用聚酰亚胺生产的透明薄膜

日东电气工业公司用聚酰亚胺树脂生产出一种透明薄膜,这种透明薄膜可长期耐高温,并有很高的耐磨性和耐化学品性。这种薄膜的生产方法是,将芳族四羧酸酐与芳族二胺聚合,制得高粘度的聚酰亚胺原料,然后把它涂敷在不锈钢等基体材料上形成薄膜。虽然传统的聚酰亚胺薄膜是褐色的,但是该公司采用先进的分子设计技术,成功地使两种透明的、具有高度耐湿性和耐化学品     

化工新型材料

<正>日本开发成功超薄低相位差PC膜据报道,近日,日本旭硝子公司通过注塑成形方式成功开发出厚度薄至100μm、相位差更低的聚碳酸酯(PC)薄膜CarbogalssC110C-LR。该产品主要设计用途为氧化铟锡(ITO)、透明导电膜的基本膜等,相位差在10nm以下。据介绍,以往面向智能手机等电子设备的透明导电膜基材中,多在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜上涂敷ITO膜。而在触摸面板等领域,应用程序和要求品质呈现多样化,除PET-ITO外,其他材料的用途开发也十分活跃(。中国化工报)     

氧化镍薄膜气体传感器性能提升

本文的目的在于优化甲醛气体传感器.微型甲醛气体传感器设计是以石英玻璃当作基材,白金(Pt)被当作微型加热器电阻来加热感测层,并以氧化镍(NiO)薄膜作为感测层.当环境内有甲醛气体存在时,NiO薄膜层上导电度会增加,因而导致感测层电阻值降低.此微传感器,膜厚为0.34μm,在300℃反应时间只需6秒,灵敏度可达13.5 kΩ/ppb,最低侦测限度可以量测到40 ppb. 而本研究中针对不同的甲醛气体浓度,分别添加金当其催化剂、玻璃基材上共溅镀氧化镍与氧化铝、并比较有无指叉电极、改变基材温度…等,以提升其氧化镍薄膜感测性能.     

Al表面化学镀Ni-P合金及Al/Ni-P/Cu复合材料电性能的研究

化学镀Ni-P合金中间层可提高Al材表面Cu镀覆性能。采用化学镀工艺,在Al表面沉积均匀连续的Ni-P合金层,再电镀Cu,形成Al/Ni-P/Cu复合材料。研究化学镀Ni-P合金层的表面形貌,成分及其成膜机理,以及Al/Ni-P/Cu复合材料的结构与电性能。结果表明,Al材经碱蚀前处理后,在其表面形成腐蚀坑或凸起,NiP合金在此位置优先沉积,逐渐成膜。碱性镀5min,酸性镀25min后,在Al材表面形成厚约5μm均匀致密的Ni-P合金镀层,再在其表面电镀140μm厚Cu层制备的Al/Cu复合材料的电阻率为2.92×10~(-8)Ω·m,经过150℃,360h热处理后,未发生Al、Cu相互扩散,复合材料的电阻率为3.04×10~(-8)Ω·m,结构与性能十分稳定。     

透明BaO·B_2O_3玻璃陶瓷的表面形貌、结构特征及光学性能

以BaCO3、H3BO3为原料，经高温熔触及控制热处理，获得了BaO·B2O3透明玻璃陶瓷.利用XRD、SEM等手段研究了该材料的结构特征及表面形貌．结果表明，在玻璃表面得到了含有单一β-BaB2O4（BBO）晶相结构的析晶薄膜层，薄膜表面均匀，单股厚度约2μm，晶粒平均尺寸约0．2μm，且微晶粒沿a轴方向优先生长；析晶优先从玻璃表面开始向内部进行，形成晶化层—玻璃—晶化层的三元“夹心”结构．该玻璃陶瓷具有良好的光学性能，在1．064μm调QNd:YAG强激光作用下观察到了样品倍频信号的产生（SHG）．     

