光学薄膜进展

本文就消偏振截止滤光片在多通道光纤通讯中的应用、远紫外及软x-射线反射镜的突破、离子束辅助的蒸发技术的兴起以及薄膜微结构的研究等方面综述了光学薄膜技术近十年来所取得的主要进展。高能激光对光学薄膜提出了苛刻的要求,连续式磁控溅射大批量制造建筑物窗口玻璃上的阳光薄膜有着巨大的市场,记录介质薄膜仍然是开发光学信息存贮的关键,所有这些都是对光学薄膜技术的挑战。     

浅谈光纤通信中的光学薄膜技术

薄膜在现代科学技术中扮演着重要的角色,随着光纤通信技术和激光技术的发展,薄膜在这个领域的应用越来越广泛。在这种背景下,文章探讨了光纤通信中的光学薄膜技术及光学薄膜的设计与制造,以求为光学薄膜技术的更好研发提供必要的借鉴与参考。     

高精尖探索铸就技术摇篮产学研联动发展镀膜产业——记中科院上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心

中科院上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心(以下简称薄膜中心)专门从事光学薄膜技术的研究与开发,其前身是1964年组建的、并集结了当时全国从事激光薄膜研制大部分骨干力量的上海光机所技术光学研究室"镀膜组".经过40多年的发展,薄膜中心在光学薄膜制备方面拥有雄厚的研究基础和完善的测试平台;特别是高性能、高损伤阈值激光薄膜的研究处于国内领先水平.在稳抓基础研究、完善镀膜工艺的同时,薄膜中心积极转化研究成果,推进薄膜产业化,特别是在1999年成立了薄膜事业部.该部目前已经实现了汽车车灯薄膜、强光防护滤光片、透明导电膜、紫外激光薄膜和高品质激光波长分离薄膜产品等多个系列薄膜产品和器件的量化生产.     

反应离子镀TiO_2膜的聚集密度的测定

光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术,正在受到国内外的关注,传统的反应蒸发工艺制备的光学薄膜呈显著的柱状结构,表面粗糙等缺陷;而反应离子镀工艺制备的光学薄膜,牢固度、致密度、表面光洁度等光机性能均有明显改善,薄膜     

显示领域中的干涉薄膜与功能薄膜

人们在日常生活中经常接触光学干涉薄膜。如:眼镜片的两个表面镀有多层减反射膜,照相机的镜头组镀有多种减反射膜,钞票防伪的变色油墨中主要成分是干涉薄膜的碎屑……。而在显示领域,则包括更多种类、更为复杂的光学干涉薄膜。本期专栏介绍了光学薄膜的工作原理及一般应用,并讨论了微显示领域中的光学薄膜及其进展。     

激光辐照光学薄膜研究进展

本文对激光与光学薄膜相互作用的原理做了简要介绍,从激光辐照光学薄膜时产生的光学、热学、声学以及力学效应对薄膜受激光辐照时产生的一系列现象进行分析,综述了国内外对以上效应研究的进展,以及上述研究成果对受高功率激光辐照的光学薄膜设计的指导意义。     

中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心

中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心(以下简称中心)集基础研究与应用开发于一体,是国内最早发展薄膜光学技术的单位之一,也是国内有能力提供全套高功率激光薄膜的主要研究机构之一。本中心从事的领域是光学薄膜的设计、制备以及性能检测;在光学薄膜的应用波长上,跨越了整个光波段,从软x射线多层膜到红外波段;中心的研究特色主要体现在强激光薄膜,以追求高光学性能、高激光损伤闻值的强激光薄膜为主攻方向。     

深紫外波段光学薄膜研究进展

随着准分子激光、自由电子激光以及全固态深紫外激光等深紫外激光光源的推广应用,近年来,深紫外波段光学薄膜技术得到了快速的发展.综述了深紫外波段增强型铝镜、氧化物薄膜、氟化物薄膜以及氧化物和氟化物的混合薄膜的最新研究进展.     

第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会通知

2012年10月11-13日中国苏州在现代光学技术领域,光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术。随着高精尖光学系统和光学技术的飞速发展,对光学薄膜提出了更为苛刻的要求。这对促进我国光学薄膜技术的发展和产业化具有非常重要的意义。     

光学薄膜技术在反激光致盲中的作用

激光致盲技术日益发展,反激光致盲的研究工作必须充分重视。本文主要讨论光学薄膜技术在抗激光致盲中的作用,并从分析薄膜激光损伤机理角度,提出几点提高光学薄膜的抗激光加固的建议。     

薄膜材料

光学薄膜技术是在1940年以后随着真空蒸镀法的发展开始普及的.进入六十年代,随着电子枪的发展,其应用领域进一步扩大.装置的进展,促使光学薄膜所用材料也从低熔点的金属和氟化物、硫化物等向高熔点的氧化物方向发展.跨入七十年代,光学薄膜也与其他的领域同样向高功能化、多功能化方     

