真空灭弧室的残余气体分析

真空灭弧室的真空性能其制造的关键。真空灭弧室在三十多年的寿命期内要保持高真空，就必须对其最大漏气率和内部放气量提出严格要求。     

真空灭弧室的设计

真空灭弧室是真空开关的最重要的部件，被誉为真空开关的心脏，因此，真空灭板室的设计至为重要，本文介绍真空灭板室的最新设计，其中包括真空灭弧室的基本要求，触头材料及几何形状，波纹管，屏蔽，真空壳体的设计以及真空灭弧室的总体设计等。真空灭板室用于真空断路器，真空接触器以及真空负荷开关等，它对整机的机电性能影响很大，因此，精心设计和制造性能优异的真空灭弧室以满足各种使用场合不同用户要求，这是摆在设计和制造     

真空灭弧室的发展

真空灭弧室为真空断路器的心脏,真空灭弧室的不断进步,才促使了真空断路器的不断发展。在我国,真空灭弧室的发展综观起来已经历了五代。     

真空断路器一个电极中若干真空灭弧室的并联

在真空断路器的一个电极中将几个真空灭弧室并联，可以提高断路器的额定工作电流和短路开断电流。在这方面已经进行过一些试验。本文将给出这些试验的结果。我们将会看到，在断路器的整个使用寿命过程中，在触头闭合时，哪些因素能使几个灭弧室之间的分流值达到要求。而且，我们还对触头分离时几个灭弧室之间的分流情况进行了研究。研究结果表明：采用纵磁场（AMF）触头的真空灭弧室效果比较好，而触头分离过程中延迟时间很长时将会对几个灭弧室之间的电流分配产生影响。     

避免漏气的真空灭弧室出厂的措施

简述了真空灭弧室的真空度要求，分析了漏气的真空灭弧室出厂的原因，提出了防止漏气的真空灭弧室出厂的措施。     

高电压大容量真空灭弧室关键问题的研究

讨论大开距下纵向磁场与真空电弧的相互作用，测试了高电压真空灭弧室的耐压特性，分析了长行程高速运动波纹管的运动特性，指出国内高电压大容量真空灭弧室生产工艺中的关键问题。     

真空灭弧室内部电场分布的分析与仿真

真空灭弧室对于真空断路器的性能有具重要作用,为了了解真空灭弧室内部的电场分布情况,文中采用Ansoft Maxwell仿真软件搭建了真空灭弧室的电场数学模型,并利用有限元分析法进行分析,通过Ansoft Maxwell仿真软件得出的结果表明,有无屏蔽罩对真空灭弧室电场分布有着较大影响。     

具有自诊断功能的真空断路器

本发明所提供的真空断路器每一相至少包括一只真空灭弧室，这些真空灭弧室装在一个密闭内，体和真空灭弧室外壳装有传感纤维，纤维连接到断路器外的光电器件上。     

真空断路器内部气体压强的诊断方法

真空断路器体操小且极少维修。然而使用几年后,需要对真空灭弧室进行检测以保证真空室内具有足够的真空度。超过一定阀值的内部压强的升高将会降低电流开断容量和绝缘性能。普遍的做法是在工厂内对新地真空灭弧室进行压强测量。常用的测量系统是众所周知的磁控管原理。然而,使用多年后的真空断路器中真空度检验和新生产出的真空灭弧室的压强测量需要不同的测试程序和诊断技术。真空断路器的使用者对适用于现场使用的能否检测出超过     

新一代真空灭弧室

在2003年国际配电网会议上，Alstom公司介绍了该公司使用“环保设计法”设计的新一代真空灭弧室。新一代真空灭弧室为VG型，其参数可达额定电压40．5kV，额定电流3150A，额定短路开断电流63kA。     

真空负荷开关和操作方法

一个负荷开关包括一个真空灭弧室和两个闸刀开关。真空灭弧室由一个管状绝缘外壳，两个导电的端盖和两上向相对的触头组成。触头表面位于屏蔽罩之内。其中一个闸刀开关与真空灭弧室并联，另一个民开关与上述并联构成串联触头由镍风制成。两触头的端具空灭弧的接触表面。     

