测量聚合物薄膜厚度的一种简便方法

本文介绍了用准波导耦合ｍ线技术测量聚合物薄膜厚度的方法。测量结果表明，薄膜样品厚度的误差为３．６２×１０＾－２μｍ。并对测量精度作了分析和讨论。     

薄膜厚度的EDS测量

薄膜厚度的ＥＤＳ测量赵家政徐洮（中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放实验室，兰州７３００００）在电镀膜、真空蒸发膜、表面处理膜、溅射膜、润滑转移膜等的扫描电子显微分析中，除观察其表面形貌外，还希望同时测得薄膜的厚度。薄膜厚度的测量，尽管有光学法［...     

薄膜厚度测量技术

随着各种表面沉积技术(PVD、CVD)日益广泛地应用于微电子、光学及超导薄膜沉积等微细加工领域,膜厚在10—10~2nm范围内的薄膜厚度测量技术也不断得到发展。本文系统地描述了各种测量技术的原理、属性及测量方法,并对其测量精度及适用范围进行了比较。     

由反射系数确定多层介质厚度

讨论了测量多层介质厚度的一种新方法，根据输入电磁波反射系数，用最优化方法反演出每层介质的厚度。     

薄膜厚度的电子探针测定

由于电子束的穿透本领很低,在使用较低的加速电压时更是如此,因此用电子探针测定薄膜厚度是很灵敏的。据估计,对重金属膜可测出nm量级的差别。关于电子探针测量有衬底薄膜厚度已有不少的文献报导,在此基础上,本文采用改变加速电压的方法,测量了不同衬底上,不同厚度铝薄膜的X射线归一化强度,画出归一化强度和加速电压的关系曲线,得出归一化强度恰等于1的电压值E_d,然后选择X射线激发深度公式,计算出薄膜的质量厚度。并将此结果与化学分析法,重量法等的试验结果,以及Monte Carlo模拟计算值加以比较,结果说明:电子探针测定有衬薄膜厚度是一种简易可行,又有着一定准确度的方法。     

薄膜SOI结构中反型层厚度与薄膜厚度的关系

本文从理论上分析了薄膜SOI结构中反型层厚度与薄膜厚度的关系。为设计薄膜MOS/SOI器件引进了一个新的参数──薄膜整体反型临界厚度。分析认为,为使超薄膜MOS/SOI器件高速和高功率工作,有必要使薄膜厚度接近整体强反型临界厚度。     

用简单的器件测量薄膜厚度

液体-蒸气界面之间的薄膜厚度可以揭示与流体-机械系统性能有关的大量信息.管子内壁上致冷剂液膜的厚度则可以帮助我们确定致冷剂向内和向外传热的情况,而且还可以表明最佳的液压量.喷射到内燃机油缸壁上的太多的燃料可以预示无效的运转.同样,在蒸气发电厂内,如果内部管壁上缺乏水分,那么就可以表明这是一种危险的情况.     

用EDS测量薄膜的厚度及其元素的深度分布

在扫描电子显微观察的同时，用ＥＤＳ测量薄膜的厚度及其元素的深度分布［１，２］简便可行。薄膜厚度的测量例１．载玻片上的ＣｏＣｕ膜。对载玻片、Ｃｕ底膜和ＣｏＣｕ膜，用ＥＤＳ分别进行了测量，其数据列入表１。根据电子在膜中的穿透深度（４０ｋＶ时在Ｃｕ膜中穿透...     

一种适用于在线检测的纳米薄膜厚度精确测量方法

提出了一种新的薄膜厚度测量方法.该方法以镀有一层厚度足以引起干涉的过渡层为衬底,通过测量镀膜前后透（反）射谱的变化,即可实现薄膜厚度的精确测量.由于过渡层的厚度已经引起干涉,新镀上去的待测薄膜即使很薄,也会引起干涉的变化.通过镀制待测薄膜前后透（反）射谱干涉的变化,可以很容易地精确测量出待测薄膜的厚度,其测量极限高达1...     

