现代的真空技术

本文综合了国内外真空技术发展的最新成就，论述了真空获得的新动向，以及真空技术在工业领域中的应用。     

真空技术是现代电子工业的基础

大规模集成电路的出现和发展使电子工业进入了微电子技术时代，推动了工业各部门向现代化发展。微电子技术是多学科综合应用的一门崭新的技术。其中，包括了真空科学领域内的表面与界面学、薄膜技术、材料学以及同真空技术有关的微加工技术（包括设备）和测量技术，工艺过程的绝尘技术。 随着微电子技术的发展，电子元器件、电路的尺寸越来越小，集成度越来越高，加工线宽达亚微米或更细。由于物理效应的限制，集成度达到一定程度就不能再提高，因而提出研制三维电路、光电路和生物计算机。这就需要相应的手段和技术。真空技术是基础，当今超大规模电路的制造工艺过程中有７０％的工序要在真空环境中进行，不但工艺设备要求高品质的真空条件，而且传统的超净生产环境也将为真空传输机构所代替。所以说真空技术是微电子技术发展的根本保证。如果不重视真空应用技术的研究，微电子技术方将裹足不前。 本文简述了电子材料、电子元器件、电路制造工艺过程与真空技术的关系。用真空传输系统联接芯片制造的工艺设备，使芯片制造全过程处于真空环境中替代大型的超净场房，将会进一步提高生产环境的洁净度（真正达到绝尘），控制了有害气体，并降低了超净间造价，减少了超净环境对工作人员超常损害。     

真空技术

一般问题 在来自冷抑制栅的离子轰击下金属表面的浮游电势──《Vacuum》,1978,28,No8/9, 329──331(英文) 在用丝网作冷阴极离子源时,离子束与中性原子,溅射材料以及电子混合一起。介绍了用这种离子束轰击的金属表面浮游电势的测量情况。如果放电电流不太低,则指示的浮游电势在阴极电势的几十伏以内。估算了全部离子和电子流。图4,表1,参考文献3 (翁国屏) 用于红外线强烈的co2激射器脉冲的超高真空的低和高温的硅玻璃槽──《Reviewof.scientific,instruments》,1978,vol,49,Noll,P1571～1573。 本文叙述密封的硅玻璃槽在超高真空 ( 4 …     

真空技术

1.何谓真空(略) 2,真空获得方法 提到真空泵,常使人想起油扩散泵与油旋转泵的机组。实际上常用这种机组获得10-4～10-6毫米汞柱的真空。但如所周知,最近出现了很多其他机组。总之,根据对于真空的要求,可以考虑种种的泵及其机组。对于真空的要求主要有以下几点:1.必要的真空度;2.必要的真空实质(各种剩余气体的分压强);3.在一定真空度下的抽速。 首先谈谈第3项抽速问题。一般工业的大型装置,例如真空冶金炉及真空管的抽气袋置等,必须抽出出现的气体,因而当然大的抽速是必要的。但在抽空物理装置特别是没有特殊气源的真空装置时,如后所述,即使…     

超高真空技术

超高真空技术的研究和它在应用方面的研究在真空技术的全部范围内所占的比重年年增加,这点各位读者是知道的。回顾,在10年前的1953年,D.Alpert在应用物理的杂志上发表了“超高真空”的获得和测量的全部情况,当时我国的真空技术工作者似乎还末注意到。可是作者当时虽然正在研究镀膜,但是,深感这方面的研究对超高真空技术是不可少的,必须尽快设法把这个技术建立起来,进行种种利用以作为表面研究的手段。近十年来国内外对这方面的技术,从物理、表面化学、等离子和宇宙探索等方面引起了注意,作为技术基础进行研究,并且在工业方面也制出起高真空…     

真空技术的未来

一、前言 在美国真空学会第30届年会召开之际,特别是借“真空科学与历史,”这一会议议题的机会,发表一篇专门讨论“真空技术未来”的文章是适宜的。但是,应当指出,这篇文章不同于通常意义的科学论文,它明确客观地提出有关各种结论的证据。当然,这些结论和证据之间的关系在很大程度上带有主观性,但本文最终目的是预测未来。因此,文章属于短论的一类,而不是真正的科学论文,其中的许多论点来自于本文作者在马德里召开的第9届国际真空会议和第5届团体表面会议发表的“真空获得与测量的极限”。但是,应当指出,本文对未来的展望不包括真空科学,而…     

真空技术的最新动向

1要采技术开发的一般因素我认为目前引发或者迫切要求技术开发的社会因素主要有五项：（1）信息共有化──电子技术、电子计算机技术、信息通信网技术。（2）福利、健康──生物工程学技术、生命科学、福利社会科学。（3）能源供给和环境问题──能源工程学、环境控制技术、地球科学。（4）经济竞争基本战略科学、重视技术政策（国家和企业）。（5）推进国际合作和维持和平──防卫技术、宇航技术、适应地区支援技术。通观以上五项，世界正在向形成地球家族的方向发展，技术也向开放、共有的方向迅速展开。另一方面，最初已投资研究开发的人…     

