华虹NEC与Synopsys公司携手开发参考设计流程2．0

全球领先的电子设计自动化（EDA）软件工具领导厂商Synopsys与中国最先进的集成电路制造商之一上海华虹NEC电子有限公司于2006年10月13日宣布。双方将携手开发应用于华虹NEC 0．18μm工艺的参考设计流程2.0。华虹NEC选择Synopsys作为其首选EDA供应商后，将充分利用Synopsys Professional Services开发基于Synopsys Galaxy^TM设计平台和Discovery^TM验证平台，以及华虹NEC I／O和标准单元库的完整RTL—to—GDSII参考设计流程。     

华虹NEC携手Synopsys开发参考设计流程

电子设计自动化(EDA)软件工具厂商Synopsys与上海华虹NEC电子有限公司近日宣布,双方将携手开发应用于华虹NECO．18μm工艺的参考设计流程2．0版本。华虹NEC选择Synopsys作为其首选EDA供应商后,将充分利用Synopsys Professional Ser- vices开发基于Synopsys Galaxy设计平台和Discovery验证平台,以及华虹NEC I/O和标准单元库的完整     

EVOC推出875P工业级主板FSC-1717VN

Synopsys公司与上海华虹KEC电子有BR公司日前正式宣布．双方针对华虹NEC0．25微米芯片生产线，为共同的用户一起开发并推出了新一代的参考设计流程，这流程基于Synopsys Galaxy设计平台和华虹NEC的I／O和0．25微米标准单元库。设计者可以从华虹NEC得到设计流程，而且马上就能够开始使用Synopsys基于顶级设计工具并经过验证的方法，从而帮助他们解决复杂片上系统(SoC)设计中时序收敛方面的挑战，缩短设计周期，更快地达到量产。     

华虹NEC与Synopsys携手开发参考设计流程2.0

Synopsys与上海华虹NEC电子宣布,双方将携手开发应用于华虹NEC0.18μm工艺的参考设计流程2.0。华虹NEC选择Synopsys作为其首选EDA供应商后,将充分利用SynopsysProfessionalServices开发基于SynopsysGalaxy设计平台和Discovery验证平台,以及华虹NECI/O和标准单元库的完整RTL-to-GDSII参考设计流程。华虹NEC和Synopsys联合开发的参考设计流程2.0助设计人员应对时序闭合的挑战,降低风险并实现复杂的系统级芯片(SoC)的预期成功。该流程采用具有R T L合成、物理实现和签证功能的Galaxy设计平台,以及包括RTL仿真VCS解决方案的…     

Synopsys与华虹NEC共推参考流程

日前全球集成电路(IC)设计软件领导厂商Synopsys公司与中国最先进的集成电路制造企业之一——上海华虹NEC电子有限公司正式宣布,双方针对华虹NEC 0.25μm芯片生产线,为共同的用户一起开发并推出了新一代的参考设计流程。 这一经验证的流程基于Synopsys Galaxy设计平台和华虹     

Synopsys与华虹NEC共同推出参考设计流程

随着中国IC产业的快速发展,IC设计厂商需要它们的Foundry厂商能够达到高产能并拥有设计流程的灵活性。为满足这些需求,Synopsys公司与上海华虹NEC电子有限公司针对华虹NEC0.25mm芯片生产线,为共同的用户一起开发并推出了新一代的参考设计流程。这一经验证的流程基于SynopsysGalaxy设计平台和华虹NEC的I/O和0.25mm标准单元库。设计者可以从华虹NEC得到设计流程,而且马上就能够开始使用Synopsys基于顶级设计工具并经过验证的方法,从而帮助他们解决复杂SoC设计中时序收敛方面的挑战,缩短设计周期,更快地达到量产。这个已完成的RTL…     

业界动态

北京微电子国际研讨会隆重召开；华虹NEC与Synopsys公司携手开发参考设计流程2．0；KLA-TENCoR的PUMA 91XX暗场检测系统提供成功的PUMA9000生产能力；业界首款四通道PMU带有内置DAC；[编者按]     

Synopsys和华虹NEC合作推出低功耗参考流程3.0

全球领先的半导体设计、验证和制造软件及知识产权(IP)供应商新思科技有限公司,以及中国大陆领先的IC代工服务供应商上海华虹NEC电子有限公司(HHNEC)今日宣布:即日起推出130纳米参考流程版本3.0。该参考流程是Synopsys和华虹NEC共同合作的结晶,它将Synopsys EclypseTM低功耗解决方案加入到之前为设计师所提供的各种参考流程之中。     

Synopsys和华虹NEC合作推出低功耗参考流程3.0

<正>全球领先的半导体设计、验证和制造软件及知识产权(IP)供应商新思科技有限公司以及中国大陆领先的IC代工服务供应商上海华虹NEC电子有限公司近日宣布:即日起推出130nm参考流程版本3.0。该参考流程是Synopsys和华虹     

