镁合金表面磁控溅射沉积铝膜的力学性能

采用直流磁控溅射法在镁合金上沉积铝膜,在高真空下对铝膜进行加热后处理.用X射线衍射仪(XRD)分析膜层为纯铝多晶态,扫描电子显微镜(SEM)观察铝膜晶粒细小.采用纳米压痕/划痕仪对铝膜的厚度、临界附着力、硬度和弹性模量进行了测试,并且用辉光放电光谱仪(GDS)测试了镁合金表面铝膜的成分和性能随薄膜深度的分布.结果表明,铝膜的厚度随后处理温度的升高而降低,其表面硬度和弹性模量高于镁合金基体并且随深度增加而逐渐降低.铝膜与镁合金基体间存在一个过渡层,结合良好且表现出一定的弹塑性能,有利于镁合金表面的防护.     

铝阳极氧化膜二次阳极电解沉积MoS2

观察了实验条件对恒电流密度下二次阳极处理电解沉积MoS₂对应的电压时间关系曲线和膜颜色的影响。电子探针分析表明,沉积的固体润滑剂在整个孔的深度范围存在,但接近孔口的膜外表面下含量较高。透射电镜观察发现二次阳极处理过程实质上为二次阳极氧化过程,膜的阻挡层增厚,其厚度与电压的比值在1.0～1.4nm/V范围。原多孔膜底部未发生对应高电压的大孔的起源和发展。沉积MoS₂的工艺使膜的硬度有所下降。膜的摩擦系数降低,耐磨性提高。     

电沉积制备铜钴颗粒膜

采用电沉积方法制备了铜钴巨磁电阻功能膜，研究了电沉积工艺参数，包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度等对铜钴颗粒膜层的组成的影响．用扫描电镜、金相显微镜、EDX能谱仪和XRD分析了镀层组成、表面形貌和结构．膜层的组成成分、晶粒大小与镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度有着直接的联系．镀液中钴离子浓度增大时，镀层中的钴含量相应的提高，镀层结晶更加粗大．镀层中铜离子浓度增大时，镀层中的铜含量提高，镀层结晶变得致密．配合剂柠檬酸钠浓度增加对镀层中钴的含量起到一定的抑止作用，而对铜的沉积则有促进作用，同时颗粒膜层结晶更加致密．低pH值下有利于铜的沉积，但此时镀层的晶粒较为粗大．控制电流密度可以改变镀层的组成，较高的电流密度有利于钴的沉积．     

稀土铝着色膜耐磨性的研究

本文用平磨法研究了稀土铝表面氧化着色工艺参数对稀土铝合金着色层耐磨性的影响,结果表明,稀土铝合金较普通铝合金氧化着色层具有更高的耐磨性,稀土含量为0.30%时呈现最佳值.     

铝在室温熔盐中的电沉积

采用循环伏安法、计时电流法研究了铝在摩尔比为2∶1的AlCl3-EMIC离子液体中钨电极上的电化学还原机理和成核机理。研究表明:铝在钨极上存在欠电位沉积现象,铝的析出电位为-0.06 V,电化学反应为准可逆反应,形核过程为三维瞬时形核,半球形扩散控制长大。电沉积试验表明在电流密度为5~25 mA/cm2时镀层较致密、均匀,附着力好,纯度高。     

包硅和铝膜的钛白粉

将二氧化钛颜料用下述工艺进行湿法处理，可以改进制备二氧化钛的性能，使其有高的不透光性和在液本涂料溶剂中具有良好的分散性，该工艺中，０．５～２５（ｗｔ）％（以下ＴｉＯ２重量为基准）的致密二氧化硅沉积在ＴｉＯ２上形成致密而粘着的膜，随后０．１～１０（ｗｔ）％的Ａｌ２Ｏ３再在已包硅膜的颜料的水浆料中沉积，处理过的颜料予以回收，干燥，最好再干磨一下，用这样成品颜料做成的油漆有突出的光洁度，在室外暴露下有食     

电沉积制备铜钴颗粒膜

采用电沉积方法制备了铜钴巨磁电阻功能膜,研究了电沉积工艺参数,包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度等对铜钴颗粒膜层的组成的影响.用扫描电镜、金相显微镜、EDX能谱仪和XRD分析了镀层组成、表面形貌和结构.膜层的组成成分、晶粒大小与镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度有着直接的联系.镀液中钴离子浓度增大时,镀层中的钴含量相应的提高,镀层结晶更加粗大.镀层中铜离子浓度增大时,镀层中的铜含量提高,镀层结晶变得致密.配合剂柠檬酸钠浓度增加对镀层中钴的含量起到一定的抑止作用,而对铜的沉积则有促进作用,同时颗粒膜层结晶更加致密.低pH值下有利于铜的沉积,但此时镀层的晶粒较为粗大.控制电流密度可以改变镀层的组成,较高的电流密度有利于钴的沉积.     

