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相似文献
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专利实例     
专利实例铝及其合金表面处理八则96501铝的着色本专利介绍在铝工件上生成一层稳定的着色氧化层的工艺。采用有机颜料或炭黑(3~150nm)的分散水溶液,以高电压阳极化,在Al上形成阳极化氧化膜。或者,将工件浸在磷酸、硫酸或氨基磺酸或它们的混合物中,进行...  相似文献   

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专利实例     
电抛光溶液两则 2 0 0 4 30 1  不锈钢电抛光溶液该电抛光溶液组成为:40 %~80 %的硫酸和磷酸;1 0 %~30 %蛋白质以及含蛋白质化合物3~1 0 0g/L;该溶液中还含有糖类和类脂类。糖类与蛋白质的质量比为0 .1以上。该溶液价格低廉,用于不锈钢表面的电解液抛光,可以大大改善不锈钢表面的粗糙度。(日本专利) 2 0 0 0 0 2 70 0 0 - A ( 2 0 0 0 - 0 1 - 2 5 )2 0 0 4 30 2   不锈钢和镍合金电抛光溶液发明了一种适合于抛光不锈钢和镍合金的电解液。该电抛光溶液系一种混合物,其组成为:乙醇酸1 5 2~5 38g/kg;硝酸1 70~5 68g/kg;水2 80~678g…  相似文献   

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专利实例     
铝及其合金表面处理两则 2 0 0 330 1  铝合金表面阳极氧化后稀土盐封闭铝或铝合金表面阳极氧化后于 Ce或 Y稀土盐稀溶液中封闭 ,可以提高其耐蚀性和与油漆涂料的附着力。该封闭工艺为 :Ce盐或 Y盐 (特别是硝酸盐或硫酸盐 ) 1 0~ 35 0 mmol/L,温度为 60~ 1 0 0℃ ,p H值为 3.0~ 9.0。(美国专利 ) US 62 4 81 84( 2 0 0 1 - 0 6- 1 9)2 0 0 330 2    铝及其合金的表面处理该发明涉及的铝及其合金表面处理包括 :首先将铝及其合金零件进行阳极氧化以形成氧化层 ,然后在其上形成 Si O2 膜层。此 Si O2 膜层系由在阳极氧化膜层上涂…  相似文献   

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专利实例     
电镀镍及其合金两则 2 0 0 35 0 1 无硼酸镀镍电解液一种无硼酸的镀镍电解液组成如下 :Ni SO4·6H2 O 2 0 0~ 360 g/L;Ni Cl2 · 6H2 O 30~ 90 g/L;Ni3 ( C6H5O7) 2 · 1 4H2 O2 4~ 42 g/L;C6H8O7· H2 O1 2~ 2 1 g/L;以水为溶剂。溶液的 p H值为 3~ 5。(日本专利 ) JP2 0 0 1 1 72 790 - A2 ( 2 0 0 1 - 0 6- 2 6)2 0 0 35 0 2   保护性 Ni- W合金镀层电解液提出了获得高耐蚀性 Ni- W合金镀层的方法和电解液。电解液组成和工艺条件如下 :硫酸镍 2 5~35 g/L;氯化镍 3~ 5 g/L;钨酸钠 8~ 5 0 g/L;柠檬酸钠 2 5~ 1 5…  相似文献   

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专利实例     
电镀锡及其合金两则 2 0 0 1 5 0 1 Sn- Bi合金镀层制造方法发明了一种 Sn- Bi合金镀层的制造方法。该方法包括以下几个步骤 ,首先在基体上电镀一层金属Bi,然后在 Bi镀层上电镀一层金属 Sn,Sn镀层的厚度为 Bi镀层厚度的 1 .5倍。最后进行两种镀层的重熔。用这种方法所获得的 Sn- Bi合金镀层具有优良的质量和很好的焊接性能。所使用的电镀液中不含螯合剂。该镀层可用于接头 ,引线头与导线、线路板等。(日本专利 ) JP1 1 2 79789- A( 1 999- 1 0 - 1 2 )2 0 0 1 5 0 2 电镀锡或锡 -铅合金镀液发明了一种新的电镀锡或锡 -铅合金镀液。镀…  相似文献   

6.
专利实例     
改善铝表面可焊性的处理方法;镁合金的表面处理;带膜层厚度监测器的阳极氧化系统;电镀废水中重金属的处理方法;一种金-锡合金电镀液;一种非晶态金-镍合金电镀液。  相似文献   

7.
专利实例     
三价铬电解液镀铬两则20081001一种三价铬镀液镀硬铬的方法该发明涉及沉积耐磨耐腐蚀硬铬镀层的一种方法。该方法以一种阴离子选择性膜将电镀槽中间隔开,分成阴极液区和阳极液区。阴极液主要由至少一种三价铬化合物和至少一种稳定两价铬离子的化合物所组成。三价铬盐可由铬铵矾  相似文献   

8.
专利实例     
光亮镀锌溶液一种碱性镀锌溶液是从一种多元季胺盐化合物和一种芳香醛或它的酸式亚硫酸盐作为光亮剂体系。典型的溶液配方如下: 锌 6克/升氢氧化钠 80克/升 1M三乙撑四胺与3MN—(3—溴基—2—羟丙基—三甲基溴化铵1克/升酸式亚硫酸茴香醛 0.1克/升在温度25℃,电流密度高达5安/分米~2  相似文献   

