用溶胶—凝胶法制备Al2O3涂层工程陶瓷的表面改性研究

分析了溶胶－凝胶法制备Al2O3溶胶的适宜工艺条件。在氧化铝基陶瓷基体上成功地制备了Al2O3涂层;利用X射线衍射分析和差热分析（DTA）方法对Al2O3凝胶粉末的相变过程进行了研究,通过分析精磨,热处理,Al2O3一次和二次溶胶涂层4种试样的抗弯强度测量值对材料总体性能进行了估计,结果表明：Al2O3涂层工程陶瓷可以提高基体的抗弯强度而降低其分散性,效果好于单纯的热处理,通过观察4种试样的表面SEM形貌和两种涂层试样的断面SEM形貌提出了溶胶涂层钝化或弥合表面微裂纹的理论模型。     

Al2O3—SiO2混合溶胶—凝胶涂层对工程陶瓷表面改性的研究

利用溶胶－凝胶法在SG4工程陶瓷基体上成功制备了Al2O3-SiO2混合涂层;通过X射线仪测定了Al2O3-SiO2凝胶粉末的晶相组成。对精磨、热处理、Al2O3涂层和Al2O3-SiO2混合涂层四种试样抗弯强度的样本均值和样本标准离差进行了比较,并通过观察四种试样表面的SEM形貌和两种涂层试样断面的SEM形貌初步分析了表面改性的原因。分析结果表明：溶胶涂层对基体表面微裂纹有一定的弥合作用,可以提高基体的抗弯强度而降低材料强度的分散性,其效果好于单纯的热处理,Al2O3-SiO2混合涂层试样的表面质量优于Al2O3涂层试样;Al2O3-SiO2混合涂层渗入基体更深,可以更好地弥合基体表面微裂纹,有效提高基体的抗弯强度。     

溶胶-凝胶工艺制备ZrO2涂层对工程陶瓷表面改性的研究

采用无机盐先驱体 ,溶胶 -凝胶工艺在氧化铝基工程陶瓷上成功制备了ZrO2 涂层。用差热分析(DTA)、扫描电子显微镜 (SEM)、X射线衍射 (XRD)等分析手段对ZrO2 涂层的物相组成、表面和断面形貌进行了表征。对精磨、热处理、ZrO2 涂层试样的抗弯强度和Weibull模数进行了比较。结果表明 :ZrO2 涂层可以明显改善陶瓷的表面质量 ;涂层与基体结合紧密 ,无明显的界面层 ;涂层试样的抗弯强度和Weibull模数均比未涂层试样有明显的提高。     

Al_2O_3—SiO_2混合溶胶—凝胶涂层对工程陶瓷表面改性的研究

利用溶胶—凝胶法在SG4工程陶瓷基体上成功制备了Al2 O3—SiO2 混合涂层 ;通过X射线仪测定了Al2 O3—SiO2 凝胶粉末的晶相组成。对精磨、热处理、Al2 O3涂层和Al2 O3—SiO2 混合涂层四种试样抗弯强度的样本均值和样本标准离差进行了比较 ,并通过观察四种试样表面的SEM形貌和两种涂层试样断面的SEM形貌初步分析了表面改性的原因。分析结果表明 :溶胶涂层对基体表面微裂纹有一定的弥合作用 ,可以提高基体的抗弯强度而降低材料强度的分散性 ,其效果好于单纯的热处理 ,Al2 O3—SiO2 混合涂层试样的表面质量优于Al2 O3涂层试样 ;Al2 O3—SiO2 混合涂层渗入基体更深 ,可以更好地弥合基体表面微裂纹 ,有效提高基体的抗弯强度。     

复合溶胶-凝胶法制备陶瓷涂层的研究

介绍了一种新的陶瓷涂层制备工艺,即复合溶胶--凝胶制备工艺,并对其原理、优缺点、相应改进措施及应用前景进行综述.     

