基于宽光谱的嵌入式膜厚监控系统

为了实时准确监控光学镀膜膜层厚度,基于宽光谱扫描法,结合嵌入式控制技术,开发出一套以ARM9与Linux系统的高效嵌入系统为基础,应用于光学镀膜工艺过程监控镀膜层厚度的监控系统。本系统能通过在薄膜生长过程中实时、高精度地测量其宽光谱特性,对镀膜过程进行自动控制。详细阐述了该系统的工作原理、硬件系统和软件系统,实验结果表明,系统具有较高的监控能力,性能稳定。     

等离子辅助镀膜技术在优质高产的镀膜系统中的应用

大规模生产高质量薄膜产品是今后镀膜设备需要解决的问题。等离子体或离子辅助镀膜现在被广泛应用于高质量膜系生产中并取得了良好的效果,但是主要由于等离子体或离子源的原因,产能不高。介绍了一种新型精密光学镀膜系统和一种新型溅射镀膜系统。新的系统能够优质高效地生产复杂膜系,特别适合大规模生产。     

镀膜玻璃的瑕疵在线检测系统实验研究

对镀膜玻璃的瑕疵在线检测系统进行了整体设计，对镀膜玻璃瑕疵的光学性能进行了分析，并对光学系统进行了设计和研究，并用面阵CCD采集了在光照下的带有瑕疵的镀膜玻璃图像进行实验论证，为镀膜玻璃的在线实时检测系统做了实验基础。     

基于S7-300PLC镀膜控制系统的设计与应用

针对玻璃镀膜工艺的要求,设计了以西门子S7-300为下位机的镀膜控制系统,结合系统的整体结构和硬件组态方案,采用2块独立工作的CPU模块,提高了编程的灵活性和系统的可靠性,细化了控制任务。详细阐述了镀膜监控系统中传动部分和配气部分的控制策略和特点。在Wincc7.0上位组态软件平台上设计了系统监控软件,负责处理大量过程数据,归档实时参数,并设有报警系统,实现了玻璃镀膜的实时监控。     

可钢化低辐射镀膜玻璃镀膜工艺分析及注意事项

本文就可钢化Low-e镀膜玻璃生产镀膜过程当中需要注意的问题展开讨论,并分析了镀膜膜系的特点,并且指出了镀膜膜系在应用时需要注意的问题,对可钢化Low-e镀膜玻璃的生产镀膜有一定的参考价值。     

全自动智能化计算机控制系统在真空离子镀膜机中的应用

本文介绍一种全自动、智能化计算机控制系统在真空离子镀膜机设备中的应用,可实现对真空离子镀膜机设备中各设备(泵阀机组、真空计、多路气路系统、电弧电源系统、偏压电源系统、溅射电源系统等)的全自动控制,实现对各种工件镀膜过程的装炉、自动抽气、镀膜、充气以及卸载工件等过程。     

ECR结合磁控溅射——制备DLC薄膜的新方法

介绍了新型的结合电子回旋共振(ECR)微波等离子体气相沉积与磁控溅射镀膜特点的ECR-650型镀膜系统,并利用该系统通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiNx/TiNxCy中间层结构的C薄膜。由于镀膜工艺问题,得到的薄膜主要由石墨构成。研究了制备时不同的气压和氩气分压对薄膜表面形貌、硬度等的影响。     

基于LabVIEW的宽光谱膜厚监控系统的研制

介绍了一种基于LabV IEW的光学镀膜宽光谱综合监控系统。阐述了光学镀膜宽光谱监控的原理和高级图像编程语言(LabV IEW)在此系统中的应用;监控系统可以用于光学薄膜在线实时监控和光学薄膜的光谱特性检测。     

ITO导电玻璃生产线抽气系统设计分析

本文根据镀膜工艺要求系统,分析了真空抽气系统的配置及泵的选择,阐述了该系统的先进性、合理性。     

铝合金真空镀膜室超大开口密封面变形有限元分析

采用有限元方法，利用大型CAE数值分析软件ANSYS对某真空镀膜系统的镀膜室建立更符合工程实际的立体模型进行计算，分析出在工作状态下，该真空系统镀膜室的密封面的变形分布，为产品的研制设计提供了详实、可靠的理论依据。     

