深亚微米光学光刻设备制造技术研究

光学光刻在不断发展,促进了集成电路的制造,提高了其制造水平。光学光刻的分辨率在逐步提高,其设备面对着巨大的挑战。本文将对深亚微米光学光刻设备制造技术展开研究。     

储备力量 蓄势待发——访ASML中国区总经理David Sachse和技术行销经理程天风

随着半导体工艺技术的快速拓展,对芯片的制造设备也提出非常严峻的考验。如何满足大尺寸、纳米级芯片制造工艺的要求,是提升产业发展速度的要素之一。在芯片生产中,光刻是决定集成电路制造水平的关键工艺之一,同时光刻设备也是半导体芯片生产设备中价格最昂贵的设备之一。目前在光刻领域形成ASML、尼康和佳能三足鼎立的局面。而且全球最大的芯片制造设备供应商应用材料也对光刻设备市场虎视眈眈。总部位于荷兰的ASML公司一直致力于光刻技术领域,努力保持和代工业同步发展,并且致力于将最新的技术成果引入中国市场,积极支持中国代工业的…     

掩模自动检查系统提高了大规模集成电路的成品率、性能和可靠性

在日本,大规模集成电路光刻掩模的缺陷自动检查,现已成为不可缺少的事了。掩模缺陷自动检查设备是四前年投入实际使用的,它的迅速普及已使人们能用到优质的光刻掩模。进而,这又大大提高了大规模集成电路的性能,可靠性和生产成品率。近来,用常规光刻掩模制造高集成度集成电路——超大规模集成电路的可能性也终于得到证实。     

光刻掩模的静电放电损伤及其防护

半导体集成电路制造中,光刻工艺是整个制造过程中的核心技术.而光刻掩模(Reticle,Photomask)则为光刻技术中的最为关键的部件.随着半导体生产技术的不断提升,光刻掩模对静电放电敏感度也越来越高,如何防护光刻掩模避免遭受静电放电的损坏,已成为目前半导体集成电路制造中的一项挑战.     

国外光学分步曝光技术的新进展

本文从光源波长、照明系统和工艺控制方面介绍了国外光学分步曝光技术的最新进展。着重叙述了世界几大著名光刻设备公司在其研究领域的设计更新和实施效果，展望了光学分步曝光技术在甚大规模集成电路（ＵＬＳＩ）制造中的潜力。     

国外X-射线光刻技术的进展

近几年来,美国、日本研制和生产半导体器件的一些主要公司、实验室、都在对χ-射线光刻技术进行研究和改进,发展很快,已开始用于超大规模集成电路的试验性生产。 光刻技术是制造集成电路的关键技术。传统的紫外线光刻在集成电路的发展中曾经起了重要作用,但是近二年来,随着     

制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

Y2000-62422-1 0103757绝缘体上硅技术的发展趋势=Mainstreaming of theSOI technology[会,英]/Shahidi,G.& Ajmera,A.//1999 IEEE International SOI Conference Proceedings.—1～4(EC)0103758软 X 射线投影光刻技术[刊]/金春水//强激光与粒子束.—2000,12(5).—559～564(L)软 X 射线投影光刻作为特征线宽小于0.1μm 的集成电路制造技术,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视。随着用于软 X 射线投影光刻的无污     

光刻的现状及动向

从前,光刻技术作为照像制版技术应用于印刷工业。但近年来由于电子工业的发展,光刻技术更加引人重视,因而发展较为迅速。在电子工业中最初应用光刻技术的是P·艾斯勒的印刷线路板。随后是美国无线电公司(RCA)把它应用于彩色电视显象管障板的研究、高频台式晶体管蒸发掩模和平面晶体管的制造,从而光刻技术的实用性就更大了。现已成为电子工业骨干的集成电路、中规模集成电路和大规模集成电路等基本工艺中更充分利用光刻的高精度和精细的加工性能。     

深亚微米光学光刻设备制造技术

相对于其它“后光学”光刻技术 ,在 0 1 3μm甚至 0 1 3μm以下集成电路制造水平上 ,光学光刻仍然具有强大的吸引力。随着光学光刻极限分辨率的不断提高 ,当代光学光刻设备正面临着越来越严重的挑战。论述了深亚微米光学光刻设备的技术指标和面临的技术困难 ,对其中一些关键的技术解决方案进行了分析。     

硅片处理系统与光刻

<正> 半导体器件的集成度越来越高,最小加工尺寸越来越小,硅片尺寸越来越大,这无疑越来越增加了光刻的难度,对光刻技术与硅片处理系统提出了更高的要求。 光刻,是一种图象复印同刻蚀(化学、物理、或二者兼而有之)相结合的综合性技术。在集成电路的制造过程中,需要经过每次光刻,其质量是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素之一。 光刻的质量,可以由分辨率、光刻精度     

光刻技术在微电子设备上的应用及展望

一、光刻技术在微电子设备上的应用光刻技术实际上就是利用光学复制的方式将微小图样印到半导体上,用以制作电路并应用到微电子设备中。光刻技术对于微电子设备发展具有重要的作用。光刻技术在是生产集成电路的主要技术,在微点子设备上主要应用于微电子设备上的集成电路、晶体管、半导体等。如今的微电子设备不可缺少的技术条件就是光刻技术。光刻技术不断发展这,精度也逐渐接近光学波长限制。在微     