绒面ZAO透明导电膜的制备工艺研究

绒面ZAO(ZnO∶Al,氧化锌铝)透明导电膜在硅基薄膜太阳能电池领域应用前景广阔,本文利用直流磁控溅射方法,采用氧化锌铝陶瓷靶材制备了ZAO透明导电膜,并用自制的腐蚀液对膜层进行腐蚀以便形成太阳能电池所需要的表面凹凸起伏的绒面结构。研究了不同镀膜温度对膜层性能的影响,不同退火条件下膜层热稳定性的变化情况,不同腐蚀时间下膜层电阻、透过率以及表面形貌的变化,结果表明,在相同真空度、溅射功率和节拍的情况下,220℃下制备的ZAO透明导电膜膜层性能最好,腐蚀时间为30 s时获得的绒面效果好。     

绒面AZO干法制备及性能研究

利用射频溅射方法,制得AZO透明导电膜,并用离子束刻蚀制备绒面,得到绒面AZO透明导电膜。比较刻蚀前后光电性能及表面形貌,发现透过率稍有下降,在可见光波段透过率在80%以上;电阻率略有上升,但仍保持在10-3?·cm数量级,最低为2.91×10-3?·cm;刻蚀后薄膜表面形貌变化较大,大多数薄膜表面呈现"坑状"结构,横向尺寸在0.5?1.0μm,开口角在120°左右,表面粗糙度从7.29nm上升到36.64nm。薄膜具有较好的表面微结构,在作太阳能电池前电极方面有较好的应用前景。     

NiO/Ag/NiO透明导电膜光电特性研究

在室温条件下, 利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了NiO/Ag/NiO透明导电膜, 研究了不同NiO层和Ag层厚度对三层膜可见光透过率和电阻特性的影响。结果分析表明:制备的NiO/Ag/NiO为N型透明导电膜。在400~800 nm的可见光区域内, 随着NiO和Ag层厚度的增加, 薄膜的透光率先增大后减小。NiO层厚度为30 nm且Ag层厚度为11 nm时, 叠层膜具有较好的光学特性, 其最大透过率为84%, 薄膜电阻为3.8Ω/sq, 载流子浓度为7.476×10²¹cm^-3。对薄膜透过率进行了计算机模拟, 发现结果与实验中大致趋势相同, 但因为折射率选择和薄膜界面等因素的影响, 在可见光区域后半段实验值大于计算值。     

聚乙烯基复合透明导电薄膜的制备与性能

以聚乙烯(PE)薄膜为基材,通过表面处理,采用聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)制备导电涂料,利用丝杠涂布制备了在可见和中远红外都有较高透过率的透明导电薄膜。利用可见分光光度计、红外光谱仪(IR)、四探针等分析PE导电薄膜的透光性和导电性。结果表明,表面改性有效提高导电层溶液的铺展性;当紫外光固胶CBU225质量分数为20%,导电层溶液中含有质量分数5%二甲基亚砜时,制备的PE导电薄膜表面电阻为8640Ω,在550nm的透过率为75.8%,红外透过率最高。     

透明导电薄膜投放市场

三菱化成工业公司确立了电子材料用的透明导电薄膜的批量生产技术,业已实现了工业化。透明导电薄膜是在以数10μm厚的聚酯和聚酰亚胺等薄膜上喷镀金属类导电材料而制成的。它作为导电体,除可用作录象带的末端部等外,尚可用作液晶显示元件、电致发光及显示(ELD),静电照相、面发热体等用途。三菱化成的制品分两种,即导电材料中用铟锡氧化物的IP系列和用钯的EP系列。IP系列当使用聚酯薄膜作基材时,可见光的透过率最高为89%,不但透明性好,而且表面电阻系数也很宽,约为100～10万Ω,能适应多种用途的需要。还有使用双轴拉伸、双     

聚酰亚胺薄膜表面导电金属层化学沉积技术研究

为赋予聚酰亚胺(Polyimide, PI)薄膜材料表面良好的导电性,满足其在雷达天线等航空、航天领域的应用,采用化学碱蚀法对表面具有极高化学惰性的PI薄膜进行界面微纳改性处理,并结合化学镀铜沉积技术,实现了PI薄膜表面导电金属层的制备。利用SEM、XRD、AFM、FTIR等对聚酰亚胺薄膜表面改性前后的微观结构和表面金属层性能进行表征。常温化学碱蚀后的PI薄膜表面呈现出树枝状与铆钉状微观结构交错均匀分布的凸起结构形貌,60℃碱蚀后的PI薄膜表面呈现出微小凹坑特征,且碱蚀后PI薄膜表面亲水性明显增强。PI薄膜表面金属镀层均匀致密,导电性良好,且镀层与PI薄膜基材之间具有良好的结合力。碱蚀改性后PI薄膜表面呈现出相互交错的微观凸起亲水性结构,为PI薄膜表面金属层的成核、结晶提供良好的沉积与互嵌结合点,形成PI薄膜表面金属层与基材之间良好的界面互锁,从而有利于提高表面镀层结合强度。本工作实现了化学碱蚀作用下聚酰亚胺薄膜表面高导电、高结合强度金属层的制备,可为聚酰亚胺薄膜在雷达天线等航空、航天领域的应用提供技术支撑。     