溶胶-凝胶法Al2O3涂层工程陶瓷抗弯强度的数学解析

应用数学方法分析了Al2O3涂层工程陶瓷抗弯强度的实验结果。叙述了用有限个试样的实验结果估计工程陶瓷总体抗弯强度的原理和方法,对得出的分布特征参数的物理意义进行了探讨,发现置信边值强度μ左可以反映材料总体抗弯强度的大小,而均方差置信区间右边值σ右则可以表征材料性能的分散程度,使用这两个参数可以更可靠地评价工程陶瓷的强度水平,可作为材料强度性能的评价指标。并用该强度指标分析了溶胶一凝胶Al2O3涂层对工程陶瓷表面改性的效果。     

溶胶-凝胶法对Al2O3陶瓷表面改性的研究

研究了八种不同陶瓷试样的抗弯强度和韦布尔模数。结果表明 ,试样的抗弯强度按线切割、粗磨、精磨、抛光、热处理、氧化铝一次涂层、氧化铝二次涂层、Al2 O3-SiO2 混合涂层的次序依次提高。而韦布尔模数以Al2 O3-SiO2 混合涂层最高 ,其次是热处理试样。理论分析可知 ,热处理过程可使裂纹钝化甚至弥合 ,减少了裂纹半径C ,因此提高了抗弯强度。涂层方法可以提高试样的抗弯强度 ,但可能使晶界与晶粒产生裂纹而导致韦布尔模数下降。由Al2 O3-SiO2 混合涂层试样的横截面SEM形貌图可知 ,该方法可使溶胶颗粒渗入基体更深 ,可以很好地弥合试样表层裂纹。     

氧化铝泡沫陶瓷及其表面溶胶–凝胶涂层的制备

采用有机泡沫浸渍法制备了氧化铝泡沫陶瓷,考察了工艺参数对泡沫陶瓷结构和性能的影响,研究了溶胶–凝胶法在泡沫陶瓷表面形成凝胶涂层的制备工艺。结果表明：对有机泡沫进行15%NaOH水溶液处理及5%PVA水溶液活化处理,采用离心挂浆工艺,制备了3种规格的的泡沫陶瓷,其孔尺寸范围为0.8～1.2mm,孔筋尺寸为0.1～0.25mm。泡沫陶瓷的抗压强度随ppi值（每英寸模板孔数）的增大而提高;二次挂浆有利于抗压强度的提高。泡沫陶瓷的抗热震性能随ppi值的减小而增加。采用负压浸胶工艺,可较好地在泡沫陶瓷表面形成TiO2凝胶涂层。     

溶胶-凝胶法硼酸镁晶须表面涂覆Al_2O_3

通过溶胶-凝胶法,采用异丙醇铝(Al(C3H7O)3)为原料,经过水解、缩聚、干燥和煅烧在硼酸镁晶须表面涂覆了Al2O3涂层。研究表明Al2O3颗粒细小、均匀分布在晶须表面,并提高了晶须的表面自由能,有利于晶须与液态金属的润湿,Al2O3溶胶浓度为0.4mol/L时预制块抗压强度高达48.4MPa,较未涂覆时预制块强度增加了115%。     

溶胶-凝胶法制作陶瓷涂层硬质合金刀具

以异丙醇铝为前驱物,将溶胶－凝胶工艺应用于硬质合金刀片涂层,研制成功一种新型的陶瓷涂层刀片。使用浸渍提拉法对刀具基体进行涂层,在基休表面获得勃姆石凝胶膜,经１２００℃热处理后可以得到厚度适宜的α－ＡＩ２Ｏ３涂层,支完整,无宏观缺陷,并且后可以得到厚度适宜的α－ＡＩ２Ｏ３涂层,涂我宏观缺陷,并且在初步的切削实验中显示出一人而为涂层恨具制造展示了一种全新的涂层方法。利用扫描电子显微镜（ＳＥＭ０观察了涂     

溶胶凝胶法氧化铝分离膜制备工艺探讨

以异丙醇铝为主要原料，将原料子处理后，用溶胶-凝胶法制备Al2O3，膜，考察胶溶剂的种类和用量、水解温度、回流时间等制备条件对Al2O3，膜微观结构的影响。研究结果表明，选择用HCl作为胶溶剂，调节溶液pH值为2．O-3．5、水与乙醇体积量比为1：1、水解温度为80～85℃左右。通过预处理，合成时间缩短，为6～8h左右，可以制得微观结构性能比较好的Al2O3膜。     