国际要闻

半导体设备产业需要整合应用材料意欲吞下ASML追踪芯片制造设备厂商的金融分析师们近日提出,该产业需要整合。同时,这些分析师把资金雄厚的美国应用材料(AppliedMaterials)公司与其它厂商联系起来,其中包括荷兰光刻设备制造商ASMLHoldingNV。EquipmentforElectronicProductsManufacturing·业界要闻·分析师和投资银行家表示,应用材料公司手中有50亿美元以上的现金和短期投资,可以在产业整合过程中发挥作用。虽然应用材料公司是全球最大的芯片制造设备供应商,它在光刻设备市场却没有作为。一般认为,光刻设备是生产半导体芯片的最关键…     

不断攀登前沿科技顶峰的ASML --访ASML中国区技术行销经理程天风先生

ASML公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术以支持复杂的集成电路制造。ASML目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构,拥有5000位员工。对于国内代工业水平的不断发展与提升,ASML作出了巨大的贡献。SEMICONChina2006展会召开前夕,记者特意走访了ASML公司,以下是对ASML中国区技术行销经理程天风先生的访谈内容。     

TFT可采用液态硅旋转涂布工艺生产

明导国际(Mentor Graphics)认为,其最新的DFM(可制造性设计,design- for-manufacturing)将对集成电路设计人员设计“光刻友好”的集成电路布局提供帮助。该公司的新型Calibre LFD(光刻友好设计。li- thography-friendly design)是一种类似于DRC/LVS(设计规则检查/低压信令,design- rule-checking/low-voltage-signaling)的工具。不过,Calibre LFD并不检查布局是否符合设计规则(例如线迹宽度和间距)与早期原理图,而是检查布局是否符合描述给定生产线剂量和焦点的光刻制造规则。该工具集成了与OPCVerify一样的引擎,它采用的是一种类似OPC(光学接近修正,optical-proximity- correction)的技术,是Mentor在1月份为光刻设计人员推出的。     

成品率驱动的光刻校正技术

光刻校正技术已成为超深亚微米下集成电路设计和制光刻校正技术的基本原理以及在IC设计中使用这些技术需要注意的问题,为可制造性设计提供有价值的指导.     

用极紫外光源刻划线宽0.1μm的晶体管门电路

通过与制造集成电路的领导者KhanhNguyen合作,美国加州Sandia国家实验室的研究人员使极紫外光刻系统的曝光装置进一步完善,此装置由激光等离子体光源、Schwarzschild投影物镜、磁悬浮工作台和对准系统组成.用此系统已经成功地制造了线宽0.1μm的NMOS离散式晶体管.在实验中验证了极紫外光刻系统的生产能     

创新、可靠,赢得市场--专访沈阳芯源公司总经理宗润福

[编者按]沈阳芯源公司是中科院沈阳自动化所引进韩国技术创立的集成电路装备企业,主营产品是光刻工艺中的匀胶显影设备.芯源创立3年来取得了很大的发展,产品已成功销往中芯国际(SMIC)等用户.SEMICON CHINA 2006展会期间,我们在沈阳芯源公司的展位上专访了芯源公司总经理宗润福.     

硅片加工中的光刻技术

光刻是在半导体、金属及其他精密的表面加工中常用到的一种技术。尤其是在半导体工业中,为了制造二极管、晶体管、集成电路(IC)和大规模集成电路(LSI),采用光刻的方法,把非常复杂和精细的图形做在硅片上。     

对PLA-501F光刻机维修的粗浅体会

<正>光刻机是大规模集成电路生产中的关键设备,光刻过程中能否快速、精确地对准是光刻机主要性能之一。随着集成电路集成度的提高,光刻线条也愈来愈细。因此,对光刻机的对准精度要求也就越来越高。 笔者多年来一直从事半导体设备维修工作,从中观察和体会到,要想进一步提高光刻的成品率和生产效率,快速准确对准是非常重要的,而预对准的精度则是保证快速对准的前提。我们公司八六年初从日本Canon公司引进的PLA—501F光刻机,至今性能一直很稳定,使用情况良好。但是在维护和     

ASML全球光刻设备制造的领航者

有专家声称，集成电路产业发展的命脉掌握在半导体设备制造商手中，他们制造的尖端设备为集成电路产业的高速发展提供了广阔的成长空间。作为全球半导体设备商排名第三，全球光刻设备制造商排名第一的ASML，用20年的时间创造了一个神话，现成为世界上最大的光刻机制造商!众所周知，光刻设备是所有半导体设备之中的尖端技术，ASML无愧于集成电路产业发展的领航者。荷兰不仅有ASML这个全球半导体工业的骄傲，更有扬名于世的荷兰“风车”、国花郁金香、菲利浦电子等，为了进一步了解荷兰著名的半导体企业ASML，《半导体行业》杂志社记者特别采访了ASML中国区技术行销经理程天风先生，让ASML的风采展示于业界。