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微胶囊技术在复合电镀中的应用 总被引:5,自引:0,他引:5
通常的复合镀层是固体微粒与金属的共沉积得到的。采用微胶囊技术可以实现液体的固体化,从而使金属-液体在镀液中的共沉积过程得以完成。本文综述了微胶囊技术的基本原理、加工方法及控制释放机理,以及液体微胶囊化后与金属形成的复合镀层的实际应用。 相似文献
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化学镀镍铜磷三元合金沉积工艺的研究 总被引:7,自引:1,他引:7
为提高化学镀镍的硬度、耐磨及耐蚀性,以拓宽在电子工业中应用,采用在化学镀镍磷合金液中添加适量的铜离子制得镍铜磷三元合金。研究了镍离子与铜离子浓度比、次磷酸钠含量、沉积温度对合金镀层沉积速率的影响,利用S-570扫描电镜和H-800透电镀观察了镀层表面形貌和显微组织,通过硝酸腐蚀试验比较了镍磷合金与镍铜镀层的耐蚀性。结果表明,铜的共沉积能明显提高镍磷合金的耐蚀性。 相似文献
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镍和钴为同一族的金属元素 ,具有非常相似的化学性质 ,在镍盐或金属镍中经常含有或多或少的金属钴。尽管镍和钴的化学性质很相似 ,但在电沉积镍和钴时 ,钴的沉积速度比镍的沉积速度要快得多 ,这种现象称为“不规则的共沉积”。因此 ,为了沉积低钴含量的 Ni- Co合金镀层 ,电解液中钴盐的浓度应该比较低一些。Ni- Co合金镀层比镍镀层的硬度高 ,有优良的磁性能 ,耐磨性及耐蚀性好 ,具有重要的实用价值 ,但是镀层的内应力较大 ,而且金属钴的价格昂贵 ,因而在实际应用中 ,合金组成的选择要兼顾镀层性能及经济因素。电沉积 Ni- Co合金镀层的电… 相似文献
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以ChCl-urea-ZnO-Cu2O低共熔溶剂为电解质在343 K镍基体上电沉积制备得到了铜锌合金镀层。伏安曲线测试表明在沉积过程中,镍基体能够诱导金属Zn发生欠电位沉积,从而实现了Cu-Zn合金的共沉积。同时研究了沉积电势对镀层成分和形貌的影响,结果表明:沉积电势由-0.85 V (vs Ag)增加到-1.3 V (vs Ag)时,合金镀层中Zn原子百分数从0升高到76.29%。在沉积电势为-1.10~-1.15 V范围内,Zn原子百分数为12.5%~20.81%时,镀层平整致密,颜色为金色,达到仿金镀的效果。 相似文献
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离子液体中电沉积活泼金属的研究进展 总被引:1,自引:0,他引:1
离子液体具有宽的电化学窗口、优良的导电性、高的热稳定性、可回收等优点,在绿色冶金电化学方面具有很大的应用潜力和广阔的应用前景.本文介绍了离子液体在活泼金属沉积中应用的研究现状,重点对锂、钠、镁等活泼金属在离子液体中的电化学行为及电沉积进行了阐述,提出了离子液体在金属电沉积应用中存在的一些问题及解决办法,并展望了未来的发... 相似文献
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以ChCl-urea-ZnO-Cu_2O低共熔溶剂为电解质在343 K镍基体上电沉积制备得到了铜锌合金镀层。伏安曲线测试表明在沉积过程中,镍基体能够诱导金属Zn发生欠电位沉积,从而实现了Cu-Zn合金的共沉积。同时研究了沉积电势对镀层成分和形貌的影响,结果表明:沉积电势由-0.85 V (vs Ag)增加到-1.3 V(vs Ag)时,合金镀层中Zn原子百分数从0升高到76.29%。在沉积电势为-1.10~-1.15V范围内,Zn原子百分数为12.5%~20.81%时,镀层平整致密,颜色为金色,达到仿金镀的效果。 相似文献