低磁不锈钢表面处理工艺及防护涂层体系设计研究

研究了不同表面处理工艺对低磁不锈钢基材自身耐蚀性能及涂层附着性能的影响,通过电化学阻抗及耐阴极剥离性测试确定了适用于低磁不锈钢表面的防护涂层体系。研究结果表明,以棕刚玉为喷砂磨料对基材进行喷砂处理,不仅可以提高基材表面粗糙度,满足涂层高附着需求,同时可降低基材表面残留粒料对基材引起的电化学腐蚀。以环氧锌黄为底层的防护涂层体系,可在不锈钢表面形成一层致密氧化膜,极大限度的阻止膜下扩蚀,使涂层的耐腐蚀性数倍增加。     

偏压对ITO薄膜生长模式和光电性能的影响

为明确溅射偏压对ITO薄膜性质的影响,用射频磁控溅射法于室温在玻璃衬底制备出ITO透明导电薄膜,研究了不同偏压下ITO薄膜的生长模式、光学和电学性能.结果表明:随着偏压的增加,薄膜沉积模式经历了沉积、沉积和扩散、表面脱附3种方式;AFM和SEM显示,偏压为100 V时,膜层表面光洁、均匀,粗糙度最小,均方根粗糙度为1.61 nm;XRD分析表明偏压会影响与薄膜的择优取向,偏压为100 V时,薄膜晶粒取向为(222)面;薄膜偏压为120 V时,薄膜的光电性能最佳,电阻率最低为2.59×10-4Ω.cm,可见光区的平均透过率在85%以上;偏压的大小使薄膜的吸收边发生了"蓝移"或"红移".     

碱蚀液浓度对纯铝表面二次浸锌的影响

二次浸Zn是Al材电镀的前处理工艺。Al材碱蚀不当,将对浸Zn乃至后续的电镀过程产生十分不利的影响。研究了在不同浓度NaOH碱蚀液中碱蚀粗化后的纯Al基材及随后二次浸Zn层的表面形貌,并考察了Al材表面电镀Cu层的质量。结果表明,当碱蚀液浓度20g/L,浸渍时间1min时,Al基材表面形成大而深的腐蚀坑,Al基材晶界处腐蚀尤其严重,浸Zn层难以将这些腐蚀坑覆盖。而当碱蚀液浓度5g/L时,在相同的浸渍时间下,Al基材表面粗糙度适中,无大而深的腐蚀坑,浸Zn层覆盖率高达95%以上,其表面电镀Cu层的质量良好。     

可调的透明导电膜研究进展

简述了透明导电薄膜材料，特别是对目前研究比较活跃的透明导电氧化物（TCO）及金属基复合透明导电多层膜的发展现况和趋势：同时从选材、膜层设计、制备方法到工艺制定，研究透明导电膜光电性能诸多影响因素和规律，探讨D／M／D多层膜的微观结构与其光电性能的内在联系，以及多层膜的热稳定性和界面反应等问题，并采用电介质TiO2与金属Ag交替生成TiO2／Ag／TiO2三明治结构制备了几种具有优异光电性能的透明导电膜。经优化设计的纳米多层膜具有奇特的光电性能可调性，根据需要，用于平面显示器透明电极，太阳能电池板等的在可见光区具有高的透过率（T550≥90％）和在红外光区高的反射率（R2500≥90％），其方块电阻仅为5Ω／sq；而用于紫外固化的则在紫外固化的主峰365nm处具有高的透射率（T365≥80％），而在1600nm的红外波段反射率也超过了90％。     

