焊缝位置对拼焊板拉伸行为影响的解析预测

分别定义综合伸长率和焊缝移动量来量化拼焊板单向拉伸行为.在不同焊缝初始位置条件下,分别建立了焊缝位置对综合伸长率和焊缝移动量影响的解析模型.为验证解析模型的正确性,采用有限元和实验法获得了焊缝位置对综合伸长率和焊缝移动的影响规律.结果表明,解析模型预测结果与实验、有限元结果相一致,综合伸长率和焊缝移动量都随着焊缝位置向...     

图像处理在晶圆瑕疵自动标记系统中的应用

针对传统晶圆测试手工标记瑕疵的不足,提出了应用机器视觉技术进行晶圆瑕疵的自动标记.首先,对晶圆图像进行预处理,提取晶圆边缘图像;其次,利用最小二乘法检测晶圆的直径.在此基础上通过坐标变换获得晶圆瑕疵的坐标,将其传递给探针台,由探针台自动将有瑕疵的晶圆剔除.最后,通过实验验证了该方法的实用性与有效性.     

TFT光刻平面倾斜对光刻图形的影响及改善

薄膜晶体管光刻制程中,光刻胶光刻平面位置是决定光刻图形质量的关键因素。为了在光刻机最小分辨率条件下改善光刻图形质量,本文从光刻胶内反射光线的反射特点出发,以减小光刻胶内反射光线对非光刻区域的光刻光强及增加光刻区域的光刻胶底部光刻光强为基础,推导出光刻光线倾斜入射光刻胶平面时,光刻胶光刻平面位置调整量的计算公式,并以该公式计算出的调整量对光刻胶光刻平面进行调整。结果表明：对于最小分辨率为3.0 μm的投影光刻机,进行线间距为2.2 μm的产品光刻时,以该公式计算出的调整量对光刻胶光刻平面调整后,较未调整前,光刻图形坡度角提升了13.3%,光刻胶线宽或线间距宽度(DICD)均一性改善了14.7%,光刻图形光刻胶残留得到解决。     

基于模糊理论的半导体制造系统时变多目标生产调度研究

针对半导体晶圆制造系统(SWFS)调度中的多目标优化和目标时变性问题,提出了一种时变多目标(TVMO)调度算法.基于模糊理论研究了时变模糊集合与多目标重要程度的复杂非线性量化关系,进而研究了SWDS的优化调度方法.所提出的方法兼顾最大产品交期率、最大生产移动量和瓶颈机台最大产能利用率三个目标,根据时变目标权重计算出在制品的加工优先权序列号.大量的仿真实验数据证明,该调度算法能够改善系统多个绩效目标,可为大规模复杂重入型制造系统的科学生产控制与调度提供有效支持.     

晶圆预对准精确定位算法

针对IC制造工艺中传统的晶圆预对准控制系统预对准精度不高和占用空间较大的不足,提出了一种采用高精度激光位移传感器和低成本的透射式激光传感器的新型晶圆预对准系统,并结合该系统的特点提出了相应的晶圆预对准精确对位算法,而且进行了晶圆预对准重复性精度检测和实验验证.该系统用两种传感器数据融合的方式来检测晶圆的边缘,用质点系重心法确定晶圆形心和缺口位置,最终实现了微米级的晶圆预对准.该系统提高了对准算法的精度,减小了预对准台占用的实际空间,降低了成本.实验结果验证了该系统的有效性.     

基于AHP和规则的多目标晶圆制造派工方法的应用

针对半导体晶圆制造系统调度的时变多目标特性,提出基于AHP和规则的多目标派工方法,在不同时期,赋予各调度目标不同的权重,通过仿真实验得到判断矩阵,然后用层次分析法来选择各设备的派工规则,并进行了敏感性分析,为半导体晶圆制造系统的科学管理提供了有效的实现途径.     

