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《山东化工》2021,(12)
研究了超声波条件下在Q235钢表面进行化学沉积Ni-P的工艺;利用扫描电镜(SEM)和X-线衍射(XRD)对镀层成分、表面形貌及厚度进行了分析。结果表明,Q235钢表面化学镀Ni-P的最佳工艺参数为:硫酸镍(Ni SO4·6H2O)30g/L,次亚磷酸铵(NH4·H2PO2·H2O)32g/L,乳酸(C3H6O3)30g/L,柠檬酸(C6H8O7·H2O)10g/L,无水乙酸钠(CH3COONa)20g/L,p H值4~5,温度80~85℃,化学镀时间90min;超声波可显著地提高化学镀Ni-P合金的镀速,明显地降低镀层的孔隙率,所得镀层更为均匀致密,且Ni-P合金化学镀层为非晶态合金,光亮、均匀,与基体结合面平整。 相似文献
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在中温酸性条件下用化学沉积方法制备了Ni-Cu-P合金镀层,采用扫描电镜、能谱分析仪及Autolab工作站研究了镀层的耐蚀性能,确定了化学镀Ni-Cu-P合金的最佳工艺。其最佳工艺为:25 g/L NiSO_4·6H_2O,0.05 g/L CuSO_4·5H_2O,40 g/L C_6H_5Na_3O_7·2H_2O,25 g/L NaH_2PO_2·H_2O、15 g/L CH_3COONa,0.03 g/L KIO_3,0.01 g/L C_(12)H_(25)NaO_4SO_3,pH为(4.75±0.01),θ为(80±1)℃,沉积t为2 h。研究结果显示,中温酸性化学镀Ni-Cu-P合金镀层的腐蚀电流密度明显低于化学镀镍-磷合金镀层以及基体材料的腐蚀电流密度,其耐蚀性得到显著提高。 相似文献
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研究了丁二酸对化学镀Ni-P纳米TiO_2复合镀层性能的影响。镀液组成及工艺条件为:NaH_2PO_2·H_2O 32g/L,NiSO_4·6H_2O 26g/L,一水合柠檬酸20g/L,CH_3COONa·3H_2O 15g/L,十二烷基苯磺酸钠40 mg/L,纳米TiO_2微粒0.6~1.5g/L,丁二酸4~24 mg/L,温度(88±1)°C,pH值4.8±0.2,时间1h。加入适量的丁二酸,能够提高镀液的稳定性,加快沉积速率,提高镀层中磷的质量分数、显微硬度及耐蚀性。丁二酸的最佳质量浓度为2g/L。 相似文献
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为了制备可以在磁场中悬浮的ICF靶丸材料,采用化学镀法对PS微球包覆Ni-P合金磁性镀层,并用正交实验确定了最佳工艺条件。采用XRD、SEM、DSC、VSM分析了镀层结构、形貌以及磁性。结果表明,Ni-P镀层在PS微球表面沉积均匀,表面光滑;微球的饱和磁化强度为2.130 A/m,所具有的磁性可使其在磁场中悬浮;化学镀Ni-P合金层最佳工艺条件为:ρ(NiSO4.6H2O)=40 g/L,ρ(NaH2PO2)=25 g/L,ρ(柠檬酸钠)=50 g/L,pH=10,温度为40℃。 相似文献
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石英光纤表面化学镀镍-磷合金工艺及动力学研究 总被引:2,自引:0,他引:2
通过正交试验分别考察了NiSO4·6H2O、NaH2PO2·H2O、C2H5COOH、H3BO3含量,pH和温度对石英光纤表面化学镀Ni-P合金的影响,并确定了其优化条件分别为35 g/L、32 g/L、20mL/L、28g/L,pH 5.0及84℃.用体视显微镜(SM)、电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)和X射线衍射(XRD)对镀层的表面形貌、组成和结构进行了表征和分析.采用单因素试验研究了上述各工艺参数对Ni-P合金沉积速率的影响,建立了Ni-P合金沉积速率的动力学方程.经实验验证,该模型与实验结果吻合度较好,可用于石英光纤表面化学镀Ni-P沉积过程的调节和产物的控制. 相似文献
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对化学镀Ni-P合金镀层进行铬酸盐钝化处理,并研究了钝化温度和钝化时间对化学镀NiP合金镀层耐蚀性的影响。结果表明:钝化处理可以显著提高化学镀Ni-P合金镀层的耐蚀性。经40g/L重铬酸钾钝化的化学镀Ni-P合金镀层的耐蚀性明显优于经5g/L重铬酸钾钝化的化学镀Ni-P合金镀层的耐蚀性。随着钝化温度的升高或钝化时间的延长,化学镀Ni-P合金镀层的耐蚀性增强。 相似文献
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以沉积速率、镀层中磷的质量分数、孔隙率和硬度为评价指标,研究了乳酸、丙酸单独作配位剂及两者复配时镀层及镀液的性能。基础镀液配方及工艺条件为:NiSO_4·6H_2O 28g/L,NaH_2PO_2·H_2O 23g/L,CH_3COONa·3H_2O 20g/L,十二烷基硫酸钠8mg/L,硫脲2mg/L,pH值5.0±0.2,温度(80±2)℃,时间1h。结果表明:单独使用乳酸或丙酸作配位剂时,无法获得性能良好的化学镀低磷镍-磷合金镀层;只有将两者复配使用,才能获得理想的化学镀低磷镍-磷合金镀层。最佳的复配方案为乳酸18mL/L+丙酸10mL/L。此时,镀层中磷的质量分数为3.81%,沉积速率为16.31μm/h,孔隙率为0.70个/cm2,硬度为2 946MPa。 相似文献
