寸,从而表现出”尺寸量子效应”,具有独特的,机械、电、磁、光及化学性能。自70年代以来超晶格结构材料吸引了众多学科中的大批研究者。有     

电沉积法制备纳米SnO_2薄膜

采用一种电沉积法室温下制备纳米SnO2薄膜。经研究得到了电沉积SnO2薄膜的最佳工艺条件:电流密度、电沉积时间、主盐浓度、游离酸浓度分别为i=8 mA.cm-2,t=120 m in,c(SnC l2)=0.02 mol/L,c(HNO3)=0.03 mol/L。用X射线衍射、红外光谱和扫描电镜、透射电镜等对薄膜的物相和微观结构、表面形貌等进行了研究。结果表明,室温下干燥得到的薄膜由SnO2.xH2O组成,但经过400℃热处理后,逐渐转变成结晶较为完整的四方结构SnO2薄膜,薄膜的表面较为平整、呈多孔状,薄膜粒径大小为8~20 nm。     

电沉积TiO2纳米晶薄膜及其光电性能研究

采用阴极电沉积法在导电玻璃基体上制备了TiO2薄膜.运用扫描电子显微镜、X-射线能量散射分析仪和X-射线衍射仪对TiO2薄膜的形貌和结构进行了分析.以N719染料敏化的TiO2薄膜为阳极,0.5 mol/L KI和0.05 mol/L I2的乙氰和乙烯碳酸酯的混合溶液为电解液,碳电极为阴极,组成太阳能电池,通过电流-电压曲线研究了太阳能电池的性能.结果表明:TiO2薄膜的晶型为锐钛矿,其晶粒d平均为28.8 nm.太阳能电池的U开路为0.513 V,J短路为22.8 A/m2,填充因子为0.392,光电转换效率为0.466%.     

电化学沉积制备ZnO纳米棒阵列薄膜的研究

通过对不同沉积电压与沉积时间的研究,确定了电化学沉积ZnO纳米棒阵列的最佳工艺条件。在-0.5V沉积电压下沉积20h制备出了ZnO纳米棒阵列薄膜,研究结果表明:纳米棒阵列均匀致密,直径在200nm左右,并且具有高度的c轴择优取向。     

电沉积ZnO薄膜超声处理后结构和缺陷的研究

以辛基酚聚氧乙烯(10)醚为有机添加剂,阴极电沉积制备了ZnO薄膜.经超声处理后,用X-射线衍射仪和光致发光光谱仪研究了ZnO薄膜的结构、应力状态和发光性能的变化.结果表明:样品的结晶性能变差,晶格内部的压应力变为张应力,于λ=395 nm处的激子发光峰和λ=580nm处的黄光发光峰强度比减小,同时发光谱中又出现了于λ...     

电沉积Co-Pt-W磁性薄膜及其性能的研究

使用电沉积技术制备了磁性能较好的Co-Pt-W薄膜,并研究了pH值对薄膜的成分、结构、表面形貌和磁性能的影响。研究发现:Co-Pt-W薄膜是一种具有fct四方结构的晶态颗粒膜。随着pH值的升高,Co-Pt-W薄膜中Co和W的质量分数下降,而Pt的质量分数增大。pH值过低,析氢作用明显,Co-Pt-W薄膜表面颗粒较大,并且孔隙率高。增大pH值,有利于细化Co-Pt-W薄膜表面颗粒并降低孔隙率,从而提高矫顽力。     

阴极电沉积制备铝掺杂ZnO薄膜及其光催化性能

以不锈钢为基体,采用阴极电沉积法,从Zn(NO3)2和Zn(NO3)2+Al(NO3)3水溶液中制备了纯ZnO薄膜和铝掺杂ZnO薄膜.用X射线衍射、 扫描电镜和紫外-可见光漫反射光谱研究了铝掺杂对ZnO薄膜相变和光催化活性的影响.结果表明:在铝掺杂ZnO薄膜中,部分Al3+进入ZnO的晶 格,形成固溶体:铝掺杂使ZnO的吸收阈值蓝移大约50nm.和纯ZnO薄膜相比,铝掺杂ZnO薄膜在紫外光和可见光区均呈现出更高的催化活性, 反应60min后.甲基橙的降解率分别提高了45%和30%.探讨了铝掺杂ZnO薄膜光催化活性提高的原因.     

Electrodeposited nanoporous ZnO films exhibiting enhanced performance in dye-sensitized solar cells

Electrodeposition of nanoporous ZnO films and their applications to dye-sensitized solar cells (DSSCs) were investigated in the aim of developing cost-effective alternative synthetic methods and improving the ZnO-based DSSCs performance. ZnO films were grown by cathodic electrodeposition from an aqueous zinc nitrate solution containing polyvinylpyrrolidone (PVP) surfactant. PVP concentration had strong effects on the grain sizes and surface morphologies of ZnO films. Nanoporous ZnO film with grain size of 20-40 nm was obtained in the electrolyte containing 4 g/L PVP. The X-ray diffraction pattern showed that nanoporous ZnO films had a hexagonal wurtzite structure. Optical properties of such films were studied and the results indicated that the films had a band gap of 3.3 eV. DSSCs were fabricated from nanoporous ZnO films and the cell performance could be greatly improved with the increase of ZnO film thickness. The highest solar-to-electric energy conversion efficiency of 5.08% was obtained by using the electrodeposited double-layer ZnO films (8 μm thick nanoporous ZnO films on a 200 nm thick compact nanocrystalline ZnO film). The performance of such cell surpassed levels attained in previous studies on ZnO film-based DSSCs and was among the highest for DSSCs containing electrodeposited film components.     