基于高精度测微仪的晶圆预对准方法

现有的基于高精度测微仪的预对准方法需交换晶圆才能够完成操作.为提高其效率,介绍了一种无需晶圆交换的预对准方法.该方法采用缺口定向先于圆心定位的预对准顺序,通过一维旋转和二维直线平移完成晶圆的定位.另外,还给出了该方法重复定位晶圆圆心和缺口的误差表达式.针对线性最小二乘圆拟合算法进行晶圆缺口拟合时计算精度不易保证的问题,提出了一种非线性晶圆缺口拟合算法,即利用Levenberg-Marquardt算法直接求解缺口边缘拟合问题.精度测试结果表明,该算法的计算误差近似为现有缺口拟合算法误差的1/2.     

基于ARMA（1，1）过程的需求预测方法

采用移动平均法预测前置期L内的需求,推导了基于ARMA(1,1)需求过程下,零售商牛鞭效应的计算方程和大小,并讨论了方程参数对牛鞭效应的影响.通过系统动力学仿真法,在频域内研究了3种方法的系统响应曲线,得出采用移动平均法预测前置期内需求,能够很好减少牛鞭效应.     

面向未来需求的细间距电化学沉积金凸点工艺

研究了电化学沉积金凸点的晶圆级直径和厚度分布及表面粗糙度随电镀电流密度和镀槽温度的变化.电化学沉积的金凸点在整个晶圆上的各个位置和方向上直径都增大了.当在40℃下电镀时,金凸点的直径分布与光刻胶的分布规律相似;而电镀温度为60℃时,金凸点的直径分布更倾向于对称分布.其次,当镀槽温度从40℃提高到60℃或者电镀电流密度从8 mA/cm2降低到3mA/cm2时,金凸点的厚度分布更加均匀.再次,60℃下电镀的金凸点表面粗糙度为130到160纳米并与电镀电流密度无关,但是在40℃下电镀时,表面粗糙度随着电镀电流密度的增加从82 nm急剧增加到1572 nm.     

采用CONWIP投料系统的晶圆制造交货期设置方法

交货期设置是晶圆制造车间控制的重要任务之一.根据统计分析和排队理论提出3层结构交货期设置模型预测交货期.采用固定在制品(Constant WIP,CONWIP)投料保持系统在制品恒定和物料流程稳定,提出最大积聚未投放量法确定物料投放时间,采用基于模拟的等待时间分布估计等待时间.实例表明,该模型简单有效,提高了交货期预测的准确性.     

组合预测分析方法及其在物资运输管理中的应用

在物流管理中运输问题非常重要,物资要实现实体转移,都需要通过运输来实现;而要达到运输费用的最小,必须使物资的需求具有前瞻性.根据现代经济学中的预测方法,结合企业物资历年实际需求情况,运用时间序列的趋势移动平均法、自适应滤波预测法、灰色预测法,利用层次分析法确定相应的权重后对未来物资需求进行组合预测,并应用于物资运输管理中,使运输费用达到最小,从而使运输管理更具有现实性及可操作性.     

电子材料

全球晶圆产能2011年增长预期保守据报道,根据SEMI发布的最新全球晶圆厂预测(WorldFabForecast),预估全球晶圆产能在2010年和2011年将分别有8%的成长,而2012年将成长9%。相较于2003-2007年的每年两位数成长,SEMI对2011-2012年的预估相对审慎保守。     

微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺

研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响.研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题.     

GM(1,N)模型进行钢材腐蚀速度预测及腐蚀因素敏感性分析

特定钢不同环境下的腐蚀速度预测极为复杂.应用灰色系统理论建立钢材腐蚀速度预测及腐蚀因素敏感性分析的GM(1,N)模型(Glay Model),突破了神经网络方法需要多个样本才能预测的局限.通过计算驱动系数来判断腐蚀因素对腐蚀速度的影响,并提出了选取关键因素进行GM(1,N)建模的方法,在保证精度的情况下,减少了计算量.2个实例分析结果证明,该模型能够准确预测钢材的腐蚀速度,并能正确地判断腐蚀因素对腐蚀速度影响的程度和极性,为钢材腐蚀速度的预测及腐蚀因素的敏感性分析提供了新方法.     