氩等离子体预处理对纳米结构银非织造布抗菌性能的影响

采用磁控溅射技术,在丙纶非织造布(PP)基材表面沉积厚度为0.5～3 nm的纳米结构银薄膜,重点研究了PP基材经氩等离子体预处理前后对纳米结构银薄膜抗菌性能的影响.采用振荡烧瓶法测试样品的抗菌性能,利用原子力显微镜(AFM)观察氩等离子处理前后PP基材表面的形态变化,同时应用EDX对纳米结构银薄膜进行元素分布及定量分析.实验结果表明:在纳米结构银薄膜厚度相同的条件下,经氩等离子预处理的丙纶非织造布具有更好的抗菌性能;AFM分析表明,经氩等离子处理后的纤维表面有明显的刻蚀痕迹,纤维表面凹凸不平,形成很多微小的空隙,溅射出的银粒子不易团聚,活性增加,抗菌性能因此提高;而EDX结果分析表明,抗菌性能提高是由于经氩等离子处理后,银离子溶出总量增加的缘故.     

可调的透明导电膜研究进展

简述了透明导电薄膜材料,特别是对目前研究比较活跃的透明导电氧化物（TCO）及金属基复合透明导电多层膜的发展现状和趋势;同时从选材、膜层设计、制备方法到工艺制定,研究透明导电膜光电性能诸多影响因素和规律,探讨D／M／D多层膜的微观结构与其光电性能的内在联系,以及多层膜的热稳定性和界面反应等问题,并采用电介质TiO2与金属Ag交替生成TiO2／Ag／TiO2三明治结构制备了几种具有优异光电性能的透明导电膜。经优化设计的纳米多层膜具有奇特的光电性能可调性,根据需要,用于平面显示器透明电极、太阳能电池板等的在可见光区具有高的透过率（T550≥90％）和在红外光区高的反射率（R2500≥90％）,其方块电阻仅为～5Ω／sq;而用于紫外固化的则在紫外固化的主峰365 nm处具有高的透射率（T365≥80％）,而在1600 nm的红外波段反射率也超过了90％。     

快速热氧化制备超薄二氧化硅层及其钝化效果

二氧化硅(SiO2)是制备高效晶体硅太阳电池常用的钝化手段。本文利用快速热氧化(RTO)技术在晶体硅表面制备超薄SiO2层,考察其对硅表面的钝化作用。在100%O2气氛下,900℃RTO处理180s,可以使样品的少子寿命达到146.6μs的最佳值。采用RTO方法制备的SiO2薄膜厚度可以控制在几个纳米范围。通过与等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统沉积的氮化硅(SiNx)薄膜形成叠层钝化膜,可以进一步提高对太阳电池表面的钝化效果。单层SiNX薄膜钝化的样品有效载流子寿命为51.67μs,SiO2/SiNx叠层薄膜钝化的样品有效载流子寿命提高到151.18μs。     

压敏粘合气泡薄膜

英国 Grade Plastics 公司生产了一种新的、牌名为 Elpeflex Contact 的气泡薄膜。这是该公司对其 LPM 气泡薄膜类的一个发展。这家公司认为 Elpeflex Contact 比一般的气泡薄膜进了一大步。Elpeflex 类 LP 气泡薄膜含有两层复合在一起的薄膜。当两层粘合时,空气进入预先成型的气泡内,从而使薄膜产生一种缓冲效果。Elpeflex Contact 保留了一般气泡薄膜     

用作复合材料的白色导电材料

导电材料与绝缘高分子材料复合而成的导电高分子材料,已得到广泛应用。但目前使用的导电材料存在着带有颜色、对高分子的补强作用差、难以加工等缺点,限制了它的应用范围。为此,日本生产开发科学研究所受大塚化学公司的委托,正在研制一种以纤维状钛酸钾为基体的新型材料——白色导电材料。这种白色导电材料是在色度洁白、耐热性能好的纤维状钛酸钾表面上,均匀且牢固地被覆一层透明的具有导电性能的金属氧化物。该产品与高分子材料复合后,可提高高分子材料的强度、表面光滑度、改善耐热、绝热和抗磨性能,降低材料的形变,且使材料易于加工。作为基材的纤维状钛酸钾,纤维直径为0.2～0.5μm,纤维长10～100μm,比表面