铝锰共电沉积对固相沉积物形态的影响

实验测得ＭｎＣｌ＿２在ＮａＡｌＣｌ＿４熔体中的溶解度在１７５℃下为０．０８６±０．００６ｍｏｌ％。锰可以在阴极上与铝共沉积，生成锰原子含量为８％～１０％的二元合金。铝锰共沉积可以显著地加快电化学成核步骤，从而完全消除低电流密度下絮状沉积产物的生成，且对高电流密度下枝晶产物的生成也有抑制作用。     

冰晶石熔体中铝在钨电极上的电解沉积

用循环伏安法、方波电流法和换向电流法研究了熔融冰晶石中铝在钨丝电极上的电化学沉积。结果表明，在１０２５℃下，首先是铝对钨的合金化作用；铝的还原为简单的三电子可逆过程。在铝沉积的同时，伴随有铝与电解质之间的作用，引起沉积物的不断损失。根据纯铝以及铝钨金属间化合物与电解质的平衡电位，从其差值计算得ＷＡ１＿４的生成自由能△Ｇ°为－２４６±７ｋＪ／ｍｏｌ。     

铁合金上耐熔融铝腐蚀的氧化膜涂层

铁合金上耐熔融铝腐蚀的氧化膜涂层［日］上田亻叔完等１前言在铝的铸造现场，为了减少熔融铝对铁器构件的浸蚀，在铁器构件和铝熔液的接触部位机械地涂敷氧化物或石墨，以提高铁器构件的耐熔融铝腐蚀的性能，但在粘附性能等方面仍然存在问题。研究人员对在铁器构件表面机...     

室温离子液体中电沉积铝及铝合金的研究进展

以离子液体作电解质,已沉积出元素周期表中的大多数金属、半导体金属及其化合物。离子液体的优点是能够沉积出水溶液中难以得到的活泼金属。总结了铝及铝合金在离子液体中电沉积的研究状况、离子液体中电沉积的电化学行为,以及从离子液体中沉积的铝作为镀膜的应用状况。     

室温离子液体电沉积铝及其合金的研究进展

介绍了室温离子液体电沉积铝及其合金的研究现状,讨论了铝在吡啶盐类、季铵盐类和咪唑盐类离子液体中电沉积的电化学行为,探讨了铝合金在离子液体中的电沉积。     

室温离子液体电沉积铝及其合金的研究进展

介绍了室温离子液体电沉积铝及其合金的研究现状,讨论了铝在吡啶盐类、季铵盐类和咪唑盐类离子液体中电沉积的电化学行为,探讨了铝舍金在离子液体中的电沉积.     

离子液体电解质体系铝及铝合金电沉积与铝精炼研究进展

传统上,铝、稀土和碱金属及碱土金属等活泼金属主要是通过高温熔盐电解法得到,其电解工艺流程能耗高.近几年来,对离子液体的不断深入研究,提出离子液体为电解质体系用于金属铝、铝精炼和铝合金.综述目前采用离子液体体系进行铝及铝合金电沉积,粗铝、铝合金和铝基复合材料电解精炼回收铝的研究现状和研究进展.介绍和评述离子液体电解质电沉积、精炼铝的应用情况和所取得的研究成果,探讨离子液体电解质用于铝行业的发展趋势和研究动向.      

铝铜合金靶材的微观结构对溅射沉积性能的影响

磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数月的晶圆.通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的品粒取向和品粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响.实验结果显示,溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系,靶材的原子密排度受品粒取向和晶粒尺寸的影响,有特定的变化范围,因此溅射速率也只在一个范围内变化.沉积速率和沉积效率受靶材表面窄间内原子密排方向分布的影响,原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定.     

乙酰胺型离子液体在铝电沉积中的应用研究

在室温下,通过乙酰胺和无水氯化铝的混合反应制备了新型离子液体。循环伏安测试表明,铝可以顺利从该体系中沉积析出。反应可逆性较好,过程受离子扩散控制。温度和电流密度对铝的形貌影响较大,晶体在电极上的生长以(200)方向为主。该方法操作简单,体系稳定性好,电流效率较高。     

铝的冷封闭硫酸阳极氧化膜组成

用超薄切片、透射电镜、扫描电镜、电子能谱和X射线相分析仪分别研究了铝的硫酸阳极着色氧化膜,在冷封闭制度下的微观组成。结果表明,着色阳极氧化膜在冷封闭4min之后,氧化膜的外表面层附近、表面层及深处都存在有封闭材料镍。其相对含量逐步增大至9.244%;着色材料锡在氧化膜深处达到20.420%;氧化时键合的SO₄^2-在冷封闭时部分被放出,氧化膜深处的S含量从5%降至3%左右。铝的硫酸阳极氧化膜经100min冷封闭,仍为非晶态物质。     

透射电镜用铝氧化膜复型试样的制备方法

(一)实验方法 1.将试样(铝基体上有氧化膜的铝板)放在中间悬空的两块同样水平的台子上,在悬空处用切刀往下锤,将铝板试样从悬空处折断。如图1所示。 2.将折断后的试样加工成直线状,但不必将两半切开,并将不包括断面氧化膜的部分用清洁胶带粘住,只让包括断面氧化膜的部分进行复型,如图2所示。     

铝阳极氧化膜的低温封孔

本文介绍一种含1．45g/L镍离子、0．5g/L氟离子及表面活性剂的溶液的低温封孔方法。根据试验结果分析了温度、pH值及处理时间对这种低温封孔质量的影响。用这种封孔所得到的氧化膜与传统的沸水封孔相比，具有更好的耐蚀、耐污染性及更加光泽的表面。     

铝阳极氧化膜常温封闭及添加剂的研究

铝阳极氧化过程中,铝阳极在硫酸溶液中发生一系列电化学反应,生成致密的六角形氧化膜层,其表面高达100m~2/g,这么巨大的比表面微孔和孔壁的强大吸附能力及膜层的电化学特性促进了铝阳极氧化着色工艺的发展,,为子增强膜孔的抗腐蚀、耐磨