稳定剂和催化剂对化学镀铜颜色的影响

化学镀铜溶液中催化剂和稳定剂的变化会影响化学镀铜的沉积速率以及表观颜色。采用某公司化学镀铜溶液进行研究。结果表明,当溶液中稳定剂质量浓度较高时,化学镀铜层颜色变暗,沉铜速率降低;当溶液中催化剂质量浓度较高时,化学镀铜层颜色变亮,沉铜速率升高;当溶液中稳定剂质量浓度为0.8mL/L、催化剂质量浓度为4mL/L时,化学镀铜可以获得理化性能较好的淡红色的化学镀铜层。     

炭纤维化学镀铜的初步研究

本文采用正交试验方法,对炭纤维化学镀铜进行了初步研究。找出了影响炭纤维化学镀铜的主要因素,得到了炭纤维化学镀铜的最佳配方及其工艺条件。     

化学镀铜的研究进展

近年来,化学镀铜技术在电子工业、机械工业、航空航天等各行各业有着越来越广泛的应用。关于化学镀铜的机理研究和工艺路线改进等课题已成为当今材料表面处理研究领域的热点。文章介绍了化学镀铜技术的发展概况,综述了国内外近年来在化学镀铜领域所取得的一系列新的研究成果,指出了化学镀铜今后研究的重点。     

化学镀铜研究进展

随着化学镀铜技术的不断发展,其在表面处理行业中的地位不断的上升,并在电子工业、航空航天和机械工业等各行各业中得到了广泛的应用。伴随着化学镀铜技术应用范围的不断扩大,化学领域中对化学镀铜的研究成为了一个热点。基于此,文章从化学镀铜的应用范围出发,对化学镀铜的研究进展以及未来研究的方向进行了一定的分析和总结。     

化学镀铜原理、应用及研究展望

化学镀铜技术主要用作印制线路板孔金属化和塑料电镀,其镀层具有良好的延展性、导热性和导电性,介绍了化学镀铜的应用范围与发展,强调了化学镀铜预处理的必要性及要注意的几个方面：应用易清洗的油脂作防锈剂,低碳钢件用阳极电解除油,酸洗除油与碱性除油互补等。介绍了化学镀铜的一些常用体系及其主要组分。讨论了添加剂的影响,对非金属表面化学镀铜的研究进展进行了报道,提出了化学镀铜今后的研究重点。     

碳纤维表面化学镀铜工艺的优化

以甲醛为还原剂对碳纤维表面进行化学镀铜,利用正交实验对碳纤维化学镀铜工艺进行了优化,研究了施镀时间与镀层厚度及导电性之间的关系,确定了较理想的化学镀铜工艺。结果表明,采用优化后的碳纤维化学镀铜工艺制得的镀铜碳纤维镀覆均匀,光泽性好,镀层结合力强,导电性能显著提高。     

溶剂萃取法从化学镀铜废液中回收铜

采用溶剂萃取法研究了从含强络合剂的化学镀铜废液中回收铜的可行性，结果表明：从含酒石酸钾钠的化学镀铜废液萃取铜时，采用LIX54萃取剂，在pH值为6－10之间，铜的萃取率大于99％，然后通过反萃，可以得到能回用于化学镀铜生产线的硫酸铜溶液。     

碳纤维布化学镀铜工艺的研究

采用以甲醛为还原剂的化学镀铜液,用硝酸银作活化剂,在碳纤维布表面沉积出连续、均匀、有光泽的化学镀铜层。研究了不同前处理工艺对碳纤维布化学镀铜的影响。采用扫描电子显微镜表征了化学镀铜层的表面形貌,并用数字电压表测试了碳纤维布化学镀铜前后的导电性。     

铝基氧化铝表面化学镀铜工艺研究

在铝基板表面的氧化铝上实施化学镀铜,获得剥离强度良好的化学镀铜层.利用扫描电子显微镜观察了化学镀铜层的剖面形貌;测定了硅烷化前后氧化铝表面的润湿性;分析了硅烷化时间和施镀时间对氧化铝表面铜厚度的影响.结果表明:在铝基板表面氧化铝上所制得的化学镀铜层与基体结合力良好,可以满足印制线路板的要求.     

材料表面化学镀铜及其应用

化学镀铜作为优良的表面处理技术,在电子、机械、航空航天等工业中得到广泛应用.有关化学镀铜的机理及化学镀铜新工艺的研究是电子产品表面金属化研究的热点.介绍了化学镀铜的原理及其应用,指出了其所面临的主要问题和未来的主要研究方向.     

Design and achievement of a complete bottom-up electroless copper filling for sub-micrometer trenches

The bottom-up filling of electroless copper usually depends on inhibiting the Cu deposition at the surface or accelerating the Cu deposition in the bottom of trenches to achieve a relative high deposition rate of electroless copper in the bottom of trenches. In this paper, a complete bottom-up filling of electroless copper, in which the deposition rates of the electroless copper were not only inhibited at the surface of the substrate, but also were accelerated in the bottom of the trenched, was designed and achieved in the plating bath with an addition of bis (3-sulfopropyl) disulfide (SPS) and polyethylene glycol (PEG). The cross-sectional SEM observation of trenches indicated that all trenches with different widths ranging from 100 to 290 nm were filled completely by electroless copper, and no void was found. This was attributed to three factors, the electroless Cu deposition was accelerated markedly by an addition SPS only; but it was suppressed sharply by a combination addition SPS and PEG-4000; the large molecular weight and lower diffusion coefficient of PEG-4000 resulted in concentration gradient of PEG-4000 in the trenches. The effects of PEG-4000 and SPS on the polarization behaviors of the electroless copper plating bath were investigated by the linear sweep voltammetry method and mixed potential theory.     

