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半导体桥火工品的发展 总被引:8,自引:1,他引:7
文中系统评价和分析了近年来国内外半导体桥结构,制造工艺和封装技术,展望了半导体桥点火装置及智能火工装置的应用前景。提示了这类火工品必将得到广泛应用的趋势。 相似文献
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文章讨论了半导体桥点火的作用机理.在比较、分析了几种常用的半导体桥结构的基础上,设计出一种新的SCB结构.从理论上讲,此种结构具有更好的点火性能.文章以SCB的典型结构--"H"形为例,对半导体桥结构的各组成部分进行了分析,论证了半导体桥厚度δ=2μm的合理性;根据能量转换关系建立了数学模型,得出了半导体桥长和宽的计算公式. 相似文献
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半导体桥火工品是取代桥丝的理想火工品。本文根据半导体桥的点火特性,应用电能转化为热能、热传导和炸药的热爆炸三个方面的理论,建立了在电容放电和直流输入两种方式下半导体桥桥体的升温特性方程;并通过计算机运算绘图,验证了方程基本符合理论要求。文章最后指出升温方程需加入修正系数来进一步完善。 相似文献
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使用微细加工和磁控溅射技术将Al/MoO x纳米复合薄膜集成于半导体桥(SCB),制成含能半导体桥SCB-Al/MoO x以提高SCB的点火能力。薄膜的SEM、DCS和XPS结果表明,复合薄膜成膜质量好,层状结构清晰,放热量可达3200 J/g,达到理论值的68%(理论放热量为4703 J/g),MoO x薄膜含有32%的MoO3、37%的Mo2O5以及31%的MoO2。电容激励发火实验表明:相同激发条件下,SCB-Al/MoO x反应终止时间较SCB显著缩短,能量输出效率高于SCB,发火时溅射出的火花量明显增多,持续时间显著延长,使用原子发射双谱线测温法得到的等离子体温度亦高于SCB。 相似文献
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界面层的反应性是纳米含能复合薄膜(RMFs)制备中的重要因素,直接影响纳米RMFs的反应性能。为了研究纳米Al/CuO RMFs在半导体桥上集成后的电爆性能,采用磁控溅射工艺制备了Al/CuO含能半导体桥(Al/CuO-ESCB)和Al/Cu/CuO含能半导体桥(Al/Cu/CuO-ESCB),研究了Cu层作为阻挡层对Al/CuO-ESCB电爆过程的影响。结果表明:增加Cu阻挡层可以缩短ESCB的临界激发时间,增加ESCB的燃烧时间。 相似文献