凸版光掩模上海合资厂扩产并提升技术能力

为了更好地服务于中国快速增长的半导体产业,凸版印刷集团旗下子公司上海凸版光掩模有限公司11月18日宣布,将在上海扩大其生产经营规模。上海凸版光掩模有限公司（简称“TPCS”）,是由凸版光掩模集团与上海微系统信息技术研究所共同组建的一家中外合资公司。此次投资2000万美元将极大地扩大公司用以制造半导体器件的光掩模版的产能,同时也提高公司的生产技术能力至90纳米精细工艺。     

三星授予凸版光掩模优秀供应商奖

圆石城,德州-2006年1月26日-今日,凸版光掩模宣布它从三星电子半导体部收到“三星生产效率优秀奖”。该奖认可了凸版的杰出成绩和它对客户的支持。“凸版在技术和服务上的承诺和先进的专门技术带来了两家公司的双赢。通过这个奖状我们十分高兴认同凸版的真实贡献。”三星电子半导体部总裁兼首席执行官Chang-Gyu Hwang说。“这个荣誉是对在韩国生产厂Ichon以及通过凸版光掩模生产厂全球网络的员工们所显示的技能和奉献的杰出赞赏”凸版光掩模公司总裁兼首席执行官Marshall Turner说,“我们通过全球的先进技术和产能去迎合客户们当今和将来…     

凸版光掩模将提高上海合资厂的产能和技术能力

2011年11月18日,凸版(Toppan)印刷集团旗下子公司上海凸版光掩模宣布,将在上海扩大其生产经营规模。上海凸版光掩模有限公司是由凸版光掩模集团与上海微系统信息技术研究所共同组建的一家中外合资公司。本次投资2000万美元的项目将极大地扩大公司用以制造半导体器件的光掩模版     

业界快讯

MEMS技术开辟出一个全新领域,Surface Technology Systems赢得MEMS生产设备订单,飞利浦采用65nm低功耗CMOS工艺实现SoC,三星授予凸版光掩模公司优秀供应商奖,凸版光掩模公司最新动态。[编者按]     

三星授予凸版光掩模优秀供应商奖

<正>2006年1月26日,凸版光掩模宣布它从三星电子半导体部收到“三星生产效率优秀奖”,该奖认可了凸版的接触     

Toppan:将向中国市场推出0.18μm光掩模

<正>凸版(Toppan)光掩模股份有限公司日前宣布,该公司荣获华润上华(CSMC)颁发的2007年度"十大最佳供应商"奖,这是领先的中国模拟芯片代工厂商第一次授予光掩模制造商这个最高嘉奖。     

光掩模市场前景明亮产业将进一步巩固

据美国信息网络公司最近的市场研究报道 ,世界光掩模市场在 2 0 0 0年将随时可能恢复。此外 ,由于半导体制造厂家的内部掩模制造工厂被独立的商业掩模公司所吸收以及独立的商业掩模公司间的合并 ,使得世界的掩模制造业进一步向着产业化方向发展。到 2 0 0 0年 ,包括芯片制造厂家内部的掩模工厂和独立的商业掩模生产厂家 (Ｐｈａｔｒｏｎｉｃｓ .Ｄｏｐｏｎｔ等 )在内的世界总掩模市场将达到 2 3亿美元 ,比 1 999年上升 1 5 % ( 1 999年为 2 0亿美元 ,比 1 998年下降了 4 76 % ,1 998年为 2 1亿美元 )。 2 0 0 0年后世界光掩模市场将继续增长…     

光掩模现状与展望

0．09μm工艺用掩模在国外进入批量生产,0．065μm对应掩模成为研发重点,新一代电子束投影曝光技术、低加速电压电子线等倍接近曝光技术、超紫外线曝光技术的候补技术光掩模的研究与开发已成为备受关注的课题。国内光掩模制造业仅能够满足国内中低档产品市场的要求。     

光刻掩模的静电放电损伤及其防护

半导体集成电路制造中,光刻工艺是整个制造过程中的核心技术.而光刻掩模(Reticle,Photomask)则为光刻技术中的最为关键的部件.随着半导体生产技术的不断提升,光刻掩模对静电放电敏感度也越来越高,如何防护光刻掩模避免遭受静电放电的损坏,已成为目前半导体集成电路制造中的一项挑战.     

