盛美半导体设备(上海)有限公司

正盛美半导体设备(上海)有限公司是一家专注于集成电路制造产业中先进的湿法清洗及铜互连制程技术装备及工艺研发与生产的半导体装备公司,是中国少数几家具有世界领先技术及工艺的半导体装备制造商之一。公司立足于自主研发、精密制造和全球销售及服务,为芯片制造厂商提供最先进的装备及工艺。盛美半导体设备(上海)有限公司自主研发的空间交变相位移兆声波清洗技术解决了单片兆声波清洗能量分布均一性的技术难点,获得了优异的晶圆清洗效果,产品已销往韩国、中国台湾以及国内的主流集成电路制造公司。     

盛美半导体设备(上海)有限公司

正盛美半导体设备(上海)有限公司是一家专注于集成电路制造产业中先进的湿法清洗及铜互连制程技术装备及工艺研发与生产的半导体装备公司,是中国少数几家具有世界领先技术及工艺的半导体装备制造商之一。公司立足于自主研发、精密制造和全球销售及服务,为芯片制造厂商提供最先进的装     

盛美半导体清洗设备打入韩国市场

日前,盛美半导体设备(上海)有限公司宣布第一台Ultra C 12英寸单片兆声波清洗设备已经销售给韩国存储器制造巨头,这是本土的半导体设备厂商首次打入国际主流半导体厂商的供应链。Ultra C采用盛美的空间交变相     

盛美推出12英寸单片清洗技术用于清洗10nm超微颗粒

盛美半导体（上海）有限公司近日发表了十二英寸单片兆声波清洗设备的最新工艺，本工艺用于45nm技术及以下节点的十二英寸高端硅片清洗。盛美独家具有自主知识产权的清洗技术可以去除数十纳米超微小颗粒，同时使硅片表面的材料损失降到最低，并且不影响硅片表面的平整度。     

国产半导体制造设备获海外订单

盛美半导体设备（上海）有限公司近日宣布第一台Ultra C 12英寸单片兆声波清洗设备已经销售给韩国存储器制造巨头。采用盛美的空间交变相移兆声波技术（SAPS）,Ultra C无需用高浓度的化学药液,而是采用极低浓度的功能水即可实现优越的颗粒去除率（PRE）,并且使材料的流失降到最低。     

盛美半导体开发出12英寸单片兆声波清洗设备

盛美半导体（上海）有限公司日前展出了12英寸单片兆声波清洗设备，本设备用于65nm技术节点以下的12英寸高端硅片清洗。盛美独家具有自主知识产权技术可使兆声波能量在12英寸硅片上非常均匀地分布（非均匀度的一个均方差小于2％），本技术在不损伤硅片微结构的条件下使颗粒去除效率达到992％。     

《半导体国际》第四届晶圆清洗技术研讨会圆满闭幕

由《半导体国际》主办的“第四届晶圆清洗研讨会”8月9日在上海圆满闭幕。会议吸引了200多名国内知名晶圆厂经理人和工程师，另外，TFTLCD制造厂的工程师也积极参与了本次研讨会。针对制造工艺中的清洗案例和解决方案，晶圆厂和设备材料供应商的专家及经理人就单晶圆清洗、兆声波清洗、喷淋法、浸泡法等各种清洗技术的应用等话题，与听众进行了热烈的互动。     

盛美半导体开发出300mm单晶圆兆声清洗设备

盛美半导体(上海)有限公司在SEMICON China 2009上展出了12英寸单片兆声波清洗设备Ultra C,用于65nm技术节点以下的12英寸高端硅片清洗。据盛美半导体CEO王晖博士介绍,盛美SAPS兆声技术可使兆声波能量在12英寸硅片上非常均匀地分布(非均匀度的一个均方差小于2%),在不损伤硅片微结构的条件下使颗粒去除效率达到99.2%。     

上海市集成电路行业协会第四届二次会员大会

正获奖企业:2013年度上海市集成电路制造业销售前五名:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、台积电(中国)有限公司、上海华虹宏力半导体制造有限公司、上海新进半导体制造有限公司、上海先进半导体制造股份有限公司。2013年度上海市集成电路设计业销售前十名:展讯通信(上海)有限公司、格科微电子(上海)有限公司、联芯科技有限公司、上海复旦微电子集团股份有限公司、上     