糖精和1,4-丁炔二醇对镀镍层形貌的影响

采用动电位扫描、扫描电子显微镜和X-射线衍射分析分别研究了不同质量浓度的糖精和1,4-丁炔二醇对镍电沉积层的极化作用、表面形貌及晶体取向的影响。结果表明:在瓦特镀镍液中加入糖精和1,4-丁炔二醇,极化曲线均向负电位方向移动。糖精质量浓度增加至2.0 g/L时,极化曲线不再向负电位方向移动,镀层呈现(200)面择优取向。当1,4-丁炔二醇质量浓度增加到0.5 g/L时,其显著提高了镍电沉积过电位230 m V,有效增大成核密度,其镀层微观形貌平整均匀,择优取向并未发生改变。     

ZnO薄膜的制备及应用研究进展

ZnO作为一种新型的宽禁带半导体材料,具有很好的化学稳定性和热稳定性,抗辐射损伤能力强,在光电器件、压电器件、表面声波器件等诸多领域有着很好的应用潜力。本文主要介绍制备ZnO薄膜的技术和方法,并简要的介绍了ZnO薄膜的应用进展。     

ZnO:Cd薄膜电学性能的研究

ZnO是一种宽禁带半导体材料,它是高阻材料.为了增强ZnO薄膜的导电性能,采用Sol-gel法,结合旋转涂覆技术在Si(100)衬底上制备了ZnO:Cd薄膜,掺镉浓度分别为2%～10%.各种浓度的样品以金(Au)作电极做成叉指电极,并用绝缘电阻测试仪对掺镉后ZnO:Cd进行表面电阻率的测试.根据测试结果对所制备的ZnO...     

电沉积制备Sn-Cu无铅钎料电镀工艺的研究

Sn-Cu无铅钎料具有优良的物理化学性能,研究了以柠檬酸为配位剂的电镀液中电沉积Sn-Cu薄膜.应用SEM,EDS,XRD等仪器分析手段对镀层进行了分析、表征;根据测定的阴极极化曲线对Sn-Cu电沉积机理进行了探讨.实验结果表明:电沉积能得到由Sn和Cu6Sn5两相组成、Sn的质量分数为99%的Sn-Cu膜层.     

电沉积制备ZnSe薄膜材料的研究进展

综述了国外电沉积制备ZnSe薄膜的研究进展,尤其是在酸性电解液溶液中电沉积制备ZnSe薄膜、电沉积掺杂制备p型和n型ZnSe薄膜,且阐述了电沉积ZnSe薄膜材料的特性和机理,对其前景进行展望,提出了今后的重点研究方向.     

铝阳极氧化膜微孔内电沉积超细金属微粒

将铝在磷酸和草酸溶液中用直流和交流阳极氧化,生长多孔氧化膜. 利用这种多孔膜微孔密度大、尺寸细小、结构均匀的特点,将其置于镍盐和钴盐溶液中,电沉积镍、钴和钴磷合金的超细微粒及纤维. 运用TEM配合超薄切片、SAD、EDAX技术和方法,对多孔膜、超细微粒及纤维进行了分析和观测. 所得的超细微粒和纤维是金属,表面有一层薄氧化膜. 镍微粒和纤维由尺寸更细小的微晶组成,而钴趋为单晶体. 磷可通过电沉积加入钴中,但会降低微粒和纤维的生长速度.     

新型无磷前处理剂在阴极电泳涂装中的应用及性能研究

开发了一种新型的无磷转化液,通过浸渍或喷淋的方式在样板表面镀上一层氧化锆／硅烷复合膜层,利用SEM、EDS和XRD等测试手段对膜层的表面形貌和物相结构进行分析,结果发现膜层为非晶结构;通过对电泳后的样板进行附着力、耐冲击、耐腐蚀性等试验,得出复合膜层的主要性能指标为：附着力试验合格、冲击无裂纹、500h中性盐雾试验后漆膜单边腐蚀宽度约为1him,表面无起泡现象。通过与磷化液的对比试验发现,该复合膜具有与磷化膜相当甚至超过磷化膜的耐腐蚀性能。     

溶胶-浸渍提拉法制备ZnO薄膜

利用溶胶-凝胶浸渍提拉法在导电玻璃(FTO)基板上制备了氧化锌(ZnO)薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外分光光度计对ZnO薄膜的结构、形貌以及透过性能进行了分析.结果表明,当溶胶陈化时间为26h,煅烧温度550℃时,ZnO薄膜呈现棒状颗粒,缺陷密度低,从而使ZnO薄膜具有较高的透过率.