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相似文献
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1.
电沉积铜钴层状结构材料的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用旋转圆盘电极,利用双脉冲电位法从简单的镀液中制备Cu-Co层状结构材料,了镀液中铜含量,镀液的PH值、电流密度、转速对镀层形貌和铜在铜钴合金歧中含量的影响。并用扫描电镀X光电子能谱和X-射线衍射研究了镀 怪的形貌,组成和结构。结果表明,镀层由纯铜和含有少量铜的铜钴合金层交替组成,其断面结构为层状结构,为了降低铜在铜钴使铜中的含量,可以采取降低镀液中铜含量,降低转速和提高高电位脉冲来实现。  相似文献   

2.
电沉积钨钴合金的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
陈颢  杜海燕 《电镀与涂饰》2002,21(2):4-5,17
钨钴合金镀层的外观接近铬镀层,且镀液分散能力及覆盖能力好,在此研究了钨酸钠,硫酸钴,添加剂,电流密度及pH值对镀层钨含量及性能的影响,钨钴合金具有很好的耐蚀,耐热和耐磨性能,应用前景好。  相似文献   

3.
研究了温度对化学镀Co-W-P合金镀层的厚度、成分、表面形貌、耐蚀性和磁性能的影响。结果表明:适当升高温度有利于提高镀速和增加合金镀层的厚度,但当温度高于90℃时,镀液容易发生分解。随着温度的升高,合金镀层中钴的质量分数逐渐增大,而钨和磷的质量分数迅速降低,使得镀层的耐蚀性降低。Co-W-P合金镀层呈现出典型的颗粒结构,表面均匀、致密。高温下合金镀层表面粗糙度增大,使得矫顽力明显下降。  相似文献   

4.
锌酸盐电镀锌钴合金工艺研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了锌酸盐溶液电镀锌钴合金工艺中主盐、稳定剂、添加剂、温度及电流密度等因素对镀层中钴含量的影响。测试了镀液和镀层的主要性能,探讨了合金镀层的高耐蚀机理,提供了镀层的纯化工艺。  相似文献   

5.
脉冲电沉积钴镍合金层微观结构的研究   总被引:5,自引:1,他引:4  
研究了钴镍合金镀液中Co^2 浓度与镀层中钴含量的关系,并采用XRD,TEM分析了不同钴含量合金镀层的微观结构。结果表明,沉积层中的钴含量随电解液中Co^ 浓度的增大而显著增大,当镀层中的钴含量为69.8%-78.9%(质量分数)时,镀层为面心立方晶格的α-Co相和排六晶格的ε-Co相组成;钴含量低于69.8%时为α-Co相,钴含量大于78.9%时为ε-Co相,钴含量增大,晶粒尺寸明显减小,合金点阵参数增大。  相似文献   

6.
石英光纤表面镀镍钴合金工艺研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
首次研究了在石英光纤表面沉积具有磁伸缩性能的镍钴合金镀层的工艺,获得灰色半光亮镀层。探讨了镀液中钴含量与电流密度对镀层钴含量的影响。  相似文献   

7.
采用赫尔槽试验法在柠檬酸盐体系镀液中以脉冲电沉积制备Ni-Cu合金镀层。分别采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及能谱仪分析了不同工艺条件下所得镀层的结构、形貌及组成,探讨了镀液中铜含量(WL)和电流密度(jk)对Ni-Cu合金镀层的铜含量(WC)及性能的影响,最终获得了WC与WL、jk之间关系的经验公式。结果表明,镀层中铜含量与镀液中铜含量呈一次线性相关,与电流密度呈幂指数关系。以经验公式为指导,综合考虑镀层外观和镀液稳定性,最终得到电沉积制备Ni70Cu30合金镀层的优化工艺参数为:WL=12%,jk=0.8A/dm2。  相似文献   

8.
碱性锌—钛合金镀液中锌、钴含量的测定   总被引:1,自引:0,他引:1  
为获得耐蚀性良好的锌-钴合金镀层,必须维持镀液中的锌-钴含量在工艺范围内,采用EDTA滴定和分光光度相结合的方法测定碱性锌-钴合金镀液中的锌、钴含量。介绍了该方法的分析步骤,探讨了测量波长的确定,亚硝酸钠、镀液共存组分、酸度以及铜离子和铁离子等杂质对测量结果的影响。结果表明,在530nm波长下,钴浓度在0-3μg/mL范围内所测吸光度与钴浓度间的关系遵守比耳定律,该方法准确度高,回收率达97%-103.5%。  相似文献   

9.
电沉积镍-钴-碳化钨复合镀层的研究   总被引:15,自引:3,他引:12  
研究了在镍钴合金镀液中加入碳化钨微粒形成镍-钴-碳化钨得合镀层的共沉积过程。分析了镀液中碳化钨微粒的悬浮量、镀液温度及阴极电流密度对镀层中碳化钨含量的影响,并进一步通过正交试验优选出一种较佳的操作条件。  相似文献   

10.
镍钨合金电沉积的电流效率和镀层显微硬度   总被引:13,自引:0,他引:13  
通过调节镀液中不同的Ni/W比例、温度和沉积电流密度,研究在焦磷酸盐体系中镍钨合金电沉积的电流效率、沉积层和组成和显微硬度。实验结果表明:合金共沉积的电流效率不高。为了尽量提高合金的沉积电流效率,主要途径宜增大镀液中硫酸镍和钨酸钠的浓度;提高合金沉积电流密度,降低镀液中[Ni]/[W]比例,则镀层中的钨含量增大;合金沉积层的显微硬度随镀层中的W含量提高而增大。  相似文献   

