磁性存储高密度化的课题与未来

磁记录技术高密度化的发展势头不减。预计到 2010年,面记录密度将会达到 100 Gbpsi。目前正在探索实现这一目标的办法。其中之一就是垂直磁化方式。本文就垂直磁化方式的课题及其解决方法以及磁存储技术的未来进行了论述。     

磁性存储高密度化的课题与未来

磁记录技术高密度化的发展势为减。预计到２０１０听,面记录密度将会达到１００Ｇｂｐｓｉ。目前正在探索实现这一目标的办法。其中之一就是垂直磁化方式。本文就垂直磁化方式的课题及其解决方法以及磁存储技术的未来进行了论述。     

纳米技术助力高密度存储

专家认为，常规磁存储技术在2010年左右会达到极限，未来磁存储密度能否获得突破性的发展，几乎完全取决于相关领域纳米材料的研究成果。     

高密度磁记录介质容量研究

近年来．随着记录密度的不断提高．传统的纵向记录介质面临诸多挑战。首先，密度越高，记录波长越短．记录位的退磁场越强，从而导致记录信号的不稳定。根据磁记录理论．退磁场Hd∝Mrt／He(He为介质的矫顽力，Mr为介质的剩余磁化强度，t为介质磁层厚度．Mrt为剩磁厚度积，或称为面磁矩)，     

超高密度磁记录的课题与展望

介绍了超高密度记录的研究开发状况 ,论述了垂直磁记录技术的课题以及采用TMR磁头的、记录密度为Subterabit in2 的记录 读出特性。作为高密度记录所必需的头 盘界面技术 ,提出了接触记录技术的课题 ,还就STM (Scanningtunnelingmicroscopy)存储器论述了未来超高密度技术     

2002～2003年磁记录材料新进展

本综述论文开始写于1999年,其后每年撰写.本年的综述内容包含:(1)磁记录头材料;(2)巨磁电阻材料;(3)垂直磁记录材料;(4)高密度磁存储材料;(5)磁膜的磁光法研究.     

2002～2003年磁记录材料新进展

本综述论文开始写于 1999年 ,其后每年撰写。本年的综述内容包含 :(1)磁记录头材料 ;(2 )巨磁电阻材料 ;(3)垂直磁记录材料 ;(4 )高密度磁存储材料 ;(5 )磁膜的磁光法研究     

应对高密度存储的挑战

高密度存储已经成为光学数据存储技术（ODS）的发展潮流，通过全球范围的研发战略以及与ODS开发商，生产商及设备制造商的紧密合作，拜耳材料科技使品质超凡的模克隆，聚碳酸酯成为这一高速发展领域的理想材料。[编者按]     

高密度粒子带的记录特性和热稳定性与粒子尺寸的相关性

通过试验和理论分析,研究由已知物理尺寸和磁性能的微细磁性粒子组成的高密度数字记录特性和磁化强度的热稳定性。观察了ＭＰ带的大于６００ｋＦＲＰＩ的重复信号,ＭＰ带由平均长度为７０ｎｍ的金属粒子组成。     

储氢材料的研究现状与发展趋势

氢能可提供稳定、高效、无污染的动力,在电动汽车等领域有广阔的应用前景.但是氢能技术面临氢的规模制备、储存和运输等主要挑战.其关键是能否开发具有足够容量的储氢材料,将氢在温和条件下可控释放.现有储氢方式主要有物理储存和吸附、金属氢化物、化学氢化物等.本文综述了上述主要储氢方式的研究现状,并评价了未来最可能用于氢能规模利用...