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SiC薄膜制备工艺进展 总被引:2,自引:0,他引:2
本文综述了SiC薄膜的制备工艺及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种SiC薄膜的制备方法,简单阐述了各种工艺对薄膜性能的影响,评述了各种制备工艺的优缺点。 相似文献
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介绍了一种采用DECR等离子体在低温下制备高质量SiO2薄膜的PECVD工艺。讨论了DECRPECVD工艺中气相O/Si原子比以及沉积速率对SiO2薄膜性能的影响。采用包括高能离子分析,椭扁仪,化学刻蚀以及红外吸收谱等物理和化学方法,对所镀SiO2薄膜的各种理化特性地分析和研究。 相似文献
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采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-PECVD)技术制备了Si3N4薄膜。利用显微硬度计测定了Si3N4薄膜的表面微硬度。由摩擦测试机对SiN4薄膜的摩擦性能进行了测试分析。结果表明,Si3N4薄膜的摩擦系数和单位时间的磨损量较小,该膜具有良好的耐磨性和耐划伤能力。 相似文献
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平面光波导膜的ECR—PECVD制备及特性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积技术,在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的SiO2薄膜研究了沉积速率与工艺参数之间的,并对身频偏置对成膜特性的影响作了初步实验研究。通过X射线光电子能谱、傅立叶变换红外光谱、扫描电镜、原子力显微镜、以及扫措隧道显微镜三维形貌和椭偏仪等测量手段,分析了样品的薄膜结构和光学特性等。结果表明,在较低温度下沉积出均匀致密、性能优良的SiO2薄膜。此外,还成功制备 相似文献
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在等离子体化学气相沉积系统(PECVD)中,使用高氢稀释硅烷(SiH4)加乙烯(C2H4)为反应气氛制备了纳米硅碳(nc-SiCx^2H)薄膜,随着(C2H4+SiH4)/H2(Xg)从5%时,由于H蚀刻效应的减弱,薄膜的晶态率从48%下降到8%,平均晶粒尺寸在3.5-10nm。当Xg≥6%时,生成薄膜为非晶硅碳(a-SiCx^2H)薄膜。nc-SiCx^2H薄膜的电学性质具有与薄膜的晶态率紧密相 相似文献
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本文以四氯化钛(TiCl4)和硅烷(SiH4)为源物质,采用等离子增强化学气相淀积(PECVD)工艺结合常规热退火制备了优良的TiSi2薄膜。研究了淀积和退火条件对薄膜性质的影响。用四探针检测了退火前后薄膜的薄层电阻,用俄歇电子能谱(AES)和X射线衍射分析了薄膜的化学组成和晶体结构。 相似文献
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以硅烷和乙烯的混合气体的原料气,通过常压化学气相沉积方法在玻璃衬底上生长出了硅薄膜。结合光电子能谱、高分辨电镜以及薄膜抗腐蚀性研究,证实乙烯的引入使硅薄膜中形成一定数量的SiC微晶粒。SiC较高的化学稳定性使薄膜具有较强的耐碱性,而其较小的折射率使薄膜的镜面反射率较高低。含有SiC的硅薄膜经碱液适当腐蚀后能降低镜面反射,进而有可能减少光污染现象。 相似文献
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用等离子体化学气相沉积(PCVD)制备掺杂和本片的a-Si:H薄膜,用固相晶化法制备多晶硅薄膜。通过X射线衍射分析多晶硅的晶粒大小与a-Si:H的沉积条件及退火条件的关系,测量了子多晶硅薄膜的室温暗电导率和光能隙,讨论了影响暗导导率和光能隙的因素。 相似文献
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MPCVD合成β—C3N4晶态薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),以N2,CH4作为反应气体合成碳氢膜。通过控制反应温度,气体流量,微波功率,反应气压等工艺条件在Si和Pt基片上,进行β-C3N4晶态薄膜的合成研究。扫描电镜下观察到生长在Si基底上的薄膜晶有六角晶棒的密排结构。扫描隧道显微镜下观察到在Pg基底上生长的碳氮薄膜由针状晶粒组成。 相似文献
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热结构复合材料的低成本制备(高效、低成本、快速制备C/C、C-SiC系列热结构复合材料) 总被引:5,自引:0,他引:5
介绍了化学气相渗C/C材料在国内外的发展状况,指出落后的工艺技术阻碍了我国C/C产业的发展。金属所发明的化学气相渗新技术-HCVI能低成本快速制备C/C、C-SiC系列热结构复合材料。该方法是在热梯度法基础上,利用电磁耦合原理使反应气体中间产物在变电磁场作用下更加活泼、碰撞几率增多,从而增加了沉积速率。试验证明采用这种新工艺制备了这种新工艺制备C/C材料沉积速率提高了30~50倍,该方法特别适合制 相似文献
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用离子束溅射法制备了具有反常光吸收特性的纳米颗粒Cu/SiO2复合薄膜,获得了在离子束参数一定时,基片温度、膜料的沉积时间和镀膜后的保温时间等工艺参数对这种薄膜结构和光学特性的影响规律,并对纳米颗粒Cu/SiO2复合薄膜的反常光吸收特性作了计算和解释。 相似文献
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反应溅射Si-C-N薄膜的结构分析 总被引:5,自引:1,他引:4
本文用射频反应磁控溅射制备了SiCN薄膜,对薄膜的化学成分、结构进行了研究。结果表明,反应气体N2、Si、C三者之间形成了Si-C,Si-N和C-N键,构成了复杂的网络结构。成分分析表明薄膜的化学计量式近似为SiCN。对比分析了反应应溅射制备SiCN、CNx、SiNy、SiCx薄膜的FTIR谱。 相似文献
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置于直流等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)装置的阴极或阳极的20、20Cr、GCr15及2Cr13钢,以及单晶硅材料的试样均可沉积获得以Si2N4成为主要成分的非晶态的绝缘薄膜。这种膜有一定制作条件,讨论了阴阳极上试样都能获得这种膜的原因。 相似文献
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以N2,CH4作为反应气体,采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)进行碳氮膜的合成研究。通过控制反应温度、气体流量、微波功率、反应气压,在Si(111)和Si(100)基底上气相合成β-C3N4晶态薄膜。扫描电子显微镜(SERM)下观察到生长在Si基底上的薄膜具有六角晶棒的密结构。EDX分析胡沉积条件的不同,六角晶棒中N/C在1.0~2.0之间。X射线衍射分析(XRD)发现薄膜中含有β-C3 相似文献
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化学气相淀积制备Si3N4超细粉末 总被引:3,自引:0,他引:3
本文研究了SiCl4-NH3-N2-H2系统平衡热力学,确定了Si3N4合成的最佳热力学条件。采用电阻炉化学气相淀积法制备了Si3N4超细粉末,并考察了工艺条件对颗粒形貌的影响。 相似文献
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本文研究了应用新型的超高真空等离子增强化学了相沉积(VHV-PECVD)复合腔系统 只a-Si1-xCx:Hk薄膜及其特性。系统的真空度可达10^-7Pa(10^-9Torr)以上。通过控制H2对常规用混合气体(SiH4+CH4)的稀释程度以及相应的CH4比例,优化沉积工艺参数,制备出能带宽度范围变化较大的高质量非晶氢化硅碳(a-Si1-xCs:Hk)薄膜,通过RBS、ERDA、IT和Ramam光 相似文献