大电流真空断路器的研究

本文研究的目标是测定电流峰值增至１００ｋＡ时要保持扩散型电弧的纵向磁场强度。磁场是由流过真空灭弧室（ＶＩ）外的线圈的电流产生的。用数码像机观察电弧并研究电弧聚集和电弧电压间的关系。１００ｋＡ（峰值）的电弧在５．５ｍＴ／ｋＡ时能保持扩散。然后，分析了触头速度的影响。测定了分闸电流与气体压力和瞬态恢复电压（ＴＲＶ）的关系。     

纵磁场真空灭弧室

真空作为一种经受过考验的开断介质特别在中压领域相对其它介质具有许多优势。过去ＡＢＢ公司配断路器的真空灭弧室横磁场触头。为了满足对短路开断电流的最高要求,研制出具有纵磁场触头的真空灭弧室,能够可靠地开断短路电流６３ｋＡ及以上。在电压技术领域,真空技术已在许多使用场合,在很大程度上取代了其他灭弧介质,如油或ＳＦ６。真空灭弧室的特点是结构简单而紧凑,免维护、寿命长以及良好的环境兼容性。ＡＢＢ ＣａｌｏｒＥｍａｇ公司从８０年代初就已研制真空灭弧室「１」（图１）。在位于德国那建根市的研究中心（Ｒ＆Ｄｃｅｎｔｅｒ）,高级工程师们利用先进的工具和高效的计算机软件使灭弧室的设计和功能最佳化。最新的研究成果包括新开发的真空接触器和负荷开关灭弧室系列「２」以及自动制造触头的创新工艺方法。随着１９９９年新的生产设备的建成,除了确保高     

真空中电极间隙的预击穿特性研究

本文对真空中电极间隙和真空灭弧室的预击穿特性进行了研究，分析了影响真空中预击穿特性的因素。     

玻璃真空灭弧室中封亮线的产生原因及其预防

中封亮线是中封玻璃真空灭弧室在制造及其使用过程中出现的一种缺陷，本文通过中封玻壳在冲击台上的模拟真空灭弧室在机构分合闸时所受的冲击，对此实验找出中封亮线的产生原因及其预防办法。     

大容量真空灭弧室的设计

结合一个具有典型参数的真空灭弧室,介绍了大容量的真空灭弧室的设计思路.     

真空间隙的直流脉冲长延时击穿

就高压真空绝缘来说，导致真空电击穿的过程尤其是在大触头开距和长延时情形下的击穿过程，到目的为止尚有诸多不明了的地方。近期的测量结果表明，机械冲击是导致间隙击穿的原因。击穿几年在原始触头条件下最高，而在经过大电流燃弧后有所降低。非金属杂质和遥机杂质在击穿过程中起着重要作用。与可式真空灭弧室相比，商用真空灭弧室没有对机械冲击表现出任何敏感性。除了击穿几率与延时之外，我们也对击穿过程中的暂态电压和电流进     

新型72／84kVC—GIS用真空灭弧室的绝缘特性

本文描述了７２／８４ｋＶ新型柜式气体绝缘开关设备Ｃ－ＧＩＳ用真空灭弧室的绝缘技术。沿聊瓷内表面设计一个多腔屏蔽结构可大大提高绝缘性能,它使真空灭弧室的体积减小了４０％,配置这种真空灭弧室的Ｃ－ＧＩＳ设备的体积也减少４０％,本文讨论了表面绝缘的基本特征及多腔屏蔽结构对表面绝缘的影响以及它们在新型７２／８４ｋＶ Ｃ－ＧＩＳ设备中的应用。     

真空灭弧室设计和制造工艺概述与发展方向

介绍了真空灭弧室的基本结构，触头设计，触头材料，高电压设计的要点和制造工艺等，指出了真空灭弧室设计正向着小型化和高电压方向发展。     

真空灭弧室的正确使用

讨论了真空灭弧室的使用环境、类别和参数选择的原则,提出了正确的安装和维护方法、使用寿命的判别依据,并推荐了使用真空灭弧室的电路保护措施.