实用的创新型激光光学元件和系统部件

1库格勒公司简介 库格勒激光光学元件和部件凝聚了库格勒公司(KUGLER GmbH)20多年来在精密加工工程和金属反射镜制造方面积累的经验.在工业发达国家,当人们谈论激光工业界、激光设备制造商和激光器用户所需要的最佳反射式光学零部件和光学系统时,总是首推库格勒公司制造的产品.库格勒公司不仅擅长制造现代化的激光光学产品,而且还从事相关的咨询、研发和人员培训.库格勒公司能够提供一系列先进的产品:从单一的激光反射镜到高精密的非球面自适应光学部件,从标准型光束偏转镜到完整的CNC激光聚焦机头,以及以库格勒气浮轴承技术为基础的精密旋转计量平台和微加工机床.库格勒公司向客户提供高可靠性的先进产品,这些产品的高性价比已经在许多客户的实际应用中得到了证实.     

磁流精加工技术—精密光学元件制造自动化

在光刻技术中,由于对部件面形需求达到均方根0.005λ,其部件技术要求通常已超越了商业高速光学制造设备的能力。即使在研磨抛光设备采用了计算机数字控制前后处理及象通过离子束这样的先进技术进行最后成形和计算机控制抛光,光学元件仍须有精良技艺的技师的有效工作,因此而带来可靠性,可预见性、生产率、造价以及专业劳动力的获得等方面的问题。     

非球面的超精密镜面抛光

1.前言近年,随着光电子学的发展,光学仪器、OA仪器、AV仪器等的小型轻量化、低成本化、高功能化让人感到震惊。其中之一就是采用非球面光学元件。作为这个非球面光学元件低成本制造方法之一就是运用模具的成形法。电视投影透镜、CD拾取透镜、照相机透镜等,过去认为制作相当困难的非球面透镜现已能大批量地生产了。为了制作这样的非球面透镜,需要有制造成非球面形状的加工技术及研磨制造成面的高精度镜面研磨技术。虽然说是得到好的镜面及最佳的形状,但是技术水平与其它的加工相比还达不到成熟阶段。     

用光刻法集成光学元件

平面光刻术为制造光纤通信用的各种光学元件提供了一种能大幅度降低生产费用的先进方法。与半导体工业技术相同,采用平面光刻集成法可在给定劳动量、资本和材料的条件下增加组件的数量,也可通过增加元件的整体功能减少元件数量（见图1）。 用光刻法制造光学元件所用材料与电子器件不同,但加工过程相同,生产半导体器件40年来积累的经验仍然适用。尤为重要的是,光刻设备目前已得到广泛应用,这些设备的操作人员和设计人员都具有一定的经验。     

罗门哈斯：深化电子材料技术购入LCD业务

罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部近日宣布,其IC1000研磨垫产品线又增添了两款新品--IC1000 AT低缺陷率研磨垫及IC1000 AT长寿命研磨垫,有效降低量产缺陷率和设备拥有成本,满足90nm以下级别半导体设备制造商不断变化的生产需求.不久前,罗门哈斯就并购柯达光学机能膜事业部一事达成协定,该事业部主要负责研发及制造可提高液晶显示器(LCD)显示亮度及效率的先进薄膜.     

用于薄膜器件的超纯室设备

美国巴特耳纪念学院哥伦布分部建立了一套超净室设备，可以用来研制技术要求很高的微型元件和器件。这套设备能使公司扩大设计研究、制造和评价微型光学元件、薄膜和机械装置。     

21世纪EMS市场的发展趋势

20多年前,SCI设备公司响应IBM公司的号召,将元件贴装到印制电路板上,(即所谓的表面组装技术“SMT”)。商业电子制造服务(EMS)行业由此而诞生。那时,品牌的原始设备制造商(OEM)通常使用EMS公司提供的材料和专门的制造技术。然而,在表面组装技术诞生之前,OEM是工艺技术的先行者,而不是EMS供应商。在实施组装过程中,一般都是使用EMS     

西门子电子装配系统有限公司扩展其技术专业网络

西门子电子装配系统有限公司（SEAS）将进一步扩展其全球siplace技术专业网络。通过与其它技术供应商达成合作协议,SEAS致力于为其共同的客户带来协同制造解决方案。SEAS坚信SMT设备制造商之间的这一有效互动将可以把电子生产中当前未得到利用的重大效率与生产力潜能发挥到才及致。除了与其它主要电子制造设备制造商紧密合作外,西门子电子装配系统有限公司的首席执行官Gunter Lauber还计划增强公司与大学、领先研究机构和制造专家的合作。     

非轴对称非球面光学元件的研磨

随着超精密微细加工用短波段SR等新光学领域的需要,表1所示的前所未有的光学元件的开发已势在必行.超光滑研磨加工是决定这些光学元件性能的重要手段.由于在X波段无反射材料,故光学元件数非常有限,为了获得高分辨率,人们要求开发大口径、非轴对称非球面光学元件的表面精度达亚纳米级的加工技术.     