瑞萨半导体(苏州)有限公司

瑞萨科技公司是一个专用半导体制造商,是由日立公司半导体部和三菱电机公司半导体业务(微型电脑、系统LSIs、SRAM、快闪记忆体、ASSP)合并组建的,是日本最大的半导体厂商,在全球半导体厂商中排名第3位。瑞萨从成立起就在多种产品领域获得了世界最高的市场占有率,得到了世界各地客户的关心和信赖。瑞萨科技—瑞萨销售—瑞萨解决方案,三家公司组成了瑞萨集团完整的客户支持系统。“瑞萨科技“负责产品策略、开发和制造;“瑞萨销售“负责了解客户需求、提供广泛支持以及物流;“瑞萨解决方案“负责提供各个应用领域的解决方案。     

掩模材料与新颖的衬底方案关键问题及新的良机

通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45nm及以下技术节点的掩模要求。此外类似于折射指数、平整度、成分、均匀性和应力等衬底材料的固有特性严重地影响到掩模加工性能和光刻性能。评述了45nm及以下技术节点对空白材料,掩模及晶片层面的要求。指出了对于关键问题及出现的问题的可仿效实施的方法,最后研究了集成用于高效光掩模工厂的掩模材料的实际情况分析。     

围绕IC设计的上下游行业动向

"2011中国半导体行业协会集成电路设计分会年会"期间,部分国内外著名企业分析了当今EDA、IP、设计服务、代工、掩模的技术市场趋势。     

Mouser为工程师最新设计提供最新的产品

我们今年计划在中国建立一个拥有先进技术的发货仓库。提供亚洲客户零距离的本地服务。 Mouser是一家专注于提供最新半导体与电子元器件和提供优异业务服务与技术支持的分销商。近年来,孩公司重新调整和定义了以客户为导向的分销模式、获得了业内客户的认可。在2011年整个电子行业深受全球经济影响的情况下,Mouser业务还实现了超过两位数的增长。在HC China展上,Mouser欧洲与亚洲区副总裁MarkBurr-Lonnon和Mouser亚太区市场及拓展总监田吉平接受了本刊记者独家采访。     

Memec进军中国

8月底,Memec(科汇)策略开发部总监贝易斯、Asit Goel及科汇电子(上海)有限公司辜其秋总裁向本刊介绍了Memec及在中国的战略。作为全球最大的半导体分销商之一,科汇致力于在电子业内创造需求和服务。科汇下有三个独立运作的分销公司—科汇宏盛(MemecImpact)、科汇盈丰(Memec Insight)和科汇裕利(Memec Unique)。每家公司均由工程师、技术人员和客户代表组成,提供有限数量的非竞争性和互补性的半导体产品。三家公司采用集团的服务部门:科汇思博(Memec Design)和Memec United进行产品的核心设计、全球库存管理和供应链管理服务。公司在中…     

P＆S正式成为飞思卡尔FreeScale公司代理商

飞思卡尔半导体 (FreescaleTMSemiconductor,原摩托罗拉半导体部 )是全球著名的半导体公司。该公司可为规模庞大、迅速增长的市场提供嵌入式处理产品和连接产品。也可为客户提供广泛多样的辅助设备 ,以连接各种产品、网络和真实世界的信号 (如声音、振动和压力等 )。这些产品包括传感器、射频半导体、功率管理及其它模拟和混和信号集成电路。作为摩托罗拉集团的子公司 ,飞思卡尔半导体在微电子领域拥有51年的经验 ,在全球30多个国家拥有2.2万名全职员工。飞思卡尔半导体致力于向汽车电子、消费电子、工业电子、网络和无线市场提供广泛的半…     

超分辨近场结构光刻技术

介绍了一种新的近场光刻技术的基本原理及其在光刻方面的应用研究的最新进展。新技术的基本原理是;光远场照射,通过超分辨掩模产生光刻所需的超过衍射极限的近场光,利用夹在掩模和光刻胶中闯的电介质保护层实现了近场光的最佳耦合,减小了线宽并大大提高了光刻速度。这种膜层结构叫超分辨近场结构(Super-RENS),是近年来发展起来的一种新的近场光学技术。     

灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究

灰度掩模法是目前正在积极探索的一种二元光学器件制作方法。从基于空间光调制器的灰度掩模制作方法出发,就“掩模图形的生成”和“工艺”这两个难点问题进行了深入的研究,并具体地制作了几种常用的二元光学器件的灰度掩模,为该方法进一步投入实用提供了一条较好的思路。     

193nm光学掩模与x射线掩模技术比较

目前看来,１９３ｎｍ与ｘ射线光刻技术都很有希望应用到０．１３μｍ及０．１３μｍ以下的集成电路工业中去,而掩模制作对这两种光刻技术而言是非常重要的。本文对１９３ｎｍ光学掩模与ｘ射线掩模制造技术进行了对比分析。     

193nm光学掩模与x射线掩模技术比较

目前看来，１９３ｎｍ与ｘ射线光刻技术都很希望应用到０．１３μｍ ０．１３μｍ以下的集成电路工业中去，而掩膜笃这两种光刻技术而言是非常重要的．本文对１９３ｎｍ光学掩模与ｘ射线掩模制造技术进行了对比分析。     

东方集成：淘金3G的“另类”手段

专业提供电子测试相关产品与服务的北京东方中科集成科技有限公司,借助全球最大的科技租赁公司超过55亿人民币的科学仪器设备库存以及40年的相关管理流程与技术,在电子制造、半导体行业、通信等诸多行业的科研与生产等领域,以科技租赁服务形式,为广大科研与生产客户提供相关的高科技产品的服务,从而为用户在解决各种问题和满足需求的同时,节约初期投资、降低成本、提高企业的效益。