9.
专利实例     
无氰光亮镀锌溶液一种无氰光亮镀锌溶液中含有氧化锌8—20g/l,,氢氧化钠150—270g/l,聚乙烯聚胺,1.5—2.0g/l和偶氮甲碱0.1—5.0g/l。偶氮甲碱能够扩大电流密度范围。它的成份为:R—C_6H_5—CH:N|CH_2CH_2·OH,其中R=H,OH,CH_3或N(CH_3)_2  相似文献   

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专利实例     
电镀镍及镍合金两则99501金属表面电镀非反光性镍发明了在金属基体表面电镀非反光性镍镀层的工艺。所使用的电解液有瓦特型、氨基磺酸盐型、磺酸盐型或氟硼酸盐型,并添加(A)常规光亮剂和(B)乙烯氧化物的取代物(或非取代物)或丙烯氧化物的取代物(或非取代物)或乙烯氧化物和丙烯氧化物的加成产物,其浓度为5mg/L,用以产生非反光效应。镀液温度为40~75℃,镀液清澈透明,透过光无散射。该镀液可获得无反光性的镍镀层,重现性好。(德国专利)DE19540011(19980910)99502电镀镍钨合金…  相似文献   

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12.
专利实例     
  相似文献   

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专利实例     
铝阳极氧化膜的着色日本持开昭63-216996(1988.9.9).铝或铝合金经阳极氧化生成氧化膜后,在用有色染料着色前浸入含有0.1~0.3重量%表面活性剂的硝酸和硫酸溶液中处理.例如,在着色前,将氧化膜浸入含0.2重量%表面活性剂的40%HNO,溶液中,在室温保持5~10s,然后浸入含0.2重盆%表面活性剂1.5%H_2SO_4的溶液中,在35~40℃保持3min以便获得不褪色的氧化膜.用于改善氧化铝着色层的耐晒性.  相似文献   

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专利实例     
镀前处理五则97301铜的化学机械抛光本专利介绍具有多层金属层的铜的化学抛光所采用的抛光液。该抛光液为悬浮固体的稀浆,其组成为AgNO32%~15%(体积),H2O2,H2O。美国专利US5354490(1993.3)97302催化处理溶液本专利介绍一种以Pd作为催化剂加到基体表面的工艺。该溶液含有Pd2+离子和有机络合剂(含-COOH基和-OH基)而不含还原剂。将基体与该溶液接触后,以一定波长的光辐射,产生离子的光还原,从而将Pd金属涂覆于基体上。美国专利US5400656(1993.12)97303电镀前塑料表面的处理本专利介绍在塑料表面上进行电镀前的预…  相似文献   

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专利实例     
<正>电子电镀四则2010901印刷电路板的孔加厚电镀方法该专利揭示了印刷电路板孔加厚的方法,该方法为:干燥已打过孔的印刷电路板,在该电路板上除了孔以外的其它表面上涂覆绝缘层并干燥之,确定孔电镀的电流密度并计算电镀这些孔所需的电流,进行孔加厚电镀的操作,清除高出印刷电路板表面的部分,清理已获得孔加厚的印刷电路板,对该电路板印制电路图案。  相似文献   

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专利实例     
非导体的表面金属化在非导体表面进行选择性镀铜的方法,包括以下步骤:①、产生一有粗糙表面的薄铜片;②、把薄铜片的粗糙表面对着非异体基体表面,使之压合在一起;③、将所有的铜腐蚀掉;④用含有多功能  相似文献   

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专利实例     
非金属表面抛光的方法包括:清洗;室温下处理——处理液为1.O~5.6×10~(-3)mol/L氯化钯,O.6~2.0×10~(-3)mol/L 1.2-环氧丙氧基丙基三乙氧基甲硅烷,3~10×10~(-3)mol/L醋酸,O.4~1.0×10~-3mol/L非离子型湿润剂;热处理——200±20℃,10~30min。采用该法,可提高被抛光表面与金属化层的粘接性能。  相似文献   

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专利实例     
铝表面处理五则95501 铝的表面处理本专利介绍铝表面的抗腐蚀表面处理工艺:(a)将铝与铈的非卤化物水溶液接触,pH4~7,温度≥80℃,时间≥1h;(b)将铝与卤化铈水溶液接触,温度≥80℃,时间≥1h;(c)将铝与含Mo的水溶液接触,其表面形成一层带正电荷的徐层.美国专利 US 5194138 (1990.7)95502 铝和铝合金的阳极化溶液本专利介绍阳极化铝和铝合金所用溶液.该溶液含:180~200g/L H_2SO_4,0.5~10.0g/LCeSO_4.采用该溶液阳极化,可提高膜层的抗蚀性能和击穿电阻.前苏联专利 SU 1819916 (1990.11)  相似文献   

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专利实例     
专利实例磷化五则96601钢零件的磷化处理磷化处理钢制零件,可提高其防腐蚀性能和耐磨性能。预处理液中含有S,经可逆热扩散后,工件表面每1000个原子中含有≥150个游离Fe原子和5~150个S原子。预处理后实际表面积与可见表面积之比为20~40。预处...  相似文献   

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专利实例     
镀(涂)前处理四则 95401 金属零件涂覆油漆前的表面处理 方法 本专利介绍金属零件在涂覆油漆涂层之前进行化学处理的方法。处理液为水溶液,含有六价Cr和二羧酸。首先热处理,接着冷处理。热处理工艺分三步:90~110C,3~4min;230~240C,3~4min;200~280C,0.1~2.0min。冷处理温度为55~70C。  相似文献   

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