高纯钛的生产技术

高纯钛在半导体超大规模集成电路中以钛硅化合物（ＴｉＳｉｘ）、氰化钛（ＴｉＮ）、钨钛（Ｗ－Ｔｉ）等形式用做控制电极、扩散阻挡层、配线等材料，这些都是以薄膜形式使用的．薄膜主要是用溅射方法制备，所以高纯钛是作为溅射靶材使用．在纯度要求上，必须充分除去 Ｎａ， Ｋ等碱性金属， Ｕ， Ｔｈ等放射性元素、Ｆｅ，Ｃｒ，Ｎｉ等重金属元素．另外，随着半导体的微型化，还开发了被称为离子金属等离子的技术，其溅射设备腔体内的各种部件也开始采用与溅射靶同样材质的高纯钛．在生物材料方面，高纯钛丝可用作捆扎材料． 高纯钛的生产…     

高纯钛的制取

高纯钛作为溅射靶以TiSi_x、TiN膜的形式用作超大规模集成电路的控制电极、扩散阻挡层及配线材料等。材料中所含重金属     

碘化钛的电子束熔炼提纯效果分析

通过对碘化钛电子束熔炼提纯效果分析，提出合理、经济的高纯钛制取工艺路线。     

AJM电子束熔炼钛的技术与设备现状

美国Axel Johnson金属有限公司(AJM)的C.H.Entrekin及其同事指出,自从第6届世界钛会议以来,在钛及其合金的电子束冷床精炼工艺方面出现了一系列的发展.1 铸造钛及其合金扁锭最先利用电子束冷床熔炼方法生产的钛产品之一就是铸造作为大型板坯的扁锭.一般说来,圆形断面的锭坯需要进行锻造和开坯,将其加工成为适合于平板轧制的矩形板坯;扁锭是近净形的板坯铸件,免除了锻     

钛的生产方法正在发生巨变

早在 1940年 ,WilliamKroll发明了工业生产金属海绵钛的基本方法 ,即克劳尔法(Kroll)。利用镁化学还原四氯化钛 (TiCl4)而获得海绵状的金属钛。当时 ,这位科学家预计 ,5 0年后人们将用电解法取代所谓的克劳尔法。1997年 ,英国剑桥大学研究开发成功了一种新方法 ,它似乎能够解决钛生产中存在的一些问题。据称 ,由剑桥大学材料科学与冶金系的DerekFrank、GeorgeChon和FomFarthing开发出来的新方法是以二氧化钛 (TiO2 )为原料 (这是一种容易得到的、成本低廉的和广泛使用的商品 ) ,而不是以TiCl4之类的钛盐为原料。在这种被称为“FFC -…     

电子束熔炼制取高纯钛及其应用

近年来,高纯钛开始用于超大规模集成电路等各种电子材料领域。为了适应这一 需求,进行了高纯钛制取的开发研究。以往的小规模制取高纯钛的有效方法,如熔盐电解法、碘化法等,可进行工业规模的生产,然后再将这种高纯钛为原料,经高真空下的电子束(EB)熔炼,可制得超大规模集成电路用的超高纯度钛。     

钛粉的生产及应用

钛是一种质轻且耐蚀性好的材料，但由于其加工性能差，制造形状复杂的零件成本特别高。采用粉末冶金法则可生产出近成品形状部件，从而降低成本。钛粉末是钛粉末冶金的基本原料，其生产方法决定了它的性能、用途和价格。1 钛粉的生产方法钛粉的生产方法很多，不同方法生产的粉末形状、粒度及成本各不相同（表1）。表1 国内外钛粉的生产方法工艺方法简称成本粒形粒度可制取的粉末氢化脱氢法HDH低不规则粗、细、微Ti,Ti-6Al-4V金属还原法 镁还原法 钠还原法 钙还原法镁法钠法低低中等海绵状海绵状 海绵状粗粗粗TiTiTi电解法电解法电解精炼…     

高纯金的电解工艺

介绍了遂昌金矿有限公司的高纯金电解工艺。实践表明,采用该工艺,在金阳极板含金95%~99%下经过一次金电解,金纯度即可达到99.997%以上。经检测,杂质含量低于高纯金(99.999%)的杂质要求。     

高纯铁制备技术综述

本文介绍了溶剂萃取、离子交换、电解精炼和区域熔炼等冶金提纯方法在高纯铁制备过程中的应用。采用溶剂萃取法和离子交换法,可以除去溶液中的大多数金属杂质,得到纯度为4N的高纯铁溶液。通过氢还原或电解精炼,可进一步去除杂质元素并获得纯度为6N的金属铁材料。区域熔炼法可对铁进行进一步精炼,使纯度达到极限。对不同的原料纯度以及不同的产品纯度要求,采用的工艺方法也有相应的变化,但一般采用几种方法相结合的工艺路线制备品质优良的高纯铁。     

电解高纯金的制备与表面织构研究

用670和800 A/m²的电流密度对4N金进行电解提纯,并利用X射线衍射(XRD)和电子背散射衍射(EBSD)技术对电沉积产物的底面和表面进行极图绘制和微观组织重构。结果表明,样品纯度均达到6N以上;EBSD与XRD所得织构结果基本一致。电沉积金的表面和底面均存在织构,较大的电流密度会弱化织构。受外延生长效应和过渡生长效应的影响,2样品与阴极基板接触的表面均存在{111}纤维织构,电沉积自由表面均存在{001}纤维织构,电流密度的变化导致2样品的织构也发生变化。随着电沉积过程的进行,晶粒尺寸长大。     

