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本文用GSMBE技术生长纯度GaAs和δ-掺杂GaAs/Al_xGa_(1-x)As结构二维电子气材料并对其电学性能进行了研究。对于纯度GaAs的GSMBE生长和研究,在低掺Si时,载流子浓度为2×10~(14)cm~(-3),77K时的迁移率可达84,000cm~2/V.s。对于用GSMBE技术生长的δ-掺杂GaAs/Al_xGa_(1-x)As二维电子气材料,在优化了材料结构和生长工艺后,得到了液氮温度和6K迁移率分别为173,583cm~2/V.5和7.67×10~5cm~2/V.s的高质量GaAs/Al_xGa_(1-x)As二维电子气材料。 相似文献
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本文报导了非故意掺杂InGaAsSb本底浓度的降低和掺Ten型GaSb和InGaAsSb的MBE生长与特性的研究结果。结果表明,通过生长工艺的优化,GaSb和InGaAsSb的背景空穴浓度可分别降至1.1×10~(16)cm~(-3)和4×10~(16)cm~(-3),室温空穴迁移率分别为940cm2/v.s和260cm~2/v.s。用Te作n型掺杂剂,可获得载流子浓度在10~(16)~10~(18)cm~(-3)的优质GaSb和InGaAsSb外延层,所研制的材料已成功地制备出D_λ~*=4×10~(10)cmHz~(1/2)/W的室温InGaAsSb红外探测器和室温脉冲AlGaAsSb/InGaAsSb双异质结激光器。 相似文献
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GaN的MOVPE生长和m-i-n型蓝光LED的试制 总被引:1,自引:0,他引:1
利用自行研制的常压MOVPE设备和全部国产MO源,采用低温生长缓冲层技术,在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上获得了高质量的GaN外延层。未掺杂的GaN外延层的室温电子迁移率已达114cm2/V.s,载流于浓度为2×1018。77K光致发光谱近带边发射峰波长为365nm,其线宽为4DmeV。X射线双晶衍射回摆曲线的线宽为360arcsec。用Zn掺杂生长了绝缘的i-GaN层。在此基础上研制了m-i-n型GaN的LED,并在室温正向偏压下发出波长为455nm的蓝光。 相似文献
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GaInAsSb是红外探测器中重要的半导体材料之一。我们用水平常压金属氧化物化学气相淀积(MOCVD)技术在n型GaSb衬底上成功地生长了GaInAsSb外延层,用PL谱、红外吸收谱、X射线衍射和扫描电子超声显微镜(ScanningElectronAcousticMicroscopy,SEAM)等实验手段对GaInAsSb外延层进行了表征。用GaInAsSb材料制作的红外探测器的光谱响应的截止波长达2.4μm,室温探测率D*达1×109cmHz(1/2)/W,2.25μm波长时的量子效率为30%。本文首次给出了GaInAsSb外延层的扫描电子超声显微镜像(SEAM像),为扫描电子超声显微镜在半导体材料方面的应用开辟了一个新的领域。 相似文献
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本文研究了InGaP/GaAs异质结构的气态源分子束外延(GSMBE)生长,所得样品晶格失配率△α/α<8.95×10 ̄(-5),本底载流子浓度为10 ̄(15)cm ̄(-3)数量级,掺硅n型样品的载流子浓度控制范围可达2×10 ̄(15)~4×10 ̄(18)cm ̄(-3)。研究了P_2和As_2气氛的切换条件对InGaP/GaAs异质结构界面特性的影响,并成功地生长了InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)结构材料,用此材料在国内首次制成的HBT器件fr=25GHz,f_(max)=46GHz,电流增益β=40,最高可达β=150。 相似文献
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利用我们研制的常压MOVPE设备对国产TMGa、TMAl、TMIn和TMSb进行了鉴定,为此分别生长了GaAs、AlGaAs、InP、GaSb外延层和GaAs/AlAs、GaSb/InGaSb超晶格和GaAs/AlGaAs量子阱结构。表征材料纯度的77K载流予迁移率分别达到GaAs:μ_n=56600cm ̄2/V·s,Al_(0.25)Ga_(0.75)As:μ_n=5160cm ̄2/V·s,InP:μ_n=65300cm ̄2/V·s,GaSb:μ_p=5076cm ̄2/V·s。由10个周期的GaAs/AlAs超晶格结构组成的可见光区布拉格反射器已观测到很好的反射光谱和双晶X射线回摆曲线上高达±20级的卫星峰。GaAs/Al_(0.35)Ga_(0.65)As量子阱最小阱宽为10,在liK下由量子尺寸效应导致的光致发光峰能量移动为390meV,其线宽为12meV。这些结果表明上述金属有机化合物已达到较高质量。 相似文献
