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用电化学方法消除4J32镜头组件的杂散光 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了采用电化学方法消除精密光学系统4J32合金镜头组件中杂散光的实验.利用正交实验法在重铬酸盐体系中确定了主盐浓度,并研究了电压、电解液温度、时间等因素对镜头组件的消杂散光性能和消光膜层质量的影响,确定了最佳工艺为重铬酸钾:20 g/L、硫酸锰:20 g/L、硫酸铵:20 g/L、添加剂15 g/L,温度:25~35℃,3 V/min升压速率处理20~30 min.经最佳工艺处理后,4J32合金呈黑色,反射率<1.5%、耐蚀性为240 s、膜层附着力为7.9 N、尺寸变化<0.8μm.结果表明,所得到的消光膜能够满足精密光学系统对零件尺寸精度及表面消光膜层的质量要求. 相似文献
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在分析拍照手机镜头杂散光对成像品质影响的基础上,介绍了手机镜头杂散光测量的基本原理和方法。提出了区别传统测量装置的杂散光测量系统,该系统基于方型光箱和面型感光器件。CMOS图像传感器接收选定像场指定位置的目标黑体和白体成像后的光强度信号,经处理后由USB送入电脑,专用电脑软件自动计算各位置的杂散光系数并判断是否符合设定的标准。实测结果证明系统能快速测量拍照手机镜头的杂散光系数,方便评定镜头的影像品质,对镜头生产厂有较大的实用价值。 相似文献
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本文以SDHR一1000型全息凹面光栅双单色仪为例,从实验上分析了激光Raman分光计中杂散光测试的3种方法间的定量关系,并讨论了3种测试方法的特点与应用场合等问题,提出了几点看法与建议。 相似文献
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白光日冕仪光学系统的杂散光抑制 总被引:3,自引:2,他引:1
为满足日冕仪对杂散光抑制的苛刻要求,通过分析日冕仪的工作原理和结构特点,设计了白光日冕仪光学系统,系统观测范围为2.5~15 R⊙,角分辨率为14″,口径为30 mm,焦距为200 mm,系统总长为1 080 mm;其中光学系统长370 mm,37 pl/mm的MTF值>0.5.分析了直射太阳光、太阳光在外掩体D1边缘的衍射光、视场光阑A1边缘的衍射光、以及物镜组O1各表面多次反射带来的系统杂散光的特点,利用多个光阑互相共轭的空间位置关系,设计了相应的杂散光抑制结构,从而完全抑制了系统的4个主要杂散光光源产生的杂散光,使系统整体杂散光抑制水平达到10-8~10-10 B⊙,满足了日冕仪光学系统对杂散光抑制的要求. 相似文献
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杂散光是衡量分光光度计性能的重要参数之一.杂散光的大小对于分光光度计测量结果有很大的影响.现就杂散光这一项目对仪器测量结果准确性的影响予以说明。 相似文献
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基于光学系统结构研究了硬性内窥镜光学系统内部杂散光的成因及抑制方法,以提高其成像效果。通过Lighttools软件进行光线追迹,分析了硬性内窥镜光机结构的杂散光;通过杂光路径分析,提出光线在中继系统和物镜组中发生全反射是硬性内窥镜存在杂散光的原因,由此研究了相应的杂散光抑制方法:即调整物镜组结构控制系统中光线传播的路径,并在光学系统优化过程中加入相应的控制条件。最后,采用提出的方法设计了视场角为70°,透镜直径为2.7mm的高成像性能消杂散光硬性关节镜。验证实验显示,研制的硬性内窥镜光学系统在100lp/mm处各视场的调制传递函数(MTF)值均在0.4以上,逼近衍射极限。光线追迹结果表明,在物镜组中消除杂散光可避免光线在棒镜内壁全反射,完全消除杂散光并保证良好的像质。 相似文献
