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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１＿Ｊ型分步光刻机使用报告根据中电军基１９９１１２４号文（合同号９１０４Ｅ０１１），电子部第四十五所提供实用整机ＢＧ－１０１Ｊ投影光刻机，用于北京市半导体器件三厂完成国防科工委下达的军用大规模集成电路８０Ｃ８６系列器件开发（科工委１９９１计... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ—１０１Ｊ型分步光刻机鉴定会检测报告鉴定会检测组受鉴定委员会委托，ＢＧ—１０１Ｊ分步光刻机鉴定会检测组由五人组成，于１９９４年１２月９日至１２月１１日在北京市半导体器件三厂进行了紧张的检测工作，检测组首先根据电子部“军用电子专用设备科研试制合同书... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机实用化鉴定会检测大纲鉴定会检测组根据电子部“军用电子专用设备科研试制合同书”（合同号９１０４Ｅ０１１）对ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机实用化规定中的考核指标及验收标准，拟定如下检测大纲：一、实用分辨率１．技术指标１２５μｍ２．检... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机实用化研究技术总结报告电子工业部第４５研究所周得时概况１．研制目的及任务来源北京半导体器件三厂承担了国防科工委和机电部下达的８０Ｃ８６系列１６位微机电路的中试和批量生产攻关任务，用接触式光刻机完成了８２Ｃ８２、８２Ｃ８４等一... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ—１０１Ｊ型分步光刻机实用化成果鉴定会概况ＢＧ—１０１Ｊ分好重复投影光刻机实用化是国防科工委和电子部下达的“八五”重点型谱攻关项目，其主要内容是采用电子工业部第四十五研究所研制的分步投影光刻机制做ＬＣ８０Ｃ８６系列军用微机电路。项目从１９９１年８... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
鉴定委员会对ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机的鉴定意见ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机实用化是国防科工委和电子工业部下达的“八五”重点型谱攻关课题。课题以适度的设备精度、稳定可靠和实用为主攻目标，以国防和航空航天技术急需的军用１６位微机关键电路８０Ｃ８６系列的Ｌ... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ—１０１Ｊ分步光刻机检测记录（三）自动调焦检测一、测试仪器名称：千分表仪器精度：２％温度：二、测试日期９４．１２．１０测试人：杨顺三、键盘输入改变量＋５００脉冲－５００脉冲仪器示值：４２μｍ－２２４μｍ４２μｍ－２２５μｍ四、最大调焦范围±１８２... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
电子工业部第４５研究所所长任继东在ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机鉴定会上的讲话尊敬的张学东主任：尊敬的王金城军工总监：尊敬的李兆吉老部长：各位领导，各位专家，各位代表：能有这样多的各方面、各级领导和专家在百忙之中光临这个鉴定会，我感到非常激动和万分荣幸，... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１Ｊ分步光刻机检测记录（六）套刻精度检测一、工艺过程及条件衬底材料：铝显影温度：２０．５℃机器温度：２０℃±０．２℃气压：显影时间：４５ｓ日期：９４．１２．９湿度：４８％测试人：孙家彬二、检测版名称ＧＣＡ万能游标测试版三、观察显微镜型号：Ｌ... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１Ｊ分步光刻机检测记录（五）重复精度检测一、工艺过程及条件衬底材料：ＳｉＯ＿２显影温度：２０．５℃机器温度：２０℃±０．２℃显影时间：４５ｓ日期：９４．１２．９湿度：４８％气压：二、检测版名称ＧＣＡ万能游标测试版三、观察显微镜四、现实结果测... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１Ｊ分步光刻机检测记录（四）曝光系统照明条件检测一、测试仪器名称：自检软件仪器精度：相对比较日期：９４．１２．９型号：温度：２０．５℃测试人：杨顺二、照明不均匀性计算方法三、测试结果平均光强：３３０ｍＷ／ｃｍ￣２照明不均匀性：……＜０２．６... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１Ｊ分步光刻机检测记录（一）实用分辨率检测一、工艺过程及条件前烘温度：９０℃光刻胶：ＫＴＩ８２０曝光当量：１２００显影温度：２１℃测试人：李威前烘时间：２０分钟胶厚：１．２μｍ显影时间：４５ｓ日期：１９９４．１２．９．二、分辨率检测版名称Ｇ... 相似文献
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《电子工业专用设备》1995,(2)
ＢＧ－１０１Ｊ分步光刻机检测记录（二）倍率误差检测一、工艺过程及条件前烘温度：９０℃光刻胶：ＫＴＩ８２０曝光当量：１２００显影温度：２０．５℃机器温度：２０℃±０．２℃气压前烘时间：２０分钟胶厚：１．２μｍ显影时间：４５ｓ日期：９４．１２．９湿度：４... 相似文献
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周得时 《电子工业专用设备》1991,20(3):69-70
<正> 一种新型分步重复直接投影光刻机(DSW)——BG—101J分步光刻机最近在机电部第45研究所研制成功。北京半导体器件三厂对该机进行了考核验收,认为其主要技术指标全部达到设计要求,对该机的指标 相似文献
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刘美玉 《电子标准化与质量》1997,(3):13-16
以ＧＪＢ４５０《装备研制与生产的可靠性通用大纲》以及ＧＪＢ３６７．２《军用通信设备通用技术条件环境试验方法》、ＧＪＢ３６７．３《军用通信设备用技术条件可靠性鉴定试验和验收试验方法》为根据，结合产品的研制、生产实际，阐述了对环境试验与可靠性试验的认识，并针对如何提高产品可靠性，分析了环境试验与可靠性试验的相互关系。 相似文献
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在学习，理解ＧＪＢ５４６Ａ和军用电子元器件质量认证指南的基础上，阐明了质量保证大纲的构成及ＧＪＢ５４６Ａ的特点；分析了ＧＪＢ５４６Ａ与ＩＳＯ９０００族标准的关系；结合企业贯标的成功经验，给出了对编写质量保证大纲计划示例的分析；指出了实施应用ＧＪＢ５４６Ａ时应注意的问题。 相似文献
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本文比较了ＧＪＢ３３Ａ－９７与ＧＪＢ３３－８８、ＧＪＢ１２８Ａ－９７与ＧＪＢ１２８－８６之间的差异，分析了企业在贯标过程中常见的一些问题，并提出了相应的对策与措施。 相似文献
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程建瑞 《电子工业专用设备》1995,24(4):19-23
本文在计算机控制理论的基础上，从接口的角度对精度要求高、过程动作及其复杂的直接分步光刻机的计算机控制做了深入探讨。提出了构造系统控制总线的方法，就总线对各分系统控制的实现做了深入研究，提出了几种保证可靠性和整机效率的方法，并实际应用于ＢＧ—１０２直接分步光刻机控制，效果良好。 相似文献
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介绍国外军用半导体器件按照双方所订合同进行筛选试验，采用固定样本的抽样方案，Ｂ组和Ｃ组的检验项目合并，严格按照ＭＩＬ－ＳＴＤ－７５０方法进行试验。 相似文献