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为探索砷化我阴极的光电灵敏度的影响因素,利用X射线光电子能谱、二次离子擀谱和电化学方法测试和分析了国内和国外GaAs光阴极材料GaAs/AlGaAs的C,O含量的空穴深度分布。实验发现,国内的材料在GaAs/AlGaAs 面及AlGaAs层的O含量分别为7.6%和10.6%,C深度分别为5.2×10^18atoms/cm^3和1.0×10^19atoms/cm^3,而国外的材料的O含量相应为1.0 相似文献
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NH3-MBE生长极化场二维电子气材料 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了用NH3-MBE技术在蓝宝石C面上外延的高质量的GaN单层膜以及GN/AlN/GaN极化感应二维电子气材料。外延膜都是N面材料。形成的二维电子气是“倒置二维电子气”。GaN单层膜的室温电子迁移率为300cm^2/Vs。二维电子气材料的迁移率为680cm^2/Vs(RT)和1700cm^2/Vs(77K),相应的二维电子气的面密度为3.2*10^13cm^-2(RT)和2.6x10^13cm^ 相似文献
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提出了一种新的生长过渡层的方法,并利用低压金属有机气相外延技术在InP初底上生长出高质量GaAs外延材料,用X射线双晶衍射测得5μm厚GaAs外延层的晶面衍射半峰高宽(FWHM)低至140arc sec。并制出GaAs金属半导体场效应晶体管(MESFET),其单位跨导为100mg/mm,可满足与长波长光这器件进行单片集成的需要。 相似文献
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本文研究了MOCVD外延生长Ga1-xAlxAs1-6Sby半导体薄膜的生长条件与外延层组成的关系,并用人工神经网络法总结有关气固平衡规律。结果表明,用气相组成,载气流量和生长等影响外延层组成的主要参数作为人工神经网络的输入,以固相Ga1-xAlxAs1-ySby中的Al和Sb的含量x、y作为输出,训练的人工神经网络可以预报固相组成x、y,得到满意结果。 相似文献
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GaN材料的GSMBE生长 总被引:2,自引:0,他引:2
在国内首次用NH3作氮源的GSMBE方法在α-Al2O3衬底上生长出了GaN单昌外延膜。GaN生长速率可达0.5μm/h。GaN外延膜的(0002)双晶X射线衍射峰回摆曲线的半高宽最窄为8arcmin。霍尔迁移率为50cm^2/V.s。对质量好的GaN膜,室温阴性发光谱上只有一个强而锐的近岸边发光峰,谱峰位于372nm处,谱峰半高宽为14nm(125meV)。 相似文献
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利用二次离子质谱(SIMS)系统地研究了生长温度,Al组份x值和As_4压强对Siδ掺杂Al_xGa_(1-x)As的SIMS深度剖面,Si原子表面分凝和向衬底扩散的影响。实验发现,在外延生长Siδ掺杂Al_xGa_(1-x)As时,随着生长温度的提高或Al组份X值增加,Si掺杂分布SIMS峰都非对称展宽,表面分凝作用加强,但不影响Si原子的扩散,因此SIMS剖面的展宽与扩散无关。另外,我们还发现As_4压强高于1.5×10 ̄(-5)mbar时,As_4压强对δ掺杂空间分布影响不大,而As_4压强低于此压强时,Si掺杂分布峰宽度增加很快,这主要由杂质扩散作用引起。生长温度对掺杂分布峰影响最大,其次是Al组份影响,而较小As_4压强的影响不可忽视。这些研究结果对外延生长Siδ掺杂Al_xGa_(1-x)As材料是有价值的。 相似文献
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分子束外延生长GaAs中δ掺杂研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用二次离子质谱(SIMS)和电化学剖面C-V方法研究了生长温度对GaAs中理想Siδ掺杂的结构的偏离和掺杂原子电微活效率的影响。实验发现,外延生长Siδ掺杂,GaAs时,随着生长温度的升高,Si掺杂分布SIMS峰非对称展宽。表面分凝作用加强,但不影响Si原子扩散。另外,Si施主电激活效率随着生长温度的提高而增大。 相似文献