空白片媒染层中添加共聚物的研究 Ⅰ.媒染层及空白片的物理机械性能

用不同玻璃化温度(Tg)的共聚物部分取代空白片媒染层中的明胶,发现并从理论上说明了橡胶态的共聚物可以改善媒染层的脆性,进而降低空白片的脆性,探讨了添加共聚物对胶片卷曲度的影响,指出仅在媒染层中添加共聚物不能有效地降低空白片的卷曲;研究了添加具有不同玻璃化温度的共聚物对媒染层低温下抗冲击性能的影响。     

浅谈媒染剂的性能对空白片质量的影响

在染印法空白片的明胶涂层中加入媒染剂,以防止染料横向扩散,提高染印画面的清晰度,本文对媒染剂的选择,改性媒染剂的应用,以及不同季铵盐含量对媒染的影响,进行了初步探讨。     

《感光材料》1988年总目录

述评期项 有机物期页空白片媒染层中添加共聚物的研究(五) —空白片的染印性能115冠醚蔷染料的研究一一冠醚警染料及中 间体的二射线衍射特征谱118彩色一步摄影品染料显影剂的合成及显 影转移能力的检查方法127用于减薄涂层的增粘剂改善卤化银感光 材料的防静电性能—介绍两类含氟化合物 3 16八丑As共聚物胶乳的合成及其稳定性的研究 4 29略述有机防灰雾剂的应用647.即3 00,心3臼口口勺6跪0 明胶·片基·三醋纤片基流涎工艺技术的新进展醋酸纤维素质量的几个河题照相涂塑纸基制造技术的甘通︸2性U﹄勺恤U‘工2国外民用彩色感光材料发展概…     

染印法胶片用媒染剂

媒染剂的类型和制备媒染剂可以分为阳离子型和阴离子型两大类。阳离子型媒染剂的媒染官能团以阳离子型式出现,它的媒染对象是阴离型物质。阴离子型媒染剂的媒染官能团以阴离子型式出现,它的媒染对象是阳离子型物质。在照相工业领域中,广泛应用的是阳离子型媒染剂。例如,在一般胶片的防光晕层、多层彩色胶片的各种滤光层和抗     

国产氨基胍空白片对显影浆渗透问题的探讨

一、前言染印法用空白片应具有彩色还原真实、层次丰富、颗粒细、音质好等特点。国产氨基胍空白片在研制和批量生产的过程中,染料吸收能力已能满足染印工艺的要求,对上述前三项指标也基本上达到了要求。然而用     

无银氨基胍空白片技术鉴定会在保定召开

化工部二局于1981年12月4日至6日在保定召开了第一胶片厂研制的无银氨基胍空白片技术鉴定会议。参加会议的有文化部电影局、科技局、北京电影洗印厂、上海电影技术厂、上海感光胶片一厂、化工部第二胶片厂、北京电影学院、北京化工学院、化工部情报所、北京化工厂、天津染料九厂、光明日报社、《感光材料》编辑部等,共十八个单位三十九名代表。与会代表听取了第一胶片厂关于无银氨     

染印法空白片中媒染剂反扩散问题的研究

前言染印法彩色拷贝是用浮雕片吸收染料,通过迭印(浮雕片与空白片相贴合),使染料转移到空白片上,形成彩色染料影像而制成的。当浮雕片与空白片贴合时,不仅产生染料从浮雕片向空白片的扩散过程,而且也可能产生(实际上也确实产生)空白片中的媒染剂向浮雕扩散的过程,我们称之为“反     

硫酸雾现场空白值偏高的原因及质量控制的方法

依据中华人民共和国国家职业卫生标准中三氧化硫和硫酸的离子色谱法的方法采集空气中的硫酸雾,其现场空白值极易出现偏高的情况,以致系统误差偏大,本文从不同的方面寻找空白值偏高的原因,分析原因的产生寻找对策,有效地控制现场空白值的浓度,降低系统误差产生的几率.     