基于多尺度估计理论的晶圆减薄工艺方差变化检测方法

晶圆减薄工艺是伴随芯片堆叠技术的发展而出现的新制造过程,其制造质量直接关系最终产品成品率。文章以堆叠芯片晶圆减薄工艺质量参数为研究对象,拟建立监控晶圆减薄工艺质量的完整方法。首先,以该道生产工序质量参数序列建立自回归滑动平均模型,用于表达该道生产工序的质量特征变化。然后,在此模型的基础上,使用多尺度估计理论对该模型进行滤波分解处理,获得质量参数时间序列的高频信号,提取该道质量变异的方差变化。最终,使用统计学上的累积和控制图对质量变异信号进行诊断分析,根据工序方差变化的起始位置,提前发现系统可能存在的质量变坏趋势。经试验数据验证,相比传统的检验方法,该方法有95%的概率可以提前预测产品质量发生变化。     

用拟合公式预测商用屋顶单冷机系统制冷剂充注量

为了准确预测制冷机组内制冷剂的充注量来控制机组缺制冷剂报警动作点,做到及时保护机组,减少机组失效率,笔者采用收集测试数据,分析系统参数和系统充注量的相关性,建立充注量预测公式的方法来预测系统内的充注量。经试验数据验证,该方法可以满足在机组全运行工况下都能较准确地预测系统充注量。本文涉及的拟合公式主要在商用单冷屋顶机上开发和应用,相同的方法也可以应用于其他制冷机组中。     

双光谱法实现光刻工艺中的胶厚检测

提出了一种光刻胶厚度测量方法,即双光谱法.采用AZ4620正型光刻胶甩胶于平面玻璃基片,以椭偏仪测量的结果为基准.通过双光谱法的测量,检测经过基片的出射光相对入射光强度的变化,达到测量胶厚的目的,结果偏差在2%以内.与传统的膜厚检测方法相比,有计算方法简便,可操作性强等优点.针对光刻胶有曝光的特性,双光谱法更适合于胶厚检测.     

基于改进隐马尔科夫的城市垃圾量峰值预测方法

城市固体垃圾管理与城市发展的矛盾日益突出,固体垃圾量峰值的预测能力是检验城市垃圾管理水平的重要标志.传统预测方法大多利用平均值概念,不能有效地衡量数据动态变化和对峰值进行动态跟踪.基于此,提出一种改进的基于混合高斯分布的隐马尔科夫模型(GMM-HMM),用以动态跟踪城市垃圾量峰值.以小样本的上海市近30年固体垃圾量和大样本的城市废水量为案例,分别采用状态转移推知预测期望值和通过后验概率搜索历史最相似时刻做预测,并利用bootstrapping重采样方法对结果进行区间修正以减少初始分布带来的不确定性.案例结果验证了所提出方法的有效性和实用性.     

基于时间序列方法集的某省成品油供需预测

对能源供需进行科学、准确的预测,对我国能源战略决策具有重要意义。根据某省石油供需量近10年来的数据,利用水晶球预测软件计算统计误差,并进行相关统计检验,根据计算与检验结果,从时间序列方法集中,确定了双指数平滑为本预测的最佳方法。据此,计算出未来五年内某省的成品石油需求量,为延长石油能源开发的可持续发展战略提供有力参考。     

O2/SF6气氛下光刻胶灰化反应的机理研究

光刻胶的大面积灰化是TFT工艺的核心工艺之一,本文研究了在增强型电容耦合射频放电模式下,SF6比例对光刻胶灰化率的影响,并建立表面反应模型对此进行解释.研究表明,纯O2气体中加入少量SF6,能够有效提高等离子中氧原子浓度和活化光刻胶的生成量,增大光刻胶灰化率.当SF6比例过高时,氟原子与氧原子形成化学吸附位竞争将导致光刻胶灰化率降低,而粒子间碰撞的加剧与溅射产率的下降使这一趋势愈加明显.