用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍铬铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术所镀制的镍铬铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层成分与脉冲多弧离子源阴极靶材成分含量误差小于±３％ ,符合实际应用要求     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜、研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜,研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量

通过大量工艺实验 ,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数 (主回路电压 ,脉冲频率 )、基片高度以及磁场等工艺参数的样品 ,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量 ,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线     

脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量

通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线.     

脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量

通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线.     

技术转让信息

DLD 系列多弧离子镀膜设备该镀膜机包括 DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料     

技术转让信息

DLD系列多弧离子镀膜设备 该镀膜机包括DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料(包括高速钢、工具钢及硬质合金等)的刀具。刀具经镀膜后,使     

TX系列多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备

该设备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿膜、装饰膜、合金膜或多层膜,可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、医疗器械、仪器仪表等领域。该设备在真空条件下采用物理气相沉积技术,在基片上镀制氮化钛及其他薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控溅射离子镀技术有机结合在一起,     

飞秒激光作用下不同厚度镍铁合金单层膜及其复合膜的瞬时反射率

采用磁控溅射法制备了不同厚度的镍铁合金单层膜及其复合膜,运用飞秒激光泵浦-探测技术研究了复合层及薄膜厚度对镍铁合金膜瞬时反射率的影响。结果表明:镍铁合金膜的反射率在飞秒激光作用后的0.2 ps内迅速上升到最大值,再经0.2 ps又达到最小值后才达到稳定状态;不同复合层使得镍铁合金膜的瞬时反射率ΔR/R曲线在零点有不同的变化幅度;随着膜厚度的增加,镍铁合金单层膜的ΔR/R曲线在零点过后的变化幅值先减小后增大。     

LDH─1200多弧离子镀设备

ＬＤＨ─１２００多弧离子镀设备北京仪器厂真空技术研究所刘桂敏，张守忠真空离子镀技术，是在特定的真空条件下在基体表面镀制金属膜、化合物膜，膜层致密与基体结合极好。可镀制各种色彩的装饰膜和超硬耐磨、耐蚀工艺膜，节能节原料，无污染，生产成本低，效益高，用途...     

Fe-C合金膜光纤腐蚀传感器镀膜工艺研究

为了监测钢筋或各种埋地管线的腐蚀情况,提出了基于金属腐蚀敏感膜的光纤腐蚀传感器。介绍了Fe-C合金膜光纤腐蚀传感器的原理。为了实现光纤腐蚀传感器的传感性能,需要在光纤表面电镀Fe-C合金膜。利用HF酸腐蚀掉光纤包层,确定光纤包层被完全腐蚀掉的时间,通过实验确定光纤敏化和活化的镀液配方和工艺。先利用化学镀在处理过的光纤表面上镀一层适合电镀的中间导电镍层,然后利用电镀工艺电镀Fe-C合金膜,最终获得表面光亮、均匀、结合力好的金属腐蚀敏感膜。     

Ni80Cr20薄膜的光谱中性度优化

金属材料薄膜的光学常数会随膜层厚度发生变化,从而导致薄膜的光谱特性也发生变化。在制备工艺中,不论是热蒸发工艺还是溅射工艺,Ni80Cr20（简称镍铬）薄膜在较“薄”和较“厚”的时候光谱中性度都较差,并且其光谱特性趋势相反。理论计算结果表明,增加镍铬合金中Cr（铬）的比份可以提高“薄”膜的中性度,而“厚”膜则需要提高Ni（镍）的比份。针对光谱特性相反的“薄”膜和“厚”膜,分别提出了“有意分馏”和增加镍的比例的方法来改善光谱的中性度。试验结果表明：为改善膜层的中性度,低密度时可采用“有意分馏”的热蒸发工艺来提高膜层中铬的含量;而高密度时则可以镀制纯镍。“有意分馏”的热蒸发工艺可将光谱中性度提升至1.8%;纯镍工艺可将OD4的光谱中性度提升至4.6%。所提出的改进的镀膜工艺是有效的,并为光谱检测、光纤通讯、摄影摄像等应用领域的衰减片制备工艺的改进提供了参考。     

微机电系统用电铸镍铁合金的制备及其电磁性能

研究了电铸镍铁合金制备过程中工艺条件对电铸层成分的影响,获得含铁质量分数20%电铸层的最佳工艺条件为镀液硫酸亚铁含量6 g/L、pH值2.5、温度55℃、电流密度3.5 A/dm2;讨论了镀层形貌及电磁性能的变化关系.结果表明:制备的镀层表面光亮、结构致密,晶面为(111)、(220)、(200).该铸镍铁合金矫顽力最小为2.95×10-2 A/m,表现出较强的顺磁性.剩磁力随着铸层铁含量的增大呈下降趋势,饱和磁化强度为IJ85合金的10%,具有优良的电磁性能.可以用于制造微型磁执行器与传感器元件.     

层间扩散对多层膜镜单色器性能的影响

结合新近发展的多层膜极化超镜涂层材料CoFe／TiZr,采用中子反射实验测量数据,以矩阵方法为基础,对有无考虑层间扩散、表层氧化两种情况进行了进行了理论计算。采用超镜实际结构设计方法（Real Structure Design,RSD）,运用双势函数处理模型,考虑表层氧化,获得了新型超镜涂层材料CoFe／TiZr镀制多层膜镜单色器的工艺要求以及有效中子损失情况。计算结果可为采用CoFe／TiZr作为涂层材料镀制多层膜镜单色器或者多层膜镜单色器的制备及理论设计优化工作提供有价值的参考。     

镍铁合金电沉积金刚石工具的研制

提出了采用镍铁合金作为电沉积金刚石工具结合剂的构想。通过分析研究 ,确立了工艺方案 ,对影响镍铁合金沉积层质量的主要因素进行了分析 ,优化了底层沉积、上砂沉积以及加厚沉积时的镀液温度、阴极电流密度等。金刚石套料钻的研制成功 ,证实了镍铁合金作为电沉积工具结合剂的可行性。     

极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术

研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。     

装饰性镍-铁镀层——一种受欢迎又经济的光亮镍层代替物

近年来,国内外在很多产品上镀光亮镍-铁合金代替光亮镍。在镀光亮镍-铁合金的镀层中铁的含量达10～35％,甚至高达45％,这样可节约材料费用,降低成本。而且,工艺控制简单,镀层耐非常苛刻的大气环境。尽管我国镍-铁合金镀层也有应用,上海轻工研究所也研究出专用的791添加剂,但工艺控制还不成熟,下面把国外工艺资料介绍给读者。     

化学沉积镍磷合金表面强化的研究

简述了化学沉积镍磷合金的原理及镀液与时效工艺选择,研究了沉积镍磷合金层的组织结构、时效过程中脱溶分解的规律和镍磷合金镀层的硬度与耐磨性。根据组织与性能的特征和效益提出化学沉积镍磷合金表面强化工艺的生产应用前景。     

装饰性镍—铁镀层——一种受欢迎又经济的光亮镍层代替物

近年来,国内外在很多产品上镀光亮镍-铁合金代替光亮镍。在镀光亮镍-铁合金的镀层中铁的含量达10～35％,甚至高达45％,这样可节约材料费用,降低成本。而且,工艺控制简单,镀层耐非常苛刻的大气环境。尽管我国镍-铁合金镀层也有应用,上海轻工研究所也研究出专用的791添加剂,但工艺控制还不成熟,下面把国外工艺资料介绍给读者。