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低温化学镀镍磷合金工艺 总被引:2,自引:0,他引:2
以A3钢为基体,在低温下以化学镀制备镍磷合金。研究了镀液中复合配位剂含量、添加剂含量、温度、pH等条件对镀速的影响,以优化化学镀镍磷合金工艺。对镀层的外观、结合强度、耐蚀性、孔隙率等性能进行了表征。得到化学镀Ni-P合金较优的工艺条件为:NiSO4.6H2O30g/L,NaH2PO2.H2O30g/L,柠檬酸钠10g/L,植酸18g/L,NaF6g/L,巯基乙酸0.6g/L,温度50°C,pH9.0,氨水缓冲剂适量。在此条件下得到的Ni-P合金镀层具有良好的外观,孔隙率低,结合力强,耐蚀性好。 相似文献
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化学镀Ni—P合金在烟草机械上的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了在烟草机械零件上化学镀Ni-P合金的工艺及其镀层的性能,结果表明,热处理温度对镀层的硬度和耐磨性均有较大影响,二者经400℃,1h热处理后达到峰值。镀层在酸、碱,盐介质中的耐蚀性均优于不锈钢。铝合金上之化学镀Ni-P合金层比硬阳极氧化层有较优的性能。 相似文献
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在机械传动轴用40Cr钢基体上制备了化学镀Ni-P合金镀层,并对化学镀Ni-P合金镀层的厚度、表面粗糙度、结构、表面形貌及耐蚀性进行了研究。结果表明:化学镀Ni-P合金镀层属于立方结构,结晶度较好;化学镀Ni-P合金镀层表面呈现出均匀、致密的颗粒状形貌,厚度约为6.5 pm;化学镀Ni-P合金镀层的自腐蚀电位为一0.305 V,自腐蚀电流密度为36.72 ptA/cm2,耐蚀性较好。 相似文献
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先在ABS塑料表面涂覆10 g/L NiSO_4·6H_2O+40 g/L NaH_2PO_2·H_2O混合溶液进行预活化,再采用光斑直径为1 mm和波长为450 nm的激光(功率1 W)在5 mm/s的速率下进行活化,最后在以下条件下化学镀Ni–P–Cu合金:Ni SO_4·6H_2O 28 g/L,CuSO_4·5H_2O 0.04 g/L,NaH_2PO_2·H_2O 20 g/L,乳酸20 g/L,CH_3COONa·3H_2O 15 g/L,硫脲0.9 mg/L,pH 5,温度80°C,时间30 min。激光活化后的ABS塑料表面形成了一层具有催化作用的活性镍微粒。随后化学镀所得Ni–P–Cu合金镀层均匀、致密,与基体间结合良好,电磁屏蔽性能满足军工技术的要求。 相似文献
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为了改进钢材表面性能,采用复合化学镀技术制备( Ni-P) -Al2O3纳米微粒复合镀层,由于纳米微粒独特的物理化学特性致使使得到的复合镀层具有多种优良性能.通过Ni-P合金镀层、(Ni-P) -Al2O3纳米微粒复合镀层和热处理后的(Ni-P) -Al2O3纳米微粒复合镀层硬度和耐磨性能测试,得出(Ni-P)-Al2... 相似文献
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3.2 镀层性能的研究 3.2.1 化学镀Ni-P合金层的沉积速度和Ni-P合金层中磷的含量化学镀Ni-P合金层沉积速度平均为28μm/h。Ni-P层中磷的含量平均为10%,镍的含量为90%。 3.2.2 Ni-P合金层与基体间的结合力测试 相似文献
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在普通平板玻璃和空心陶瓷基材表面沉积镍磷合金。对镀液成分及用量、温度、pH值、施镀时间等工艺参数用均匀设计进行组合筛选,获得可沉积光亮Ni-P镀层的中低温酸性玻璃基体Ni-P化学镀工艺:NiSO4.7H2O 30g.L-1,NaH2PO2.H2O 22 g.L-1,琥珀酸36 g.L-1,添加剂A 2 mg.L-1,温度48℃~50℃,pH值5.8~6.0;对玻璃表面化学镀镍进行改进获得了空心陶瓷表面高温酸性Ni-P化学镀工艺:NiSO4.7H2O 29 g.L-1,NaH2PO2.H2O 38 g.L-1,琥珀酸36 g.L-1,添加剂A 2 mg.L-1;,温度90±1℃,pH值5.5~6.0。玻璃表面镀层表面质量良好,光亮、平整,有较好结合力;有效沉积时间达到15 min时,空心陶瓷表面镀层表面质量良好,与陶瓷表面有较好结合力。 相似文献
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采用极化曲线和交流阻抗法,与Ni-P合金镀层对比,研究了化学镀Ni-Cu-P合金镀层在3.5%NaCl水溶液中的电化学行为。极化曲线结果表明,化学镀Ni-Cu-P合金镀层的自腐蚀电流密度(4.037μA/cm2)远远小于Ni-P合金镀层,说明Ni-Cu-P合金镀层的耐蚀性能比Ni-P合金镀层好。在交流阻抗谱图中,化学镀Ni-Cu-P合金镀层在整个浸泡过程中仅出现一个时间常数的单容抗弧,镀层电阻不断的增大,表明镀层有钝化膜不断生成。 相似文献