非晶硅太阳电池的激光刻划

对一台用于非晶硅太阳电池的激光刻划和计算机控制系统进行了理论分析,成功地完成了非晶硅和透明导电膜的刻划工艺。     

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美国通用电气公司与相干公司联合组成通用激光公司，发展工业用激光系统。图为公司管理人员在检查计算机控制的激光切割装置。……     

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英国J. K. 激光有限公司在慕尼黑《激光79》展交会上展出的计算机控制的高平均功率激光焊接系统。……     

卷烟用振镜式激光防伪打标机设计

简要介绍了“卷烟用振镜式激光防伪打标机”的系统构成及激光器、声光调制、振镜扫描、计算机控制和制冷等分系统的设计。     

塑料和金属加工工业用的激光自动机

日本的机器人技术与联邦德国冲床技术数十年的丰富经验相结合，1985年在法兰克福建立了三维激光技术公司，生产一种三维激光自动机。这种用计算机控制的五轴激光自动机可精确地切割汽车部件、冰箱内壁乃至摩托车挡板。     

用于微细圆弧加工的激光刻录机

声盘、视及光的亚微米圆弧线一般通过激光刻录机光刻制造，本文结合我国开发的用于磁盘伺服图形录写的激光刻录机，从机械结构、光路系统及计算机控制系统等方面，对其进行了研究分析。     

激光影碟机的计算机控制技术

随着人民群众生活水平的不断提高,激光影碟机的使用越来越普遍。由于激光影碟具有图像清晰、不易磨损、随机选曲速度快等一系列优点,目前已被广泛地应用在家庭娱乐和KTV设备中。 本文将要向读者介绍的是激光影碟机在计算机控制下的应用技术。这是影碟机在更高层次上的应用,它不仅适用于高级卡拉OK歌厅的计算机自动点歌系统,而且也适用于与多媒休应用有关的实际工程项目。例如,在一个仿真学员培训系统中。     

激光应用

SPIE-Vol.3822 01183941999年 SPIE 会议录,卷3822:计算机控制微成形=1999 proceedings of SPIE,Vol.3822:Computer-con-trolled microshaping[会,英]/SPIE-The International So-ciety for Optical Engineering.—1999.—214P.(EC)本会议录收集了于1999年6月16～18日在德国慕尼黑召开的计算机控制微成形会议上发表的28篇论文,内容涉及激光烧蚀处理,激光加热,微工艺中的激光系统,对金属的激光微加工,高功率半导体激光器束质量改进。     

激光预警装置

本文报导了采取柱面透镜细分系统方案研制的激光预警装置,水平方位探测角分辨力为3°。该装置抗非激光干扰能力强,采用计算机控制,自动化程度高。经测试,性能指标符合要求。     

浅淡计算机对智能气动缓冲系统的控制

考虑到气动技术所具备的一系列其他技术所无法比拟的优势,在工业生产领域中得到了极为普遍的应用,是计算机对智能气动缓冲系统的控制的重要组成部分.在计算机控制技术不断发展的形势下,其对智能控制系统的部分性能优势以及整体系统结构和相应的控制理论等几个层次,都有十分重要的影响作用.计算机控制技术结合了电气技术,也对控制系统的性能、结构和控制理论等不同方面产生了极重要的影响.本文对计算机控制智能高速气动缓冲系统进行了系统性的分析,通过从气动技术的优势入手,对计算机控制智能高速气动缓冲系统做了整体的研究,以期可以使整体系统的高速气动缓冲控制得以良好实现.     

负折射率缺陷层的一维各向异性光子晶体缺陷模特性

本文提出了负折射率缺陷层的一维各向异性光子晶体结构,利用传输矩阵的方法给出了TE波和TM波的透射率,结果表明在TE波中出现两个及多个缺陷模,TM波存在单缺陷模,两种偏振状态不同的透射波的缺陷模能分开,得出了光通过负折射率缺陷层的一维各向异性光子晶体后TE波和TM波随入射角的变化特性、随缺陷层厚度的的变化特性。这些特性用于光子晶体多通滤波、光子晶体偏振和激光谐振腔等器件的设计具有重要意义。     

一种新型光子晶体的光学特性研究

本文提出了一种非对称一维各向异性掺杂光子晶体,通过传输矩阵法研究了这种新型光子晶体的光学特性,通过数值模拟得出:光通过该结构光子晶体后TE波和TM波缺陷模的透过率及中心波长位置随缺陷层介质的光学厚度、缺陷层两侧周期数的非对称性的变化规律,两种偏振光波能完全分开,缺陷层介质的光学厚度及掺杂层两侧的周期数层差越大,缺陷模的透过率越小,当光学厚度及层差达到某一极限值时,将产生完全光子禁带,这是对称结构光子晶体所不具备的光学特性,其光学特性将为光子器件的转换制作及应用提供理论依据。     

各向异性矩形掺杂光子晶体的缺陷模及量子效应

为了研究1维各向异性矩形掺杂光子晶体中缺陷模及量子效应,采用特征矩阵法研究了光波在其中出现的模式量子效应,并计算了TE波和TM波各模式缺陷模的变化规律,得出了1维各向异性矩形掺杂光子晶体缺陷模的新结构.结果表明,缺陷模的频率和透射角都随模式量子数的增加而增大,同一模式缺陷模的频率随矩形边长的增加而减小.     