Bottom-up copper fill with addition of mercapto alkyl carboxylic acid in electroless plating

We investigated bottom-up electroless copper plating with addition of mercapto alkyl carboxylic acid (MACA) such as 3-mercapto-propionic acid (3-MPA), 11-mercapto-undecanoic acid (11-MUA), and 16-mercapto-hexadecanoic acid (16-MHA). The inhibition of copper plating deposition on the plane surface was observed with an addition of MACAs, and bottom-up fill was confirmed for MACAs with alkyl chain numbers of 3, 11, and 16. The bottom-up fill tendency was enhanced with increasing Alkyl chain number. This result strongly suggests that diffusion coefficient of inhibitor molecule plays an important role for bottom-up fill mechanisms, because MACA with longer alkyl chain has smaller diffusion coefficient than that with shorter alkyl chain.     

陶瓷基上化学镀铜

为提高化学镀铜液的稳定性,在化学镀铜液中加入亚铁氰化钾和a,a′-联吡啶作为添加剂,研究了温度与陶瓷基体上化学镀铜沉积速度的关系,计算出铜沉积的活化能。当镀液中含有亚铁氰化钾或a,a′-联吡啶时,铜沉积活化能提高,铜沉积速率降低,镀铜层外观及镀液稳定性均得到改善。此外,镀液中同时含有亚铁氰化钾和a,a′-联吡啶时,镀液、镀层性能得到进一步提高。     

Integration of thin electroless copper films in copper interconnect metallization

Deposition of a thin electroless copper films on PVD copper seed layers in interconnect metallization was investigated for formation of a composite seed layer. Issues such as film stress, adhesion, electrical reliability, and hydrogen incorporation were addressed to determine feasibility of the process for the fabrication of real device structures. The formation of blisters between the copper films and underlying barrier layer were observed due to hydrogen incorporation and high level of compressive stress as a result of the electroless deposition process. Optimization of the electroless copper bath and process flow were investigated to minimize blister formation and improve fill enhancement effectiveness. Low temperature postelectroless anneal was found to remove incorporated hydrogen but also decreased overall fill effectiveness. Post-CMP electrical reliability of thin PVD/electroless/copper fill process was found to be equivalent to thick PVD/copper fill process. Potential reliability issues with electroless deposition on poorly seeded features were suggested by via yield degradation following final anneal.     

化学镀铜溶液中稳定剂与铜沉积速率的关系

研究了化学镀铜溶液中稳定剂对铜沉积速率的影响,着重考虑主配位剂、副反应的抑制剂、甲醛捕获剂对化学镀铜的影响。结果表明,在基本配方8 g/L CuSO4.5H2O,3 g/L HCHO2,8 g/L EDTA7,.5 g/L NaOH,工艺参数pH=12.5,温度50℃,时间40 min的基础上,各种稳定剂的适宜用量为6 mL/L CH3OH、8 mg/L K4Fe(CN)6、6 mg/L 22,’-bipy。在最佳工艺下得到的镀层外观红亮,表面平整,晶粒细致,化学镀铜液稳定。     

化学镀镍-铜-磷三元合金工艺的研究

为提高化学镀镍－磷合金镀层的性能及获得多种性能的合金镀层以拓宽其应用范围。在化学镀镍－磷合金液中加入硫酸铜制得镍－铜－磷三元合金。研究了镀液中硫酸镍、次磷酸钠、柠檬酸钠、硫酸铜、稳定剂、光亮剂的含量以及pH值和温度等因素对合金镀层的外观、沉积速度及铜含量的影响。通过5％氯化钠溶液和10％硫酸溶液浸泡试验比较了所得镍－铜－磷合金镀层与镍－磷合金镀层以及前人制得的镍－磷合金镀层的耐蚀性，同时比较了上述镀层的其它性能。结果表明，所得镍－铜－磷合金镀层的耐蚀性、外观、结合力、孔隙率、沉积速度、硬度和耐磨性等性能优于镍－磷合金及前人制得的镍－铜－磷合金镀层。     

影响化学镀铜液稳定性和镀速的因素

研究了影响化学铜镀速和镀液稳定性的诸因素,并根据实验确定了适宜的化学镀铜液配方及其工艺。硫铜,甲醛,氢氧化钠含量的增加均会提高化学镀铜的镀速,降低镀液稳定性;     

ABS塑料化学镀铜工艺

介绍了ABS塑料表面化学镀铜的工艺流程,讨论了粗化温度和时间、敏化和活化时间、硫酸铜质量浓度、甲醛体积浓度、酒石酸钾钠质量浓度、镀液温度和镀液pH对镀层质量以及化学镀铜沉积速率的影响。确定了最佳工艺条件为15~20g/L硫酸铜、15mL/L甲醛、14g/L酒石酸钾钠,镀液温度为323K,镀液的pH为11~12。扫描电镜表明,所得镀层均匀、光亮,结合力好。     

次磷酸钠化学镀铜工艺的研究

用次磷酸钠取代传统化学镀铜中的甲醛作为还原剂,研究了化学镀铜的基本工艺,揭示了络合剂(酒石酸钾钠)用量、次磷酸钠用量对铜沉积速度的影响。确定了最佳工艺条件为酒石酸钾钠质量浓度15 g/L,次磷酸钠质量浓度30 g/L,镀液的pH值为11左右,温度65℃。     

以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜

研究了以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜过程。确立了以硫酸铜为主盐,次磷酸钠为还原剂,乙二胺四乙酸二钠和柠檬酸钠为混合配位剂的碱性还原镀铜体系。在铸铁基体上实现了铜的连续自催化沉积,获得了较光亮、红黄色的铜镀层。