复杂腔体件表面磁控溅射镀膜关键技术的研究

多轮廓型腔结构件具有复杂的内腔,采用化学镀膜方法在对工件内腔镀膜过程中存在膜基结合力差、薄膜厚度不均匀致密、内腔死角无法镀膜以及环境污染等诸多问题。磁控溅射镀膜技术作为一种新型镀膜工艺,其镀膜均匀致密且绿色无污染,能良好地应用于多轮廓型腔结构件中。论述了不同磁控溅射镀膜方法的特点,以及磁控溅射镀膜在复杂型腔结构件中的关键技术。     

基于PLC和现场总线的张力控制系统

张力控制是造纸、塑料、纺织工业等卷绕自动化生产线中的关键技术。本文从镀膜生产过程的实际出发,研制了一套基于PLC和现场总线的张力控制系统。经过实际生产运行证明,该系统张力控制稳定,实时性好,运行可靠,实现了镀膜生产的最优控制。     

高质量光学薄膜制备用新型无栅

介绍一种无栅霍尔离子束辅助镀膜系统.并对该系统的特点、性能和应用结果作了叙述.     

高质量光学薄膜制备用新型无栅霍尔离子束辅助镀膜系统

介绍一种无栅霍尔离子束辅助镀膜系统。并对该系统的特点、性能和应用结果作了叙述。     

高质量光学薄膜制备用新型无栅霍尔离子束辅助镀膜系统

介绍一种无栅霍尔离子束辅助镀膜系统.并对该系统的特点、性能和应用结果作了叙述.     

基于受抑全反射的碱金属气室镀膜厚度测量

针对原子自旋器件的碱金属气室镀膜层厚度的精确测量,提出了一种基于受抑全反射的膜层厚度测量方法。根据该方法搭建了膜厚测量系统,并进行了实验测试。分析了受抑全反射的基本理论和基于受抑全反射的膜厚测量原理,介绍了基于该方法的膜厚测量系统的构成及工作原理并分析了影响系统测量精度的主要因素和解决方案。通过分析和仿真激光器波长的波动、入射角变化以及折射率参数的不准确等对膜厚测量结果的影响评价了系统的性能。最后,利用该系统对镀膜样品进行了测量实验,并利用薄膜分析仪做了对比试验。实验结果表明:该方法的测量结果存在一个2.6nm左右的常值偏差,对其补偿后能够较为准确地对镀膜层厚度进行测量,测量精度接近1nm,基本满足碱金属气室镀膜质量检测的需求,且具有较高的稳定性和可靠性。     

自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计

利用射频离子源RF—2001控制器USERINTERFACE接口具有遥控开关控制的功能,采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC—7325E,通过光电传感器对靶转动定位、行星转动系统的监控,在国产IBSD—1000型离子束溅射镀膜系统上,首次成功地实现了单、双离子束溅射沉积镀膜过程的自动化控制。控制软件采用VB编程,程序控制界面直观、易于操作。     

高反膜的镀制实践与探索

光学薄膜的厚度对光学元件的性能有决定性的影响,因此精确控制膜厚就成为了关键。分析了石英晶体监控法,介绍了IC/5镀膜自动控制仪。利用IC/5镀膜自动控制仪在现有镀膜机组上镀制出了高性能的高反膜。实验表明所镀膜层的光机性能优异,在光通信和激光器领域具有广阔的应用前景。     

论真空镀膜射频叠加直流偏压工艺

VCT(Vacuum coating technology真空镀膜技术)是现阶段较为先进的材料合成及加工技术,系统经VC(Vacuum chamber真空室)、泵组、电源以及控制系统构成.VCT的电源是整个工艺的主要构成因子,VCT的电源性能会从根本影响镀膜工艺的流畅性和质量.目前RF辉光放电镀膜装置大多以RFPS(R...     

真空镀膜技术的现状及发展

本文介绍了真空下各种镀膜技术的基本概念,讨论了各种镀膜装置的镀膜方式、特点和应用及真空镀膜技术的发展现状及趋势。