华虹NEC采用SYNOPSYS的PROTEUS光学近似修正软件

Synopsys公司和上海华虹NEC电子有限公司(以下简称华虹NEC)日前正式宣布．华虹NEC采用了Synopsys的Proteus光学近似修正(OPC)软件。华虹NEC是一家由NEC公司、Jazz Semiconductor和上海华虹集团成立的台资公司，也是中国最领先的8英寸半导体代工厂商之一。华虹NEC选择Proteus软件以增加制造精度，缩短完成掩膜综合的时间，井通过利用Proteus独特的可扩展架构达到更高的成品率。     

技术动态

惠普推出超小型无线数据存储器；超低耗蓝牙无线技术Wibree有望商用；华虹NEC推出0．18微米EEPROMPDK；ST公布45纳米CMOS设计平台。     

国内新闻

具有自主知识产权的CPU芯片龙芯2E通过验收，华虹NEC与Synopsys公司携手开发参考设计流程2.0，宏力半导体与凌讯科技携手合作为中国数字电视提供解决方案，海力士意法12寸线投产 产能有望超中芯，AMD扩建苏州封装厂，高纯双氧水厂在苏州落成，杭州士兰微电子获ARM926EJ-S处理器授权，三季度联电净利润增长四倍，中微半导体设备公司在第二期融资中获得3500万美元。[编者按]     

新闻集锦

Synopsys与联华电子合作，以Galaxy设计平台的低功耗和DFT功能加强90nm参考流程。     

华虹NEC携手华大电子成功开发出第一款银联认证的移动支付芯片

上海华虹NEC电子有限公司（以下简称“华虹NEC”）日前宣布,国内主要的智能卡芯片设计公司之一,北京中电华大电子设计有限责任公司（以下简称“华大电子”）基于华虹NEC成熟的0．13微米嵌入式存储器工艺平台,成功开发出了国内第一颗通过银联认证的国产移动支付芯片（CIU98768A）。     

苏州国芯32位RISC核通过华虹NEC 0．25微米工艺验证

华虹NEC与苏州国芯科技有限公司宣布，苏州国芯科技有限公司的32位RISC CPU CS320内核，日前在华虹NEC的0．25微米标准工艺验证通过。标志着用户可以直接采用CS320内核设计基于华虹NEC 0．25μm工艺的SoC产品。     

基于多种EDA工具的ASIC设计流程

本文结合 RISC-CPU实例，采用华虹NEC提供的0．35μm3．3v的工艺库，介绍了利用多种EDA工具进行设计ASIC的实现原理及方法，其中包括设计输入、功能仿真．逻辑综合、时序仿真．布局布线．版图验证等具体内容。并以实际操作介绍了整个ASIC设计流程。     

Cypress 0．13umeFlash工艺成功移植华虹NEC

华虹NEC与Cypress为0．13um嵌入式闪存工艺的成功转移,双方高层近日举行了小规模庆祝活动,华虹NEC总裁刘文韬、CTO梅绍宁、设计服务副总裁汤天申等和项目开发团队,与Cypress晶圆厂执行副总裁＆中国区总裁Shahin Sharifzadeh等4人会晤并互赠了纪念奖牌。     

华虹NEC推出业界领先的0．13微米嵌入式EEPROM解决方案

上海华虹NEC电子有限公司（以下简称“华虹NEC”）日前宣布,公司基于0．13微米嵌入式闪存（eFIash）工艺平台,成功开发出面向高性能智能卡、信息安全及微处理器等应用的嵌入式EEPROM（电可擦可编程只读存储器）解决方案,充分展现了华虹NEC在嵌入式非挥发性存储器（eNVM）技术上的领先地位和创新优势。     

华虹NEC成功开发具超高可靠性的嵌入式非挥发性存储器模块

上海华虹NEC电子有限公叫近LI宣布,基于公司成熟的0．13微米SONOS嵌入式仔储器T艺平台,已成功地开发Ⅲ了具有趟高可靠性（UHR—ultraHighReliability）的嵌入式非挥发性存储器模块（EEPROM／FlashlP）,使0．13微米SONOSEEPROM／FlashIP的数据保存时问从常规的10年提升到了超过30年,而擦写次数则从100K大幅提高到超过500K。这次在0．13微米嵌入式存储器工艺上的技术提升将进一步扩大华虹NEC在嵌入式非挥发性存储器代工市场上的竞争优势,巩固公司在智能卡和安全类芯片领域的地位。（来自华虹NEC）     

华虹NEC举办西安技术研讨会

上海华虹NEC电子有限公司（以下简称“华虹NEC”）日前宣布，由华虹NEC主办，国家集成电路设计西安产业化基地、陕西集成电路行业协会和西安市集成电路产业发展中心承办的“2007华虹NEC西安技术研讨会”于近日在西安隆重举办。此次研讨会是华虹NEC公司首次在西部地区举办研讨会，