SiC晶须增强Al2O3—TiC复相陶瓷的研究

运用品须补强和粒子弥散双重手段,对氧化铝材料的性能进行改进。比较了Al_2O_3-TiC(AT),Al_2O_3/SiC_w(As),Al_2O_3-TiC/SiC_w(ATS)材料的力学性能,证实ATS材料有明显的迭加增强增韧效果,并具有良好的高温力学性能。抗氧化实验证实,将SiC晶须加入AT中以后,材料的抗氧化性能有明显改进。从热膨胀失配角度分析和SEM显微结构观察证实,ATS材料的主要增韧机理是界面解离和裂纹偏转。     

氧化铝陶瓷钎焊工艺与接头强度的研究

用Ａｇ５７Ｃｕ３８Ｔｉ５钎料研究了氧化铝陶瓷真空钎焊，探讨了钎焊温度（８００￣１０５０℃）、压力（０￣０．３ＭＰａ）和时间（０￣６０ｍｉｎ）对接头强度的影响规律，分析了界面形貌与接头强度之间的关系。结果表明：陶瓷与钎料之间存在一明显反应过渡层，反应层强度和反应层与陶瓷间的连结强度是控制接头强度的主要因素。当钎焊温度过低或过高、钎焊时间过短或过长时，由于界面反应不充分或脆性反应产物增加以及界面部分开     

用Sol—Gel法制备氧化铝多孔陶瓷的研究

主要研究了羟铝比（［ＯＨ－］／［Ａｌ３＋］）、铝离子浓度及成孔剂含量和温度对ｓｏｌ－ｇｅｌ法制备的氧化铝多孔陶瓷气孔率、气孔分布和显微结构的影响。实验结果表明：铝溶胶的最佳组成是羟铝比为２．３８,铝离子浓度为１０ｗｔ％,成孔剂含量为５ｗｔ％。随着烧成温度由１４２０℃升至１５００℃时,８＃试样的显微结构由松散的片状向连通贯穿的整体结构转变。在１４５０℃时,２＃试样（［ＯＨ］／［Ａｌ３＋］＝２．３３）主要是单个颗粒连接的结构;８＃试样（［ＯＨ］／［Ａｌ３＋］＝２．４０）主要是相互贯穿连成一体的结构。前者气孔率小于后者,其气孔分布范围较后者更窄     

Al_2O_3－AlN－TiC复合陶瓷的制备与微观结构

用反应烧结和气氛烧结技术制备Ａｌ＿２Ｏ＿３－ＡｌＮ－ＴｉＣ复合陶瓷，用ＸＲＤ，ＳＥＭ等测试手段进行了微观结构的研究，结果表明，用该技术制备的复相陶瓷含有纳米级的ＡｌＮ晶粒，从而使得在较低的烧结温度下可以制得比较致密的Ａｌ＿２Ｏ＿３－ＡｌＮ－ＴｉＣ复合陶瓷。     

溶胶-凝胶法制备PbTiO3基铁电陶瓷的高频晶粒尺寸效应

首次报道了溶胶－凝胶法制备钛酸铅基铁电陶瓷的晶粒尺寸对其高频介电性能的影响。实验研究表明,铁电陶瓷的高频介电弛豫主要是由材料内部的畴壁共振引起的,晶粒尺寸增加,畴壁尺寸增大,介电弛豫向低频移动,反之,晶粒尺寸减小,畴壁尺寸变小,介电弛豫向高频移动 。     

溶胶-凝胶燃烧法合成Cr~(3+):Al_2O_3纳米粉体

采用溶胶-凝胶燃烧法合成出Cr3+:Al2O3纳米粉体.将所制成的干凝胶加热至约500℃使之发生燃烧反应,再将燃烧产物在不同的温度下进行锻烧.利用热重-差热分析、X射线衍射(X-ray diffraction,XRD)、透射电子显微镜(transmission electron mictoscope,TEM)等对干凝胶及煅烧粉体进行表征,测试了纳米粉体的发光性能.研究了合成条件对粉体分散性、发光性能的影响.XRD和TEM分析表明:在1000℃煅烧1h后,粉体为α-Al2O3结构的单相氧化物粉体,颗粒大小为20～35nm.在制备溶胶时添加聚乙二酵可提高粉体的分散性.光谱分析表明:Cr3+:Al2O3纳米粉体的激发峰位于404nm和540nm,发射峰值位于692nm和668nm.