一种测量天线罩微波电厚度的简便方法

提出了一种天线罩电厚度检测的新方法-微波反射式电厚度测量,给出了该方法的基本原理以及相应的测量系统。与通常天线罩壁电厚度的双探头插入相移测量方法相比,采用单探头测量天线罩壁复反射系数,通过复反射系数相位的变化了解天线罩壁电厚度的相对变化,大大简化了设备,降低了测量时对探头机械定位精度的要求,使测量过程简单易行。由于采用单探头,该方法还可测量双探头无法测量的复杂天线罩顶部位。     

一种新颖的MEMS表面工艺牺牲层厚度的电测量方法

牺牲层厚度是MEMS表面工艺中的一个重要参数,对它的测量和控制有着重要的意义。目前大多采用光机械的方法来测量,但是测试方法复杂、测试时间长。本文介绍了一种新颖的MEMS表面工艺牺牲层厚度测试技术,实现了牺牲层厚度的电测量。测试方法简单快捷,并且很便于测试系统集成。     

基于电涡流传感器的覆层测厚系统的设计

提出一种基于电涡流传感器的便携式覆层测厚系统的设计方案。该系统集数据采集、数据处理、数据通信和数据显示于一体。在硬件设计上,系统采用电涡流传感器技术和微处理器控制技术,实现对金属镀层、板材厚度等的无损测量。在软件的设计中,系统采用最小二乘法对采集数据进行误差检测和修正,进一步提高数据的精度和准确度。实验表明,该系统可实现非接触式测量,具有灵敏度高、频响范围宽、及适用性强的特点。     

油水两相流电容层析成像系统电容测量电路的设计

微小电容检测是电容层析成像技术的一个关键和难点。针对油水两相流电容层析成像系统的具体要求，本文研制一种微小电容交流测量电路。电容测量电路的静态测量误差小于0.2％，漂移为0.05％/小时。实验结果表明满足使用要求。     

分层媒质复介电常数测量的一种方法

本文给出一种测量分层媒质复介电常数的方法,经过多次测量复反射系数并建立恰当的目标函数,采用遗传算法求解这一优化问题可得到分层媒质的参数。测量结果表明,对于层数校少的媒质,在各分层厚度未知的民政部下仍可测得各分层的复介电常数,同时测得分层厚度。     

纳米金属薄膜材料电磁参数测量方法

提出了一种基于波导法的纳米薄膜材料电磁参数测量的新方法,给出了该方法的基本原理.与常规波导测量方法相比,该方法根据纳米金属薄膜材料的特点,简化了求解算法,只需测出加载薄膜波导开路与短路时的复反射系数,即可求出薄膜的介电常数与导磁率,使测量过程简单高效并具有较高的精度.     

透波结构的电厚度高分辨率测试技术

点聚焦透镜天线能微观确定透波结构的电厚度偏离程度。利用点聚焦天线的波束汇聚能力,通过对透波结构电厚度超差区域的准确定位,实现电厚度的高分辨率测试。采用频率变换的原理组建透射法相位测试系统,用两路合成信号发生器产生测试所需的差频微波信号,直接实时比较校正支路和测试支路的相差,达到了电厚度高稳定性测试。以实际型号为例,采用HFSS软件对点聚焦透镜进行设计仿真,给出设计参数,加工符合设计要求的点聚焦透镜并将其应用在透射法测试系统中,提高了透波结构电厚度测量与校正的工作效率。     

一种测量体光栅调制度和有效厚度的新方法

以Kogelnik的体相位光栅耦合波理论为基础,通过测量光折变体光栅的衍射效率与布喇格偏移角的关系曲线,并根据该曲线的3dB带宽和旁瓣峰值的相对大小及其角度偏移量,可计算出光折变体光栅的折射率调制度和有效厚度。对LiNbO3：Fe晶体的实验测量结果很好地验证了该方法的可行性,其测量精度与数字全息术和马赫一曾德干涉仪的方法相当,但测量过程却更加简单。