真空技术与盖德

沃尔夫冈·盖德(Wolfgang Gaede,1878～1945)是现代真空技术的奠基人。自从1905年他将第一个高真空泵—转动式水银真空泵公之于众至今80年来,高真空物理所取得的显著进步与他的名字紧密相连。他是一位在自己所从事的专业领域闯出一条崭新道路的伟人。从奥托·葛利克(Otto von Guericke,1602～1686)开始,整个一批献身于真空技术     

激光唱片与真空技术

制作激光唱片时,清洁和真空镀铝蒸镀至关重要。激光唱片上,反射铝膜的均匀性、反射率以及不允许有针孔瑕疵是十分重要的,真空技术与这三点关系密切。制作过程是在多碳酸盐基底上蒸镀一层反射铝膜。录制的信息以数码的形式录入局部起伏的“小坑”和平坦区中。利用这些起伏的“小坑”和平坦区来调制激光束。特殊设计的接收器接收已被调制的逻辑0与1字码。反射的激光束由其上的铝膜来完成。铝膜的膜厚约为50nm。膜厚的均匀性要求在±3％以内。如果不能满足这个要求,逻辑信号便难以读取,严重影响音响效果。反射率的要求必须大于70％。最大的高低误差也不得超过±3％。还要     

真空技术的最新动向

真空技术的最新动向①林主税博士（日本真空技术株式会社）ＮｅｗＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｏｆＶａｃｕｕｍＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＤｒ．ＣｈｉｋａｒａＨａｙａｓｈｉ（ＵＬＶＡＣＵｌｔｉｍａｔｅｉｎＶａｃｕｕｍ）一、要求技术开发的一般因素我认为目前引发或迫切要求技...     

2000年的真空技术

1.前言借此美国真空学会第30届全国代表大会举行之机,在真空科学和技术史话小组上,专门介绍真空技术的未来是很必要的。按理说,本文并不是一篇科学论文,虽然它客观而具体地预测了真空技术的未来状况,但仍存在着局限性。     

PECVD工艺与真空技术

随着大规模集成电路技术的发展，对器件稳定性可靠性的要求越来越高，因此器件表面钝化技术也发展很快，其中等离子体增强化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）技术的开创和应用更为突出。而ＰＥＣＶＤ工艺与真空技术存在着极其密切的依附关系。本文通过理论和实践简要地讨论了这些关系的一些基本方面。了解和掌握有关的真空技术，对于ＰＥＣＶＤ工艺的进一步推广应用将有十分重要的意义。     

《真空技术》简评

这是一本很好的论述真空科学与技术的书。前两章介绍了有关真空科学的基本理论——气体分了运动论和固-气界面现象。其次各章讨论了真空的获得、测量、检漏、和系统。此书将理论与实践,或科学与技术结合得比较好。其理论部分,从古典的分子运动论,有步骤地引导到近代的一些发展,引证书籍文献百五十余篇;其中的电子在电极间的碰撞规律和电离计理论,是作者的原始贡献,首次见于书籍中的。     

沈阳慧宇真空技术有限公司

沈阳慧宇真空技术有限公司凝聚了许多优秀的科研设计人材,拥有装备精良的实验基地和加工中心,通过十多年的艰苦创业,在东北老工业基地上建立了新兴的真空技术高科技企业。     

真空技术及应用系列讲座

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真空技术及应用系列讲座

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纳米工艺和真空技术

科学（science）和工业（industry）之间存在着如图1所示的桥梁。现在，即使是最精细的半导体元件也还没有进行100nm以下的加工，严格地说，这还不是“纳米工艺（nanotechnology）”。现在以及不久的将来，可能成为纳米工艺的技术有下列一些：（1）扫描探针显微镜（SPM）技术——离子通道技术（patch。lamp）；（2）纳米微粒——超分子、遗传因子重组技术；（3）快速凝固技术——快速冷冻技术；（4）利用电子、离子、光子的分析技术（硬件和软件）。前三项是从生物研究方面产生的技术，其左边是从无机、有机的非生物对象方面产生的技术，…     

日本真空技术发展简史

第二次世界大战以前日本真空技术的水平是很低的只能做真空管,东京理化研究所仁科芳雄建立了一个160公分的小型迴旋加速器,虽然很小也算作成了,这项工作是和真空技术有关的,直到战争结束迴旋加速器也没有充份发挥其作用,主要是真空技术不够。 战争期间我被征兵了,所以详细情况不太了解,当时真空技术主要着重研究透镜的蒸着和微波发射管。 停战以后迴旋加速器被美国扔到了海里,原子核的研究被禁止,原来研究原子核的人员不得不转到研究真空室,当时盘尼西林的冷冻干燥,照相机防止反射镜头的1/4波长薄膜的蒸着是真空技术的主要应用,我也从那时开…     

加速器中的真空技术问题

把真空技术应用到粒子加速器中,必须满足加速器的一些要求,适应加速器的环境条件。这就给真空技术工作者提出了一些新的需要解决的特殊问题。只有认真地分析和研究这些问题才能更好地在加速器中应用真空技术。近年来,由于新的基本粒子的发现,已使大的质子加速器转向粒子—反粒子对撞机方面