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从含铜蚀刻废液中回收硫酸铜 总被引:8,自引:1,他引:8
采用酸性蚀刻液与碱性蚀刻液混合中和沉淀铜的方法生产硫酸铜。试验结果表明,最佳工艺条件为:中和反应pH=6~7,酸解反应每100g滤渣消耗95%(质量分数)硫酸30mL,硫酸铜产率为84%,纯度为96%。混合沉淀铜后滤液中仍含有大量的氯化铵和少量的二价铜离子,实验采用水合肼还原除铜,回收滤液用于配制新的蚀刻液。水合肼还原除铜工艺条件:pH为8,滤液与水合肼体积之比为100:3,二价铜离子的去除率达到96.8%。该工艺简单可行,操作方便,成本低,是一种处理印制电路板(PCB)企业蚀刻废水、回收铜的有效方法,有一定的应用价值。 相似文献
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选用LIX-54作为萃取剂从印制板蚀刻废液中回收铜.探讨了萃取系统的一些条件.对含Cu107.39g/L和NH3128.4g/L的蚀刻液,经3级萃取即可达到含Cu约30g/L,并基本不萃氨,萃余液可返回蚀刻液.实验还考察了萃取剂的降解性能. 相似文献
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电子电镀中若干新工艺和新技术 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了电子电镀中的若干新工艺新技术,如芯片电镀、电化学机械研磨、微机电系统电镀、不溶性阳极电镀铜、镀铂铌电极以及无铅无镉中磷光亮化学镀镍、碱性蚀刻液再生和铜回收系统等。 相似文献
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由线路板碱性废蚀刻液回收硫酸铜使用碱性蚀刻液进行线路板加工后的废蚀刻液其含铜量可达10~15%。主要以硫酸铜氨络合物形式存于溶液中,用它来生产硫酸铜可获得良好的经济效益,并且有积极的环保意义。1原理2工艺流程3工艺流程依据:3.1配制60%的H2SO... 相似文献
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文章主要论述一种新型酸性蚀刻废液处理方法,在特制石墨蒸酸釜内加入定量的酸性蚀刻废液及98%硫酸,在蒸汽不断加热下使得反应液内部氯化氢气体不断逸出,通过冷凝回收盐酸,同时所得粗品硫酸铜通过重结晶除杂的方法得到高品味的电镀级硫酸铜。该处理工艺全过程无废水产生,回收盐酸回用于蚀刻液的配制,达到了资源回收利用之目的,所得铜产品提升了其附加值,是当前所有处置工艺中最环保的处理方法之一。 相似文献
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采用萃取剂N910为萃取剂,磺化煤油为稀释剂,研究了从碱性蚀刻废液中萃取回收铜的单级及多级萃取工艺。结果表明,在Cu2+含量为112 g/L,总氨浓度为5.7 mol/L的蚀刻废液中,单级萃取优化的工艺条件为:N910体积浓度为60%,有机相和水相的相比O/A=2∶1,T=30℃。碱性蚀刻液不需进行酸碱度的调整,萃取时间为3 min即可达到平衡,Cu2+的萃取率为56.73%,N910萃取Cu2+的饱和萃取量为64.03 g/L。萃取热效应△H=8.95 kJ/mol,萃取过程为吸热反应。在此条件下,PCB碱性蚀刻液中Cu2+的四级错流和三级逆流萃取率分别为94.78%和76.01%,蚀刻液中Cu2+浓度降低至37.98 g/L。 相似文献
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含铜蚀刻废液的处理一直是印刷线路板(PCB)企业面临的较大的问题,主流工艺均采用从含铜蚀刻废液中制备精细铜化合物的工艺,从中回收有价值的铜.但回收完铜以后的废水中仍有大量氯离子,需进行后续处理才能符合国家排放标准.在近期的一个新建项目中,我们采用三效蒸发协同工艺处理含铜蚀刻废液,处理后的水可用于生产回用,从而实现零排放... 相似文献
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在印制电路板制造过程中,用蚀刻液将覆铜箔基板上不需要的部分铜箔除去,使之形成所需要的电路图形.在衡器厂生产计量铜刻度片时,也是用蚀刻剂将不需要的部分铜除去.目前使用的蚀刻液种类较多,其中三氯化铁以操作方便,工艺稳定,价格便宜之特点,在印制电路和计量铜刻度片生产中得以较广泛的使用. 相似文献
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硫酸/过氧化氢蚀刻工艺 总被引:4,自引:0,他引:4
1 引言 距今已有15个年头了,硫酸过氧化氢蚀刻工艺在缓慢地发展着。就其中原因,并非此种工艺不优越。实验证明该工艺具有如下优点:适应各种抗蚀层;蚀刻速度快,一般蚀刻速度为20~40μmmin,有的高达80μmmin;溶铜容量相当大,其值可达80~116gL。笔者测试可达143gL;蚀刻系数大,蚀刻质量高。在通常情况下,蚀刻系数为1∶1,国外曾报道为1.1~3.0之间。作者研制的蚀刻液蚀刻系数一般在1.43~3.33之间[1]。回收再生简便。该体系的废液只含有水和硫酸铜。只要将废液进行… 相似文献
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FeCl_3蚀刻液由于具有强氧化性和腐蚀能力,因而被广泛应用于惰性加工过程中,然而加工过程中产生大量的废蚀刻液,不仅污染环境而且浪费材料。为了解决与含Cu的FeCl_3废蚀刻液再生循环有关的问题,本研究改进了某企业的结晶再生过程,并以CuCl_2·2H_2O的形式回收铜。在原始方法的基础上,加入水力旋流器以预分离浆料,通过研究不同浓度下入口流量和入口压力下水力旋流器分离效率的变化,确定最佳入口压力约为0.25 MPa。实验结果表明,离心机的工作量减少了约80%,CuCl_2晶体的平均比表面积减少了50%,洗涤过程后CuCl_2晶体副产物的产量增加了约20%。 相似文献