11.
在硫酸铜电解液中加入硫酸钠,利用电沉积和X-射线衍射方法研究了不同提纯铜工艺制备的铜镀层及织构特征。结果表明,织构度受到电流密度、镀层厚度和温度的影响,在较小的电流密度、较高温度及在较薄厚度的铜镀层得到(111)晶面择优取向,在较高的电流密度及在镀层δ达到30μm时得到(220)晶面择优取向,而且铜镀层(220)晶面比(111)晶面更易保留,(220)晶面使纯铜能获得更好的电化学性能,保持纯铜晶面的择优取向对铜在半导体的应用产生了深远的影响。  相似文献   

12.
脉冲铜沉积层织构及形貌的研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
采用脉冲电沉积工艺制备了铜沉积层,研究了电流密度、脉冲频率和占空比对铜镀层织构的影响。利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了铜镀层的织构和形貌。实验结果表明,低电流密度下为(200)晶面择优取向,高电流密度下为(111)晶面择优取向,频率越高则择优取向越强。低频脉冲下制备的沉积层平整致密。  相似文献   

13.
Scaled copper electrorefining cells were designed, built and computerized to simulate as closely as possible industrial conditions at three Canadian copper refineries. The industrial dimensions of Falconbridge, Kidd Metallurgical Division, were considered while designing scaled cells. Anode width to cell width ratio, anode width to cathode width ratio, anodic surface to cathodic surface ratio, as well as electrolyte volume to cathodic surface ratio, which was about 60 L m–2, were consistent with Kidd's industrial ratios. However, the cell design also allowed simulation of INCO's Copper Cliff Copper Refinery (CCCR) or Noranda's Canadian Copper Refinery (CCR). Electrorefining cells were 135.0 cm deep by 14.7 cm wide. Electrolyte flow rate was parallel to the electrodes. Electrolyte was circulated from the lower part of the electrorefining cells to the top where there was an overflow going to the electrowinning circuit. The equipment was computer controlled using Labview software. Experiments were conducted using this scaled electrorefining set-up to evaluate the effect of various ratios and concentrations of additives on nodulation during copper electrorefining under high current densities. Cathodic polarization curves, SEM micrographs, porosity analyses and copper grain analyses were used to characterize the cathodes produced.  相似文献   

14.
魏柯佳  黄桢 《云南化工》2019,(7):132-133
江西东乡地区遭受多期构造运动,具备良好的金属成矿条件,具较好的勘探前景。经分析东乡地区铜多金属矿产主要分布于石炭系碎屑岩中,成矿物质主要来源于基岩的分化以及部分岩浆岩侵入所带来元素,上部为碳酸盐岩,容易被蚀变交代,两种不同物化性质的岩性,为成矿作用提供了有利赋存条件,在构造活动时所产生的断裂和褶皱为成矿物质的来源提供了通道和储积场所。属于海相火山沉积—叠改型铜矿床。  相似文献   

15.
《云南化工》2017,(9):88-90
以萨热克砂砾岩型铜多金属矿勘查为例,运用音频大地电磁测深,获得地下深部的电性特征,对地层岩性进行划分,达到深部地质填图的目的。  相似文献   

16.
矿床地球化学是矿床学与地球化学相结合的一门交叉学科,成矿物质来源、成矿流体来源和成矿年龄测定是矿床地球化学研究的三大核心科学问题,本文运用矿床地球化学研究方法探讨了我国部分斑岩铜矿床的成矿物质来源、成矿流体类型及来源和矿床形成年代,结合对斑岩铜矿的地球化学异常的概略分析,初步分析了矿床地球化学在斑岩铜矿床研究中的应用。  相似文献   

17.
金英豪 《电镀与涂饰》2005,24(11):26-28
给出了Ni-C复合镀层生产工艺流程及工艺规范。介绍了提高铜箔粗化度及加强碳黑分散的工艺措施。讨论了电流密度、pH、温度及搅拌等操作对镀层及Ni-C共沉积的影响。总结了镀液维护及注意事项。实验结果表明,该Ni—C复合镀层制作的电极片质量全部达到PTC热敏电阻器性能要求。  相似文献   

18.
铜基材料镀锡层中铅的测定   总被引:1,自引:1,他引:0  
在150°C下,先用50g/L的氢氧化钠溶液使铜基镀锡材料退镀,再用体积分数为10%的盐酸二次退镀,将两次退镀液分别定容到100mL,稀释5倍后,用电感耦合等离子体质谱测定退镀液中的铅含量。此方法检出限为1mg/kg,实际样品分析的相对标准偏差为2.7%,平均回收率为99.9%。该方法能满足欧盟RoHS指令以及食品接触材料中铅含量检测的要求。  相似文献   

19.
光亮酸铜液中Cl-含量对镀层外观的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了低染料型酸铜光亮剂及高染料型酸铜光亮剂在不同液温下Cl–含量对镀层外观的影响。试验结果表明:含量低时镀层高电流密度区产生发白粗糙的沉积物,含量过高时镀液整平性及低电流密度区镀层光亮性降低。液温升高,Cl–允许含量上限提高。在最佳Cl–含量时,低染料型能在7~40°C宽温范围内得到镜面光亮镀层,而高染料型宜在20~31°C范围内使用。工业生产中应防止Cl–积累并及时去除过量Cl–。  相似文献   

20.
废杂铜的回收与利用   总被引:2,自引:0,他引:2  
张天姣  陈晓东  唐维学  谢武  李俊华 《广东化工》2009,36(6):133-134,262
介绍了我禺铜的需求及资源状况,提出了我国废杂铜回收利用的必要性。总结了国惠废杂铜的分类方法和废杂铜回收利用的现状以及废杂铜的回收处理方法,并针对国内废杂铜的回收利用情况提出了意见与建议,希望能够为我国废杂铜的回收利用提供参考。  相似文献   

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