威世广泛高端的无源元件产品系列

威世公司创立于1962年,现已发展为多样化电子元件产品制造商,为客户提供了“一站式”服务。通过“一站式”服务,客户可以方便地从威世定购到多种元件。威世元件广泛应用于各种类型的电子仪器和电子设备中,包括工业、计算机、汽车、消费电子等各种领域。其足迹遍布全球,在中国、以色列、欧洲和美洲等地建立了制造工厂,并在全球范围内建立了销售办事处。     

Multitest的Gemini Kelvin是QFN和BGA开尔文测试座的首选

面向世界各地的集成元件制造商（IDM）和最终测试分包商,设计和制造最终测试分选机、测试座和负载板的领先厂商Multitest公司目前宣布其Gemini Kelvin在两家长期客户迅速得到广泛应用,这两家客户均位于前25大IDM之列。     

过度竞争改变分销市场

曾经有一段时间电子产品原始设备制造商(OEM)和电子制造服务(EMS)提供商对元件分销商的全部期望是成交率.用意很简单:以适中的价格,购得合适的元件,并及时到货.     

Bookham荣获华为“杰出核心合作伙伴奖”

领先的光学元件、模块和子系统供应商Bookham公司荣获由电信设备制造商华为公司颁发的“杰出核心合作伙伴奖”。这是Bookham近年来第四次获得华为颁发的供应商大奖。该项大奖是对Bookham公司高性能、高可靠的产品,持续卓越的供货表现,以及优秀客户服务质量的充分肯定。     

塑料光学元件的优点

塑料光学元件比较玻璃元件给制造商带来了更多的明显利益。尽管工具和模具的制造价格昂贵,然而一旦制造过程这一部分完成,。塑料元件批量生产的价格仅仅是数便士而已。塑料光学元件具有重量轻、不易破碎、有助于安装和校准,并容许制造微米尺寸级的特性,而玻璃却几乎不可能做到这一点。少量的塑料部件可以立刻被模制出来,使用多腔模具可减小制造时间和生产成本,多个透镜可由组装成一个部件的小透镜取代。最后,塑料光学元件能够采用包括颜料和涂料等各种方法加以徐装和模制。这些优点使得塑料光学元件在电子产品消费工业中成为当然的选…     

Nepcon/EMT China 2006创下新纪录

4月申城再一次成为电子制造领域精英云集荟萃的聚点,Nepcon/EMTChina2006于4月在上海隆重拉开了帷幕。本届Nepcon/EMT分别由表面贴装技术和设备、焊接、元件制造、测试、测量和电子制造服务组成,展品涵盖专业领域的全套产品,从前端产品制造到客户服务方案解决,一应俱全。与往年     

深度学习的光学超精密制造设备状态模式识别

为提升超精密光学元件成品质量以及成品率,提出了深度学习的光学超精密制造设备状态模式识别方法,采集光学超精密制造设备状态数据集后,通过数据处理、关联分析与回归分析获取光学超精密制造设备状态数据集的关联度与拟合函数结果,将其作为训练样本输入卷积神经网络,通过卷积操作、池化操作以及网络结构与设置实施深度学习的模式识别,通过输出深度学习结果模式识别光学超精密制造设备状态,最后实验结果表明,本文方法可有效识别该制造设备的压力、转速、元件摆幅、元件摆速异常状态,总识别准确率高达99%,具有较高实用性能。     

满足高级封装装配的要求

细线PCBs高级封装装配的各种元件正驱使设备制造商提供适应性更强、更精密的装配设备。要成功地实现高级封装技术,应使很多技术集成一体化,向高级封装技术的转变改变了元件定位能力,定位精度的各项要求在高级封装类型之间得到了广泛地变化。     

基于短波长紫外激光的光学元件成形

1　前言在激光核聚变中需要大量使用大尺寸、高精度的光学元件。例如 ,直径达 6 0～ 10 0cm的反射镜 ,40～ 80 cm量级的聚焦透镜及激光窗片 ,对应于直径 35 cm光束的激光玻璃等 ,均要求以λ/ 6以下的波前像差制作 ,供装置使用。这些光学元件几乎都采用研磨工艺制作 ,尤其是大尺寸光学元件 ,因为研磨工艺及波前的检查、校正都是花费时间并要求操作熟练的作业 ,需要长制作周期和高成本。此外 ,在激光核聚变中 ,当用多束激光照射靶丸时 ,需用光学元件消除每条光束的不均匀性。为此 ,就必须控制插入光学元件的透射或反射波前 ,以在靶丸上获得均…     

利用准分子激光刻蚀法在光学玻璃上快速制作耐用的相位透射光栅

1　简介　　现在各种产业对衍射、折射式和混合式的微小光学器件有着强烈的需求。随着这一领域的快速发展 ,已为微小光学元件的制造、复制和后期加工研制出许多方法 ,包括电子束刻蚀、光刻蚀、铸模、钻石切削和其它技术。这些不同的方法几乎可以获得任何所需要的光学表面结构 ,但是大多数方法需要适合选定工艺的特殊材料 ,而这种工艺却又不一定满足应用的要求。以玻璃为基质的微小光学元件以其独特的光学、电学和热学特性及其可以承受较高光功率密度的特性 ,将会有极大的需求。特别是传统的加工技术 ,例如切削不适合于可见光和紫外光波段常…     

化学研磨抛光技术在IC制造设备中的应用

IC制造设备中的关键零部件对于其内外表面粗糙度有着很高的要求。传统的研磨抛光技术很难达到这一要求,从而直接影响了IC制造设备的国产化进程。化学研磨抛光技术作为一种新兴的材料表面处理技术,通过化学药液浸蚀方式,可以在短时间内完成对于各种复杂形状零件的内外表面研磨抛光,同时可以使工件表面满足较高的物理化学性能要求,非常适合于IC制造设备中高真空度、高洁净度要求的零部件生产加工。