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一种基于空间光调制器的微透镜阵列制备技术 总被引:3,自引:0,他引:3
提出了一种基于空间光调制器的并行光刻制备微透镜阵列的技术。采用数字微反射镜器件输入光刻图形,结合热回流技术,制作任意结构和排布的微透镜阵列。无限远校正显微微缩光学系统的长焦深保证了深纹光刻的实现,热回流法提供了良好的表面光滑度。与传统逐层并行光刻和掩模曝光技术相比,提出的技术方案更加便捷灵活,特别适合制作特征尺寸在数微米至百微米的微透镜阵列器件。得到的微透镜阵列模版经过电铸转移为金属模具,利用紫外卷对卷纳米压印技术在柔性基底上制备微透镜阵列器件,在超薄液晶显示、有机发光二极管(OLED)照明等领域有广泛应用。 相似文献
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讨论了微小光学的发展和异形孔径(正方形和六角形)微透镜阵列的制作。自聚焦透镜的制作加速了微小光学的产生,微透镜阵列器件的应用,促使微小光学迅猛发展,异形孔径微透镜阵列的研制,开创了微小光学新的研究领域。重点对异形自聚焦透镜和异形孔径微透镜阵列的理论和实验研究工作进行讨论,给出了有益的结果。 相似文献
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提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的焦距可达到3861.70μm,而常规光刻热熔法很难制作出焦距超过200μm的相同尺寸的微透镜阵列.微透镜阵列器件与红外焦平面阵列器件在红外显微镜下对准胶合,显著改善了红外焦平面阵列器件的响应特性. 相似文献
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提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作。扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的焦距可达到3861.70um,而常规光刻热熔法很难制作出焦距超过200um的相同尺寸的微透镜阵列。微透镜阵列器件与红外焦平面阵列器件在红外显微镜下对准胶合,显著改善了红外焦平面阵列器件的响应特性。 相似文献
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提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作。扫描电子显微镜 ( SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列 ,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的焦距可达到 3 861.70 μm,而常规光刻热熔法很难制作出焦距超过 2 0 0μm的相同尺寸的微透镜阵列。微透镜阵列器件与红外焦平面阵列器件在红外显微镜下对准胶合 ,显著改善了红外焦平面阵列器件的响应特性 相似文献
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R. Vlkel H. P. Herzig Ph. Nussbaum W. Singer R. Dndliker W. B. Hugle 《Microelectronic Engineering》1996,30(1-4):107-110
Microlens lithography is a new lithographic method, that uses microlens arrays to image a lithographic mask onto a substrate layer. Microlens lithography provides photolithography at a moderate resolution for an almost unlimited area. The imaging system consists of stacked microlens arrays forming an array of micro-objectives. Each micro-objective images a small part of the mask pattern, the images overlap in the image plane. Potential applications for microlens lithography are the fabrication of large area flat panel displays (FPD), color filters, and micromechanics. 相似文献
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讨论了制作大面阵矩底拱面状微透镜阵列的工艺条件,给出了氩离子束刻蚀制作红外焦平面用面阵微透镜的离子束刻蚀速率的经验关系式,通过实验获得了光电材料几种常用的氩离子束刻蚀速率与氩离子束能量之间的关系曲线,用扫描电子显微镜测量了所制微透镜阵列的微结构形貌特征。 相似文献