溶液pH值对化学镀Ni-Co-P合金的影响

在化学镀中镀液的ＰＨ值不仅影响施镀过程的沉积速度,而且还将直接影响镀层成分及镀层性能。着重研究了溶液ＰＨ值对化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ的影响,比较了化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ和Ｎｉ－Ｐ镀层的性能,以及热处理对镀层性能的影响。     

化学镀非晶态Co-Ni-P薄膜磁性的研究

化学镀Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ薄膜镀态下为非晶态结构,Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ薄膜的矫顽力较低,矩形比较高,其易磁化方向与膜面垂直。薄膜越厚,矫顽力越高,矩形比越低;镀液的ｐＨ值越高,矫顽力越高;当以化学镀Ｎｉ－Ｐ合金作为中间镀层时,可获得较高的矫顽力和矩形比。     

化学镀Co—W—P三元合金的研究

研究了镀液中各组分及ｐＨ值与镀层中钨、磷含量的关系，获得Ｃｏ７３Ｗ１６Ｐ１１合金镀支，并通过人工汗液浸泡试验比较了Ｃｏ－Ｗ－Ｐ合金镀层与不锈钢、Ｃｏ－Ｐ、Ｎｉ－Ｗ－Ｐ、Ｎｉ－Ｐ合金镀层的耐蚀性。     

化学镀Ni—P—SiC复合镀层的研究

研究了化学镀Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＣ复合镀层的工艺、镀液组成和镀层性能。镀液中的ＳｉＣ微粒含量为１０￣１５ｇ／Ｌ时，可得以硬度和耐蚀都较高的镀层。     

电沉积锌－镍－钴三元合金的研究

通过对镀液组成及电镀参数的研究，确定了电沉积Ｚｎ－Ｎｉ－Ｃｏ三元合金的工艺条件，获得的三元合金镀层其耐蚀性明显优于Ｚｎ－Ｎｉ合金镀层，且随钴含量增加耐蚀性增强。     

电沉积锌—镍—钴三元合金的研究

通过对镀液组成及电镀参数的研究，确定了电沉积Ｚｎ－Ｎｉ－Ｃｏ三元合金的工艺条件，获得的三元合金镀层其耐蚀性明显优于Ｚｎ－Ｎｉ合金镀层，且随钴含量增加耐蚀性增强。     

化学镀Ni-Cu-P合金工艺研究

通过大量实验数据及图表论述了化学镀Ｎｉ－Ｃｕ－Ｐ的工艺条件,探讨了认的主要组成,镀液的ＰＨ值、施镀时间对镀层中Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐ含量及镀层的沉积速度的影响,总结了随工艺参数变化镀层成分变化的趋势及规律。     

化学镀Ni－Sn－P合金的工艺研究（Ⅰ）

研究了以复合配位剂的化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金镀液、镀液组分和操作条件对沉积速度的影响。综合考虑镀层的组成，镀液的稳定性，确定了化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金的镀液最佳组成和工艺条件。     

化学镀Ni—Sn—P合金的工艺研究（Ⅰ）

研究了以复合配位剂的化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金镀液，镀液组分和操作条件对沉积速度的影响，综合考虑镀层的组成，镀液的稳定性，确定了化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金的镀液最佳组成和工艺条件。     

Ni-P合金电镀工艺

概述了含有Ｎｉ化合物、Ｐ化合物和添加剂等组成的Ｎｉ－Ｐ合金镀液及其电镀工艺,可以获得无针孔、附着性和耐蚀性优良的Ｎｉ－Ｐ合金镀层,且可使用化学镀Ｎｉ－Ｐ废液,解决了废液回收再利用问题,适用于Ｃｕ、Ｆｅ及其合金制品的表面精饰。     

Ni—Co—Mo微晶态镀层的脉冲电刷镀工艺和性能研究

本研究获得了Ｎｉ－Ｃｏ－Ｍｏ微晶态电刷镀层的优化脉冲工艺参量，并对用脉冲工艺得到的刷镀层与用直流工艺得到的刷镀层进行了性能比较。结果表明：在优化脉冲工艺参量范围内，脉冲电刷镀内应力比直流电刷镀层的内应力小，前者表面裂纹少，孔隙率低，耐蚀性好。     

彩色化学镀镍新工艺研究

研究普通化学镀Ｎｉ－Ｐ合金镀液中加入一种发色剂而获得彩色化学镀镍层，讨论各种工艺参数对镀层外观及性能的影响。     

化学镀Ni－P－B合金工艺的研究

研究化学镀Ｎｉ－Ｐ－Ｂ合金工艺，对镀液的稳定性以及镀层的结构和耐蚀性进行了分析。实验表明：采用含稳定剂硫酸镉的镀液施镀，可得到结合力强、非晶态结构的Ｎｊ－Ｐ－Ｂ合金镀层，并具有优良的耐蚀性。     

YD-96化学镀镍工艺研究

研制成功ＹＤ－９６高速高稳定化学镀Ｎｉ－Ｐ合金工艺，研究了镀液成分及操作条件对镀层沉积速度、含磷量的影响。分析了镀液中ＮｉＳＯ４·６Ｈ２Ｏ和ＮａＨ２ＰＯ２·Ｈ２Ｏ的消耗比，确定了镀液维护和补加方法。结果表明，该镀液可以在８个周期内以ｖ为１５～２５μｍ／ｈ的速度沉积出镀层，镀液稳定，镀层性能良好。     

ZY—02型高磷化学镀镍工艺研究

研制成功了ＺＹ－０２型高磷化学镀Ｎｉ－Ｐ合金工艺。考察了镀液各组份及操作条件对镀层沉积速度的影响，并对镀层的厚度，结合力，孔隙率和耐蚀性进行了测定。显示了ＺＹ－０２型Ｎｉ－Ｐ合金镀层的优越性。     

化学镀Co—P／Ni—P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究，结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

纳米氧化镁合成工艺条件的研究

常温碱性条件下化学镀所得的低Ｐ含量的Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ阴极具有优良的析氢性能。为提高其稳定性，本文采用Ｆｅ基体上内层为化学镀Ｎｉ－Ｐ，外层为化学镀Ｃｏ－Ｐ的镀层结构。与单一镀层阴极相比，该复合阴极具有较好的抗反电流性能和长期的电位稳定性。     

化学镀Co－P／Ni－P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究。结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

化学镀镍—磷／钴——磷复合析氢阴极的性能研究

常温碱性条件下化学镀所得的低Ｐ含量的Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ阴极具有优良的析氢性能，为提高其稳定性，本文采用Ｆｅ基体上内层为化学镀Ｎｉ－Ｐ，外层为化学镀Ｃｏ－Ｐ的镀层结构，与单一镀层阴极相比，该复合阴极具有较好的抗反电流性能和长期电位稳定性。     

氧化稀土对Ni—P化学镀及其复合镀工艺及镀层组织成分的影响

研究了氧化稀土对Ｎｉ－Ｐ化学镀及其复合镀工艺及镀层组织成分的影响。结果表明，添加适量的稀土不仅能够提高镀速，稳定镀液，成倍提高第二相粒子的沉积量，而且稀土元素能够与Ｎｉ、Ｐ及第二相粒子共沉积，形成含烯土的复合镀层。