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机械部桂林电器科学研究所承担的“聚酰亚胺薄膜制造工艺及提高性能研究”课题,在机械部电工局有关领导的大力支持下,在天津绝缘材料厂、机械部第七设计研究院的大力协作,密切配合下,已经取得了可喜的成果。该课题经多年努力,已经确定了一条制造双轴定向聚酰亚胺薄膜的工艺路线,研制了合乎新工艺要求的专用设备,制得的成卷薄膜样品,主要性能达到国外名牌产品Kapton H的实际水平。最近,顺利地通过了机械部电工局主持的技术鉴定。 相似文献
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国产聚酰亚胺薄膜与目前国际权威产品美国杜邦公司H——薄膜相比,机械性能差。以0.05mm薄膜为例,H——薄膜的抗张强度和断裂延伸率均比国产薄膜高40%。鉴于聚酰亚胺薄膜极为广泛的用途,如何结合国内生产实际,开发浸胶法的工艺潜力,提高国产薄膜的性能,已是一个不容忽视的 相似文献
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由机械部桂林电器科学研究所与深圳市能源总公司、香港港深繁荣投资促进中心合资的深圳兴邦电工器材有限公司业已完成国内第一条双轴拉伸聚酷亚胶薄膜的生产线,年生产能力为60吨,薄膜宽度可达650-700mm。产品经机械部绝缘材料产品质量监督检测中心有关人员在美国UL公司进行测试,使用UL公司RTP试验室设备与UL试验室测试人员按UL746A方法共同对兴邦公司的聚酸亚胺薄膜进行安全、可靠性试验,试验结果与美国EIDuPoutDeNem。urs&CoInc.同类同规格产品相比,除长期耐热性相比温度指数未经评定外,其中高压电弧引燃(HVAR)、相比… 相似文献
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采用溶胶-凝胶法制备了聚酰亚胺/纳米二氧化硅(SiO2)复合薄膜,研究了SiO2含量对复合膜性能的影响。结果表明,复合膜的密度随SiO2含量的增加而增大,与其SiO2含量基本上呈线性关系;与纯聚酰亚胺薄膜相比,复合膜中SiO2含量达到30~40%时,导热系数可提高1倍以上;表观分解温度随SiO2含量的增加先增大后减小,SiO2含量大约在10~20%时达到最大值;SiO2含量不大于10%时,拉伸强度变化不大或略有增加,随着SiO2含量的继续增加,拉伸强度则迅速下降;复合膜常态下的体积电阻率当SiO2含量不大于10%时变化不大,但体积电阻率受湿度影响较大。 相似文献
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聚酰亚胺/纳米氧化铝复合薄膜的研究 总被引:3,自引:6,他引:3
采用溶胶-凝胶法制备了聚酰亚胺/A1203,纳米复合薄膜,通过测定胶液在贮存过程中粘度的变化研究了纳米复合胶液的贮存稳定性,采用热失重分析、拉伸强度和体积电阻率等测试方法研究了纳米复合薄膜的性能。结果表明,当A1K),含量不大于14%时,纳米Alz03前驱体的存在对纳米复合胶液的贮存稳定性影响不大或基本上没有影响;与纯PI薄膜相比,Ah03含量不大于5%时,纳米复合薄膜的表观分解温度、拉伸强度以及常态下的体积电阻率均有明显提高:纳米A120,的存在有利于改善高温电性能。 相似文献
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本文从接触辊直径和工艺参数两个方面分析了 BOPP薄膜分切重卷中产生内皱的原因 ,并以此为依据采取相应措施来解决膜卷内皱问题 相似文献
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本文从接触辊直径和工艺参数两个方面分析了BOPP薄膜分切重卷中产生内皱的原因,并以此为依据采取相应措施来解决膜卷内皱问题。 相似文献
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《绝缘材料》2016,(8)
聚酰亚胺(Polyimide,PI)因其具有良好的热稳定性和优异的耐电晕特性广泛应用于变频电机中,添加纳米粒子可以有效提高PI薄膜的绝缘性能。为了系统的研究PI纳米复合薄膜的耐电晕机理,利用原位聚合法制备了纯PI膜和纳米Al2O3掺杂的PI膜,测试两种薄膜的表面电导率、体积电导率、热失重(TGA)以及高频方波脉冲下的耐电晕时间,并用SEM观测两种薄膜击穿后的表面形貌。结果表明:添加纳米粒子使PI薄膜的电导率、热分解温度和耐电晕时间增加;电晕放电的侵蚀使得两种薄膜表面都出现微孔和沟壑,PI/Al2O3薄膜表面析出纳米粒子;在电晕侵蚀过程中,纳米PI薄膜强的表面电荷扩散能力和高的热稳定性,加上析出的纳米粒子对电子和光子的屏蔽阻挡作用,是PI薄膜耐电晕性能增强的主要原因。 相似文献
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本文介绍了电容器用双轴拉伸聚丙烯薄膜的制造要点 ,阐明了其表面易发生粘膜与静电问题的原因及应采取的措施 相似文献
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本文介绍了电容器用双轴拉伸聚丙烯薄膜的制造要点,阐明了其表面易发生粘膜与静电同题的原因及应采取的措施。 相似文献
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《绝缘材料》2018,(11)
采用逐层流延铺膜及热亚胺化法制备了掺杂层纳米氧化铝含量不同的聚酰亚胺/氧化铝(PI/Al_2O_3)三层复合薄膜。通过透射电子显微镜、X射线衍射仪对复合薄膜进行表征,并对复合薄膜的力学性能、热稳定性及耐电晕性能进行测试。结果表明:复合薄膜具有明显的三层结构,掺杂层中纳米Al_2O_3颗粒分散均匀,纳米Al_2O_3的加入会降低PI基体的排列有序度。加入纳米Al_2O_3颗粒后PI/Al_2O_3三层复合薄膜的拉伸强度和断裂伸长率降低,热稳定性和耐电晕性能提高。当掺杂层无机含量为16%时,PI/Al_2O_3三层复合薄膜的耐电晕时间比纯PI薄膜提高了48倍。 相似文献
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亚胺薄膜挠性敷铜复合箔,是国际市场60年代以后新发展起来的电子工业线路用绝缘材料。是目前敷铜材料中发展最快的一种。每年以25%的速度递增。本文首先叙述了挠性敷铜复合箔的发展 相似文献
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二氧化硅/聚酰亚胺纳米复合薄膜的制备与性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用溶胶-凝胶法,以苯基三乙氧基硅烷(PTES)为前驱体制备了氧化硅溶胶,并以均苯四甲酸二酐(PMDA)和4,4’-二氨基二苯醚(ODA)为原料,用原位生成法制备了一系列不同掺杂量(质量分数)的PI/SiO2复合薄膜。分别采用热失重分析仪(TGA)、扫描电镜(SEM)、耐电晕测试装置和耐击穿测试装置对薄膜的热性能、电性能进行了测试。结果表明,掺杂量为15%时纳米氧化硅粒子在PI基体中分散均匀,掺杂量为10%,热分解温度达到最大值,并且在工频50 Hz,场强为60 MV/m的室温条件下,掺杂量为15%时复合膜的耐电晕时间最长为55.73 h,电气强度为327 MV/m高于纯膜。 相似文献