光子晶体双通道可调谐偏振滤波器的设计

通过对设计出的一维掺杂光子晶体的数值计算和理论分析,得出了两个偏振态缺陷模的透射峰的变化特征为：TM波其缺陷模透射峰在入射角大于0.75（rad）范围内有多条明显的缺陷模透射峰带,而TE波在入射角大于0.75(rad) 范围内没有缺陷模透射峰;TM波缺陷模透射峰的波长 随杂质光学厚度 近似呈线性变化,并且同一空气膜厚度值可以截到两个波长不同的透射峰。以此为基础设计出：滤波通道波长可调范围大于100nm 、滤波通道的半高宽可调范围在1 nm — 6nm、滤波通道透射峰值大于0.98的一维光子晶体双通道可调谐偏振滤波器。     

含负折射率光子晶体缺陷模偏振态的吸收特性

为了研究含负折射率掺杂光子晶体各缺陷模偏振态的吸收特性,引入复折射率并利用光学特征矩阵法进行分析,结果表明：杂质的消光系数对TE波和TM波的缺陷模均有影响,但对TE波的影响更为明显;当消光系数一定时,对TE波而言,中心波长相对较大的两个缺陷模透射峰值均随入射角的增加而迅速减小,而TM波的三个缺陷模透射峰均随入射角的增加而增加。利用这一特性可以设计双（多）通道光子晶体偏振滤波器。     

〔A（BC）〕^m结构光子晶体光纤传输特性

通过引入缺陷和色散介质方法,调控光子的运动状态,研究一种〔A（BC）〕m结构负折射率光子晶体的TE波和TM波的传输特性和色散特性,得到两种模的色散特性随入射角变化而变化规律,并且其带隙比普通光子晶体的大,而透射带要窄。通过运用传统计算电磁场与电磁波传播的FDTD方法及PML边界条件来仿真〔A（BC）〕m结构光子晶体光纤...     

杂质吸收对光子晶体缺陷模偏振态的影响

引入复折射率并利用特征矩阵法,研究了杂质的吸收对TE波和TM波缺陷模透射峰的影响.得出:杂质的消光系数对TE波和TM波的缺陷模透射峰都有显著的影响,但对TE波缺陷模的影响比对TM波缺陷模的影响更为明显.当消光系数一定时,TE波的缺陷模透射峰随入射角的增大而迅速减小,而TM波的缺陷模透射峰随入射角的增大而增大.利用这一特性可以设计光子晶体偏振滤波器.     

1维方形掺杂光子晶体波导中缺陷模的色散特性

为了研究1维方形掺杂光子晶体波导中缺陷模的色散,采用特征矩阵的方法研究了1维方形掺杂光子晶体波导中TE波和TM波缺陷模的变化特征,得到了TE波和TM波的缺陷模随色散强度、色散厚度变化的结果。结果表明,色散强度和色散厚度都会对1维方形掺杂光子晶体波导中TE波和TM波的缺陷模产生明显的影响;利用TE波和TM波的缺陷模随色散强度、色散厚度的变化规律,可以有效地实现对1维方形掺杂光子晶体波导中TE波和TM波各传输模式的有效控制。     

一维各向异性掺杂光子晶体的缺陷模特性

利用传输矩阵的方法给出了光波在一维各向异性掺杂光子晶体中传播的透射率,研究了缺陷模的相关特性,经数值模拟计算得出:光通过一维各向异性掺杂光子晶体后,透射波中TE波和TM波存在明显的缺陷模,缺陷模的中心波长位置随光波入射角的改变而不同,两个缺陷模能完全分开;TE波的缺陷模中心波长位置随着光学厚度的增大向短波方向移动,TM...     

含双缺陷光子晶体的缺陷模特性及应用

利用传输矩阵法,计算了含双缺陷的一维准周期光子晶体的透射谱,并分析了缺陷模的特征。结果表明:当两缺陷层的折射率为1时,该光子晶体的透射谱有一包含可见光所有波长的带隙。而当两缺陷层的折射率为1.1时,原带隙中产生了一缺陷模,且此缺陷模的位置和透射峰值都随两缺陷层折射率不同而变化。折射率越大,缺陷模位置对应的波长越长,缺陷模的峰值也越大。利用缺陷模的这一特性,可以设计一种微型的烟雾传感器。