国内首台12英寸单晶圆清洗设备亮相工博会

国内首台适用于65纳米技术节点的12英寸单片晶圆清洗设备Ultra C日前在上海工博会首次亮相，从而填补了国内半导体单片晶圆清洗设备制造的空白。这台清洗设备是由落户上海张江高科技园区的盛美半导体设备（上海）有限公司按照国际一流技术水平设计制造的，其系统框架、核心部件和关键工艺均已申请全球专利保护，具有完全自主知识产权。     

上海集成电路研发中心与Synopsys共同建立先进工艺技术联合实验室

新思科技公司(Synopsys)与上海集成电路研发中心有限公司(ICRD)共同建立的"ICRD-Synopsys先进工艺技术联合实验室"于日前成立。该实验室致力于提升中国半导体产业的先进制造能力,将结合双方已有的技术优势和产业资源,从为中国市场提供所需且对先进节点工艺具有重要影响的光学临近效应修正(OPC)仿真模型及验证程式出发,共同研究和开发与高阶工艺相关的各项技术。     

业界要闻

上海宏力半导体公司奠基 拥有国际一流技术,总投资达16.3亿美元的上海宏力半导体制造有限公司日前在上海张江高科技园区举行隆重的奠基仪式。 上海宏力半导体制造有限公司集合了海内外的技术、资金与人才,将从美国、日本及我国台湾引进最先进的生产设备,从事集成电路硅     

技术进步促进集成电路产业发展

超大规模集成电路65-40纳米成套产品工艺研发与产业化(J-219-2-03),由中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,上海集成电路研发中心有限公司,中国科学院微电子研究所,北京大学完成。高性能嵌入式非易失性存储器片载芯片制造关键技术(J-219-2-04),由上海华虹宏力半导体制造有限公司,上海集成电路研发中心有限公司完成。获得2013年国家科技进步奖二等奖。     

蔚华于SEMICON China展出从IC设计到制造整合解决方案

半导体及液晶显示器制造设备、软件自动化工程和配件整合解决方案供应商(Integrated Solutions Provider)蔚华集成电路(上海)有限公司参加3月17日至19日参加SEMICON China，向国内业界展示“从IC设计到制造整合解决方案”的先进技术及实力。蔚华在展览会期间展出六大整合解决方案，     

用于铜互连技术的前瞻性生产系统——Atotech（安美特）公司的Everplate生产系统

安美特(Atotech)是全球领先的电镀化学品、设备及工艺供应商。为GMF(装饰性及功能性电镀)、PCB(印刷电路板)及Semiconductor(半导体)行业提供性能卓越的产品。本文将介绍安美特专门针对集成电路制造行业中先进的铜互连工艺而研发的Everplate电镀系统。     

盛美12英寸单片清洗设备实现商用

盛美半导体12英寸单片清洗设备近日成功进入世界知名芯片制造厂商生产线。盛美半导体12英寸单片兆声波清洗设备用于65nm技术节点以下的12英寸高端硅片清洗，盛美独家具有自主知识产权技术可使兆声波能量在12英寸硅片上非常均匀地分布（非均匀度的一个均方差小于2％），该技术在不损伤硅片微结构的条件下使颗粒去除效率达到99．2％。     

2005年中国集成电路产业发展研讨会暨第八届中国半导体行业协会集成电路分会年会亮点报道

一年会举行了“集成电路制造先进技术及先进加工工艺、二手设备热点研讨会”，在会上，由海力士公司、和舰科技（苏州）有限公司、阿斯麦（ASML）中国区，科利登系统有限公司、比欧西贸易公司、瑟思半导体集团亚太公司、康斐尔（上海）公司、中科院微电子所的CEO或代表在会上作了精彩的专题演讲。     

中国集成电路高端装备自主化取得新突破

工业和信息化部近日,由北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机,已经全面通过中芯国际集成电路制造有限公司的生产线全流程工艺验证,并获得客户订单。这标志着中国集成电路高端装备自主化取得了新的突破,并缩短了与国际一流设备的差距。     

盛美12英寸单片清洗设备实现商用

盛美半导体12英寸单片清洗设备近日成功进入世界知名芯片制造厂商生产线。盛美半导体12英寸单片兆声波清洗设备用于65nm技术节点以下的12英寸高端硅片清洗,盛美独家具有自主知     

高压水喷砂去溢料机

格兰达自1995年成立以来,就坚定不移地走科技创新、装备强国的发展之路。十年来,格兰达经历了由制造加工、设计制造,到自主研发、自主品牌制造三个阶段的转型升级。2006年2月,由公司自主研发的5个IC装备项目一次通过专家鉴定,设备水平居于国际先进、国内领先水平,填补了国内空白,打破了国际上对集成电路封装测试设备的垄断格局：