用CVD法合成金刚石薄膜

金刚石是很有名的轴承材料,具有很多极其重要的特性,如极高的硬度、很高的导热性、很高的透光性、很高的电阻率,若掺杂适当,人造金刚石将成为很有用途的半导体材料.在机械、电子、光学等方面,都有极其广泛的应用.几年来,制造人造金刚石的材料,仅限于氢、碳氢化合物,如甲烷、乙炔、已炔等.这些材料的生长速度很慢,约0.2～1μm/h.     

用XPS法研究硫化锌薄膜

运用ＸＰＳ法研究ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｃｌ，Ｅｒ薄膜器件的界面态及所掺激活剂的纵向分布，认为氧吸附形成的ＺｎＳ薄膜的表面构态是产生薄膜界面态和界面陷阱能级的主要原因，对研究薄膜器件的激发过程有参考意义。     

集成电路用的金刚石薄膜

<正> 日本研究和发展公司已找到在低压和低温下制作集成电路用的金刚石薄膜的方法。该公司已生产出一批商用产品,并改进了涂敷的均匀性。这种金刚石具有与天然金刚石完全相同的质量。在0.1个大气压下对甲烷和氢的气体混合物加微波,即可制成这种金刚石。     

金刚石薄膜的低温合成技术

本文综述了国内外低温和室温合成金刚石薄膜的发展现状和动态，介绍了几种典型的低温和室温合成金刚石薄膜的方法及工艺特点，给出了低温合成金刚石薄膜的一些基本规律。     

金刚石薄膜的新合成方法

用不太新型的电子显微镜观察金属薄膜的时候,经常碰到样品上带有黑色污点、使对比度下降这种麻烦事,这种现象被认为是从扩散泵里出来的油蒸气粘附在样品表面上,再由电子束分解形成了碳膜。有时也想,碰巧的话,这碳膜不就成为金刚石了吗? 那已是十多年前的事了,苏联和美国都开始试验用低压合成金刚石。但是,那个时期的     

燃烧火焰法合成金刚石薄膜

本文给出了利用氧一乙炔燃烧火焰在Si(111)衬底上高速率（-80um/h)生长金刚石薄膜的方法，对合成的金刚石薄膜进行了扫描电子显微镜、Raman光谱和X-光衍射分析，并对其结果进行了简要的讨论。实验研究表明这种方法是可行的，且设备简单，成本低廉。     

用XPS法研究硅基硫化锌薄膜

应用X射线光电子能谱(XPS)研究Si基ZnS:Cu,Er薄膜的化学元素组成、分布和价态,认为Cu元素只有少数部分进入晶格中替代Zn2 起激活剂的作用,Er元素在ZnS基质中分布不均匀,且会与氧结合.PL测试发现样品发绿光,主要发光峰出现劈裂,对研究薄膜中的杂质中心、实现Si基发光有参考意义.     

金刚石薄膜和类金刚石薄膜

本文介绍了金刚石薄膜和类金刚石薄膜的制备与薄膜性能分析方法,也介绍了它们的应用前景。本文给出了华北光电所研究类金刚石薄膜的结果。     

FEA用的非晶态金刚石碳薄膜

文章对用于FEA的非晶态金刚石碳膜的制备、测量、场致发射特性以及发射性能改良的掺氧非晶态金刚石碳薄膜作了介绍。     

火焰法合成金刚石薄膜的电镜表征

火焰法合成金刚石薄膜的电镜表征陶景光罗慧倩廖兆曙（华中理工大学，武汉４３００７４）金刚石膜由于具有极其优异的性能和广泛的应用，受到国内外的重视。除高温高压人工合成金刚石工艺外，已发展有多种常压气相合成方法，如热丝法、等离子法等。但这些方法大多需要真空...     

ZnO薄膜的XPS研究

利用等离子体增强型MOCVD设备,在C面蓝宝石上生长出了C轴取向的未退火、生长后一次退火和生长过程中多次退火的ZnO薄膜样品,并通过X光衍射和X光电子能谱对样品进行了表征,结果表明生长过程中多次退火的样品具有较高的质量,O/Zn原子比较大,且受空气中氧和水汽的影响最小.     

硫化镉薄膜的XPS研究

用XPS分析了CdS薄膜的结构。硫化镉薄膜是用化学沉积法制备的胶体颗粒，然后再通过真空蒸发法在平面玻璃上形成的多晶薄膜。XPS分析表明CdS薄膜中的Cd3d和S2p峰值均比块状CdS向高能方向偏移了10eV。这主要是由于表面效应所致。     

ULSI用氟化类金刚石薄膜的研究

以CF4和CH4为源气体,用射频等离子体增强化学气相沉积法,制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜。采用FTIR仪、XPS对样品进行了测试、分析。结果表明,在薄膜内主要含有C—Fx(x=1,2,3)、C—C、C—H2、C—H3等以及不饱和C==C化学键;薄膜的εr为2.07~2.65。εr与膜内F的相对浓度有关,随着沉积功率的增大,膜内F、H的含量均降低,εr升高。     

热丝CVD法分解丙酮合成金刚石薄膜

本文采用热丝CVD方法，在丙酮和氢气系统下，用Si和Mo片作衬底进行了合成金刚石薄膜的研究。Raman谱、X射线衍射以及扫描电镜的分析结果表明，制备的金刚石薄膜是多晶金刚石薄膜，当丙酮量为1.1%时，晶粒尺寸约为1-1.7微米。生长速率约为0.4um/h，并讨论了金刚石薄膜质量与实验条件的关系。     

金刚石薄膜成份和结构的评价方法

本文描述了低压气相淀积生长金刚石薄膜样品的成份、结构、化学键等的测试、分析手段，讨论了这些分析技术所提供信息的可靠性、以及存在的一些问题。     

火焰法合成大面积金刚石薄膜的初步研究

本文给出单喷嘴移动火焰在大气条件下合成大面积金刚石薄膜的初步试验结果。用喇曼光谱、扫描电镜分析了膜的结构和形貌。试验表明，移动火焰法能合成大面积高质量的金刚石薄膜，薄膜的质量、均匀性强烈取决于沉积温度。     

微波等离子体CVD合成金刚石薄膜的生长特性

本文研究了微波等离子体合成金刚石薄膜的工艺参数对成核和生长过程的影响。讨论了表面过程机理,找出了较佳工艺条件,合成出直径为φ23毫米晶形完整、均匀致密的金刚石薄膜。