聚酯废片回收

胶片制造及使用过程中废胶片的量是很大的,因此,对废片的回收利用是一个急待解决的问题。废片回收时,要去掉乳剂层很方便,例如用热水处理就行,困难的是除去底层,特别是除去聚酯片基所用的三元共聚物底层,因其憎水性相当强,很难处理。而即使残留的三聚物很少,也会有碍于“废片”的继续使用。     

浮雕片的反差控制

浮雕片是制作染印法彩色电影拷贝的中间模片。就其本身而言,属于一种特殊的黑白正片,要求具有高反差、高清晰度和颗粒细的特点。然而最终评定浮雕片的性能是以染色转移到空白片后的染印性能为准,这是与其他胶片不同的。     

媒染剂在胶质防光晕层中的应用

本文根据媒染原理,针对胶质防光晕层中染料向相邻乳剂层的扩散现象,提出了一套相应的预防措施。其方法简易可行,具有良好效果,适用于银盐感光材料科研和生产。     

球状嵌段共聚物在方柱中的自组装

采用动态密度泛函理论,对本体为球状相的嵌段共聚物受限于方柱中的相行为进行了模拟研究。考察了在不同受限空间和不同表面场下嵌段共聚物的相转变。许多新颖的不同于本体的有序结构被发现,如浸润相、单排球、双螺旋球、四角排列的柱、方筒层、圆筒层、波浪层等。讨论和比较了相应的结果,这些有趣的相结构对新材料的制备提供了帮助。     

钛合金片层组织中纳米团簇析出分析

以Ti-5Al-2Zr-1Sn-1Mo-1V合金为研究对象,发现其片层组织经950℃热处理后,局部区域出现α相的球化转变,而且经不同温度热处理后都有团簇物析出。应用聚焦离子束(FIB)微区精准取样,采用透射电镜对团簇析出物进行形貌观察和晶体结构衍射分析。结果表明,片层组织中的团簇析出物由多个尺寸不超过100 nm的Sn单晶颗粒聚集而成。     

VMD片的显影研究

VMD片是作者在研究偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物光解的基础上发展起来的的一种新的非银盐成像体系,它利用偏丙树脂光解过程中释放的氯化氢对铝膜的刻蚀作用,形成图像。本文报导了不同含氯量偏丙树脂和显影过程条件对VMD片灵敏度影响的研究,为建立最佳配方和最佳使用条件提供了可靠的依据。     

石墨烯片的制备与表征

通过微机械剥离高定向热解石墨(HOPG)法和化学气相沉积法(CVD)分别制备了不同层数的石墨烯片,并将其转移到硅片上.利用石墨烯片在不同厚度SiO2硅片上光学显微图像颜色及对比度存在的差异,对其层数进行了识别与区分.采用原子力显微镜(AFM)和拉曼(Raman)光谱判定了所制石墨烯片的层数.结果表明:所制石墨烯片有单层、少数层和多层.与双层石墨烯片的Raman谱图比较,多层石墨烯片的2D模线宽变宽,G模强度增大.此外,CVD法可生长出大面积(～cm2)的石墨烯片.     

二维片层材料用于构筑气体分离膜的研究进展

二维片层材料因其独特的片层结构、高比表面积和良好的机械性能等特性,在气体分离膜中得到了广泛关注。首先简单归纳了气体在无孔片层和多孔片层材料中的传递机理,之后重点讨论了用于气体分离的二维片层材料无机膜和高分子-无机杂化膜的研究现状。     