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杂散电流干扰是影响埋地钢质管道安全运行的重要因素。针对现有杂散电流检测设备功能单一,精度不高,配置软件易用性差等问题,设计了一种基于STM32和LabVIEW的埋地钢质管道杂散电流检测系统,能够同时测量多种杂散电流干扰评价指标。该系统由采集系统和上位机两部分组成,采用模块化方式设计采集系统硬件电路,采用LabVIEW软件和MATLAB软件联合编程搭建上位机。实验结果表明,系统测量误差小于0.1%,满足标准要求。该系统具有现场应用推广的可行性。 相似文献
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离轴三反空间光学望远系统的杂散光抑制 总被引:1,自引:1,他引:1
以点源透过率(PST)为评价标准,对一个离轴三反空间望远系统的杂散光进行了分析,并给出了分析结果。通过建立系统的实体模型,确定了一次、二次散射路径,采用改进的蒙特卡洛法,对20°之间各离轴角分别进行光线追迹。对模型的分析结果表明,系统产生杂散光的主要原因为一次散射,与光学系统结构密切相关。离轴角为±0.1°时,PST分别等于3.56和4.02,离轴角为±20°时,PST分别为6.63×10-5和4.58×10-5。实验表明,通过加入遮光罩及减小镜面散射率可减少杂散光。与离轴两反望远系统相比,三反系统的杂散光水平在大离轴角时偏大1到2个数量级,但可满足使用要求。 相似文献
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LCoS微型投影光引擎杂散光分析与抑制 总被引:1,自引:0,他引:1
为抑制LCoS光引擎的杂散光,在TracePro软件中建立了光引擎的光机模型,运用蒙特卡罗方法对该系统的杂散光进行了分析。通过仿真模拟及实验发现PBS棱边、成像透镜边缘、镜片隔圈以及镜筒内表面为产生杂散光的关键面。为此使用挡光片、表面发黑、镜片边缘及隔圈涂黑等方法对杂散光进行抑制。仿真及实验均表明上述方法可有效抑制杂散光。 相似文献
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兴隆1 m光学望远镜消杂散光系统 总被引:1,自引:4,他引:1
为优化兴隆1m光学望远镜的杂散光效应,研制了附加在该望远镜F/8焦面后的一倍放大率消杂散光镜头,对消杂散光镜头的效果进行了仿真计算和观测验证。在Tracepro软件中对圆顶-1m望远镜和圆顶-1m望远镜-消杂散光镜头组合系统的点源辐照度透过率(PSNIT)进行了计算分析并在大月夜进行了天文观测。计算结果表明,在视场外无限远点源方位与望远镜指向间夹角5°≤|θ|≤30°使用消杂散光镜头后,该望远镜PSNIT全部降低到10-10以下。2008年5月26日对偏月22°和25°天区观测结果表明,使用消杂散光镜头后,该望远镜所观测的星像信噪比约为原来的1.4倍。仿真计算和观测结果表明:该方法对Ritchey-Chrétien(R-C)望远镜的杂散光抑制是有效的,可以提高望远镜的测光精度和观测极限星等。 相似文献
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紫外平面刻划光栅杂散光数值分析及测量方法 总被引:1,自引:1,他引:1
杂散光是光栅的重要技术指标,它直接影响光栅的信噪比,尤其紫外波段的杂散光对光谱分析更为不利。为了考察平面刻划光栅在光谱仪器中使用时产生的杂散光,采用基于传统Fresnel-Kirchhoff衍射方程导出的杂散光相对强度表达式,数值分析了杂散光产生的原因。数值模拟结果表明,紫外平面刻划光栅刻槽周期随机误差以及刻槽深度随机误差是杂散光的主要来源,而光栅杂散光对光栅表面小尺度随机粗糙度并不敏感。另外,提出了平面光栅光谱仪出射狭缝相对宽度的概念,并数值分析了仪器出射狭缝高度及出射狭缝相对宽度与杂散光强度的关系。此理论分析方法分别为如何在光栅制作工艺中从根源上降低光栅杂散光以及在光栅应用过程中从使用方法上降低光栅杂散光提供了理论参考依据。最后,为了与采用滤光片法测得的光栅杂散光实验值进行比较,给出了理论求解杂散光总强度的求和公式,并对四个不同波长的杂散光进行了多次测量,使理论值和实验值的相对误差控制在13%左右。 相似文献