高纯钴的制备

对目前高纯钴的制备方法进行了综述和评价。制备高纯钴的冶金工艺过程主要包括萃取法、膜分离法、离子交换法、电解法、区域熔炼法等，这些方法在除杂方面发挥着不同的作用。溶剂萃取法对大多数金属离子有很好的效果，但对Ni，Cu，Zn等金属离子的分离效果相对较差；膜分离法存在稳定性差、成本高的缺点；离子交换和萃取色层法对分离性质相近的元素有较好的效果，但存在容量低等问题；区域熔炼过程可以去除金属钴中的碱金属、碱土金属和气体杂质，并有利于生成纯度高、RRR值大的完整钴单晶。在总结上述各方法特点的基础上，提出了制备高纯钴的合理工艺。     

纳米压痕法测量超细晶工业纯钛室温蠕变速率敏感指数

室温下,采用复合细化(ECAP+冷轧+旋锻)工艺,制备出平均晶粒尺寸约为180 nm的超细晶工业纯钛,其抗拉强度高达870 MPa。利用纳米压痕仪对超细晶工业纯钛以恒加载速率/载荷的方式进行测试实验,通过测定压头保载阶段的压入位移和材料的硬度值计算得出室温蠕变速率敏感指数m值。结果表明:超细晶工业纯钛由于晶粒明显细化,晶界数量增多,晶界长度增加,位错增殖,在室温下表现出优良的抗蠕变能力,适合在压力环境下长期工作,其蠕变机理主要为蠕变位错机理。室温蠕变速率敏感指数m值与加载条件无关,主要由材料的微观组织决定。     

复合细化超细晶工业纯钛高周疲劳性能研究

室温下,超细晶工业纯钛光滑试样在加载频率f=25 Hz、应力比R=-1的条件下进行高周应力疲劳测试,拟合超细晶工业纯钛应力幅σ_a与疲劳断裂循环周次N_f之间的关系曲线,并对疲劳断口形貌进行观察分析。结果表明：200 ℃退火60 min超细晶工业纯钛的疲劳极限值σ_-1为376.5 MP,比未退火超细晶工业纯钛的疲劳极限值提高56.5 MPa。疲劳裂纹源萌生于超细晶工业纯钛的表面, 200 ℃退火60 min超细晶工业纯钛的疲劳辉纹间距较小,疲劳裂纹不易扩展,室温疲劳性能优良。     

高纯钛的反复弯曲疲劳

通过对不同应力幅度下高纯钛的反复弯曲疲劳的研究，发现在较低应力幅度下（～±１００ＭＰａ），材料表现出循环软化，伴随表面滑移带数量的增加、发达的滑移带挤出片的出现。疲劳裂纹萌生主要与滑移带相关，在挤出物内存在两类疲劳损伤形式：沿滑移带的孔洞和与滑移带垂直的微裂纹。在较高应力幅度下（～±２００ＭＰａ），则表现为硬化，次滑移及晶界附近多个滑移系同时起动，有大的形变孪晶出现。裂纹于滑移带、李晶界和晶界结点萌生。断口特征复杂，但与表面变形特征有对应关系。ＴＥＭ亚结构分析表明，随应力幅度的提高，位错组态分别为散乱分布于滑移面的偶极子、位错束带和位错胞。李晶内存在复杂的精细结构，而且有堆垛层错出现。     

超高纯生铁在高质量铸件生产中的应用

论述了超高纯生铁在高质量铸铁生产中的应用,包括高质量的球墨铸铁、蠕墨铸铁和等温淬火球墨铸铁(ADI)铸件生产.高质量球墨铸铁要求影响组织的Cr、V、Mo、As等化学成分非常低,以减少珠光体和不良碳化物的形成.采用超高纯生铁生产的高质量球墨铸铁在普通显微镜下观察不到明显的晶界片状石墨和珠光体组织,从而保证材料在低温下具有...     

高纯度氰化银生产工艺条件研究

高纯度氰化银是镀银工艺中重要的基础材料.以硝酸银/氰化钾(摩尔比)=1/1.05原料配比,采用硝酸银溶液滴加到氰化钾溶液中的加料方式,研究了搅拌速度、滴加速度、反应温度、脱水洗涤和干燥条件等工艺参数对氰化银生产的影响,得到了高纯度氰化银的最佳工艺条件.生产实践表明,上述工艺所得的氰化银纯度高,色泽和晶形完美,适用于大部分需要高纯度氰化银的镀银工艺.     

高纯金属铒的制备工艺研究

高纯金属铒是多种功能材料的原材料,其纯度对材料性能有较大影响,结合稀土金属制备工艺,系统研究高纯金属铒制备工艺,为工业生产提供依据。分析氟化铒等原料物像对还原过程的影响,确定最佳还原工艺条件:还原剂过量10%,1570℃保温10 min,金属收率大于95%,分析不同设备对金属纯度的影响,高真空和清洁蒸馏环境的钽片炉多次蒸馏可制备99.9904%(质量分数)的高纯金属铒。