TC21钛合金热变形过程中片层α相动态球化行为研究

目的 定量分析不同热变形参数下片层α相的演化行为,探究不同热变形参数对TC21钛合金中片层α相动态球化行为的影响规律,并探讨片层α相在动态球化过程中的组织演变机理。方法 基于Thermecmastor-z热模拟试验机对TC21钛合金开展不同变形参数的热压缩试验,结合SEM-EBSD材料表征技术进行显微组织的表征。结果 随着温度从890℃升高至950℃,片层α相的平均厚度从0.65μm先增大至0.72μm后减小至0.16μm;在高温、低应变速率的条件下,片层α相球化百分数约为59%,而在低温、高应变速率条件下,片层α相球化百分数降至约26%;随着应变速率由0.001 s^-1升至1 s^-1,片层α相球化百分数的增量由10%减少至不足2%。结论 温度的高低主导了片层α相尺寸的变化趋势;变形温度的升高及应变速率的降低加速了片层α相的球化进程,而应变速率为主要影响因素;在α+β两相区变形过程中,LAGBs常形成于片层α相内部位错塞积程度较高的区域,并以此作为发生动态球化的界面。随着动态球化百分数的增大,α相中LAGBs的体积分数减小,而HAGBs的体积...     

激冷快速凝固Al-Cu共晶合金的层片失稳研究

目的 研究热处理条件下共晶层片组织的失稳机制,通过理论建模定量阐明控制层片失稳的关键因素。方法 以Al-Cu共晶合金为研究对象,采用铜模激冷的方法使合金发生激冷快速凝固,获得2个不同冷却速率下的细化共晶层片组织,进一步对所制备的样品进行不同温度及时间的退火处理。研究了退火条件下层片组织的失稳行为,进一步建立了层片失稳的理论解析模型,并基于模型,阐明了热处理条件下共晶层片失稳的机制。结果 凝固冷速为63 K/s和28 K/s的2个样品层片组织均发生了失稳,且在相同退火温度下,冷速为63 K/s的样品(初始共晶层片更细小)更易发生失稳,当退火温度及时间相同时,冷速为63 K/s的样品层片失稳程度更高。结论 在退火条件下,受瑞利不稳定性的影响,共晶层片失稳遵循由层片组织转为棒状组织、棒状组织转变为粒状组织的演变规律;层片厚度和退火温度是层片粒化的主要影响因素。     

通过pH值调控的氧化石墨烯片层尺寸、表面化学和电化学性质(英文)

通过调节氧化石墨烯水溶胶的pH值,可以得到尺寸和表面化学性质可控的氧化石墨烯片层。由于氧化石墨烯片层上的羧基在酸性条件下质子化,而在碱性条件下部分被脱除,因此可以通过调控氧化石墨烯水溶胶的pH值对具有不同片层大小和官能团的氧化石墨烯进行筛选。研究发现,羧基的存在可提高氧化石墨烯的电化学活性,而且较大的片层也同样有利于电化学活性的提高。另外,氧化石墨烯对H2O2的检测具有较高的活性,因而在生物传感器上具有广阔的应用前景。     

片层状TiAl-Nb合金中γ/γ界面体系拉伸行为的原子模拟

全片层组织结构的TiAl基合金在发生塑性变形时，因具有多个可阻碍位错迁移的界面，增加了位错迁移所需要的应变能，从而使变形能力和强度强烈依赖于这种显微组织中的层状界面。本工作采用分子动力学方法研究了单轴拉伸载荷下具有γ/γ界面的TiAl-Nb合金的变形行为。从原子尺度上讨论了真孪晶(True-twin, TT)、旋转界面(Rotational boundary, RB)、伪孪晶(Pseudo-twin, PT)三种不同界面下，片层状TiAl-Nb合金的力学响应、位错演化和断裂机制；阐述了材料力学响应与微观缺陷演化之间的关系，表明含不同界面的TiAl-Nb合金力学性能具有显著的层状边界效应。通过观察位错与界面的交互作用发现位错与界面相遇后，三个界面及附近都会产生无序原子区；而RB/PT试样中无序原子区作为位错源会向另一片层发射位错，TT试样中的无序原子区不会作为位错源向另一片层发射位错。