第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会通知

2012年10月11-13日中国苏州在现代光学技术领域,光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术。随着高精尖光学系统和光学技术的飞速发展,对光学薄膜提出了更为苛刻的要求。这对促进我国光学薄膜技术的发展和产业化具有非常重要的意义。中国宇航学会光电技术专业委员会联合有关单位于2012年10月11-13日在苏州市举办"第六届国际光学薄膜技     

第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会通知

2012年10月11-13日中国苏州在现代光学技术领域,光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术。随着高精尖光学系统和光学技术的飞速发展,对光学薄膜提出了更为苛刻的要求。这对促进我国光学薄膜技术的发展和产业化具有非常重要的意义。中国宇航学会光电技术专业委员会联合有关单位于2012年10月11-13日在苏州市举办"第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会"。此次会议旨在进一步推动我国光学薄膜技术领域最新成果的展示和交流。中国宇航学会光电技术专     

磁控溅射技术及其发展

磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛.本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋势.     

光学薄膜任意厚度的监控方法评述

随着薄膜技术的发展,光学薄膜在各个领域中得到了广泛而重要的实际应用。经典的薄膜系统,例如减反射膜、分光镜、介质反射膜、截止滤光片及带通滤光片等,不管采用几种介质材料,也不管有多少层数,它们的厚度是整齐的,都是四分之一波长或其     

微显示技术与光学薄膜

讨论了光学薄膜在LCD、LCoS及DLP三种微显示光引擎中的应用。同时也简述了相应的光学薄膜技术的进展。     

光学薄膜界面粗糙度互相关特性与光散射

为了研究光学薄膜界面的互相关特性及光散射特性,介绍了光学薄膜的散射理论和模型。依据光学薄膜矢量散射的表达式,借助于总背向散射理论分析了光学薄膜界面互相关特性对光散射的影响,并用实验验证和分析了TiO2单层薄膜膜层厚度,K9玻璃基底粗糙度以及离子束辅助沉积(IBAD)工艺等因素对光学薄膜界面互相关特性的影响。结果表明,根据矢量光散射理论计算的光学薄膜界面互相关特性和光散射的关系与实验测量结果一致。随着基底粗糙度、薄膜光学厚度的增加,薄膜界面的互相关特性会变差,采用离子束辅助沉积的TiO2单层薄膜的膜层界面互相关性明显好于不用离子束辅助沉积的薄膜。     

基于深度学习的光学薄膜元件损伤识别与分类研究

激光诱导光学薄膜元件损伤是限制激光向高功率、高能量发展的瓶颈,因此,光学薄膜损伤的快速检测已成为亟需解决的问题。为提高光学薄膜元件损伤识别与分类的准确率和效率,提出了一种基于深度学习的损伤图像分类模型训练方法。采集激光辐照氧化物薄膜损伤图像,通过噪声去除、图像增强等预处理,提取损伤区域RGB值、灰度、纹理、形状等特征信息,投入BP神经网络训练识别,受数据集较少和计算误差的影响导致分类结果未达期望值,因此,使用迁移学习训练数据集,结果表明,使用迁移学习在准确率和灵敏度等评价指标上均优于BP神经网络,准确率达90%,将深度迁移学习技术用于光学薄膜元件的损伤识别,为解决激光诱导的光学薄膜损伤判别提供了新思路。     

光学薄膜常数的测试与分析

光学薄膜常数—折射率、消光系数和膜层厚度是光学薄膜制备的基础,通过透射光谱法测试计算得到的薄膜常数具有较高的精度。Ta2O5是一种常用的氧化物薄膜,研究了两种透射光谱法计算光学薄膜常数的精度,利用Lambda900分光光度计获得了Ta2O5薄膜样品的透过率光谱数据,采用透射光谱包络线法对单层Ta2O5薄膜样品的光学常数进行计算,得到的折射率和消光系数较为准确,并且认为所得到的消光系数为广义消光系数,对精确地测试、计算提出了建议,为不同薄膜样品的制备奠定了技术基础。     

著名光学薄膜专家H·A·Macleod教授在京讲学

1983年4月,国际著名光学薄膜专家、美国亚利桑那大学光学中心H·A·Macleod教授在我国杭州、北京、西安、成都等地参观讲学。北京光学学会光学薄膜专业委员会于4月16～22日在北京组织了为期一周的讲学活动。参加讲学班的有来自全国各地的薄膜技术工作者90多个单位200余人。H·A·Macleod教授就导纳图的基本概念、导纳图的各种应用及薄膜的微观结构以及薄膜特性的稳定性等专题进行了五次讲课。在京期间,H·A·Macleod教授还与北京薄膜专业委员会和到京的全国薄膜专业委员会委员进行了学术活动,袁慧、梁民基、赵福庭、朱震等作了关于紫外高反